Vol.48 / 技術專文
COD Reduction Strategy and Biological System Operation Management in Advanced Process Plants
先進製程廠區放流水COD削減策略及生物系統運轉管理
隨半導體先進製程發展,晶圓乾燥使用的IPA(Isopropyl alcohol)用量大幅增加(N5約為N7製程的1.5倍)。同時,WET製程中單槽式晶圓濕式清洗機台占比增多,此類型機台排水量大且易造成IPA與其他種...

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Vol.40 / 技術專文
Improvement and practice of wastewater biological treatment system operation
廢水生物處理系統運轉精進與實務
隨著半導體製程技術演進,製程機台使用的有機化學品用量大增,且單槽式晶圓濕式清洗機台數量增多,此型式機台排水有混排狀況,因此先進製程廠區面臨廢水排放化學需氧量(Chemical Oxygen Demand, COD)以及氨...

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Vol.27 / 技術專文
Effluent Reclamation-Optimization in Operation of Process Pilot
工業再生水研發─ 回收模廠運轉最佳化
再生水模廠(AOP Pilot)設備於2015年11月導入晶圓工廠排放廢水,成功克服原水高濃度TOC,然處理流程複雜及運轉成本較高;我們完成高難度的晶圓廠排放廢水,接著最終目標是處理南科放流水,從中找出流程簡化且兼...

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Vol.23 / 技術專文
Effluent Reclamation - Design and Operation of Advanced Oxidation Process Pilot
工業再生水研發 - 高級氧化法模廠的設計與運轉
再生水模廠(AOP Pilot)設備於2015年8月進廠安裝,11月施工完成後導入晶圓工廠排放廢水進行試車,2016年6月模廠進行168小時連續運轉測試。測試時原水TOC大於設計預估值80 ppm,達120-160...

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