TSMC 廠務季刊

2023.12, Vol.52 / 技術專文

文 | 蔡和生 | 曾杰玉 | 台南廠務七部 |

台積電新世代製程新增使用含鈷化學品及靶材，導致廢水鈷濃度提高，因鈷為國際癌症研究機構定義之致癌物，基於企業社會責任台積電以ICP-OES檢測偵測極限(2.3ppb)作為自主管理標準，本文主要呈現先進製程廠區含鈷廢水...

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2020.12, Vol.40 / 技術專文

文 | 蕭宇辰 | 新廠設計部 | 蘇俊豪 | 中科廠務五部 | 吳旻學 | 中科廠務二部 | 邱德欽 | 竹科廠務四部 |

為延續摩爾定律，導入低電阻金屬材料成為必然，半導體業並於先進製程10/7nm導入鈷作為應用，鈷具毒性，為國內放流水標準今年新增管制項目之一。目前製程鈷排放90%以樹脂及電鍍回收，剩餘10%為Co-CMP排放，暫以ACF+...

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2020.6, Vol.36 / 技術專文

文 | 謝文彬 | 中科廠務五部水處理二課 |

由於半導體先進製程演進，化學品使用成分複雜，產生製程廢水處理亦趨困難，其中，硫酸鈷廢水主要來源為ECP(Co)與CMP(Co)製程所產生，且先進半導體鈷金屬放流濃度要求為ng/L(ppb)等級，此為先進半導體製程首次面對...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文

文 | 蒙彥超 | 竹科廠務三部 |

鈷被大量應用於晶圓先進製程，而其產生之含鈷廢水造成的重金屬汙染對於環境有很大衝擊，需要一個妥善處理含鈷廢水方法，將處理後含鈷有害廢棄物轉換為有價的金屬資源回收，並減少避免處理過程中的衍生環境汙染風險。本篇研究以螯合...

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