TSMC 廠務季刊

2023.12, Vol.52 / 技術專文

文 | 謝宗成 | 台南廠務七部 | 游昇哲 | 廠務 |

氫氣地下管之應用為未來半導體產業之趨勢，為了能夠提升工廠運轉穩定度，除了參考中油地下管設計及高雄氣爆案例，另外委託第三方社團法人進行地下管完整性評估並執行相關削減措施。為了提升工廠品質，制定氫氣不純物濃度標準及工廠...

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2022.9, Vol.47 / 技術專文

文 | 張景隆 | 楓祥儀 | 楊竣凱 | 台中廠務一部 |

N28 EPI製程會排放高濃度的氫氣至LSC進行處理，但隨著LSC元件逐漸老化導致LSC前段水洗氫氣洩漏風險上升。本文針對F15A廠內三個氫氣洩漏的虛驚案例，發現原因為機台設計、元件老化及既有保養方法不足，並以此朝...

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2018.12, Vol.32 / 技術專文

文 | 曾威霖 | 十二廠工安環保一部 |

超紫外光(EUV)為半導體製程持續微縮並延續摩爾定律(Moore's law)的新世代微影技術，亦是台積公司能持續保持先進製程技術領先的關鍵設備，EUV造價昂貴且使用大量具極度易燃特性的氫氣(Hydroge...

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2015.6, Vol.18 / 新象新知

文 | 巫幸峰 | 新廠設計部 | 劉俊男 | 新廠設計部 |

在飛速發展的科技下，現有石化能源的耗竭及所產生的污染已為人類不得不面對的問題。氫因具有乾淨、永續供應及高能量密度三大特質，使其成為目前最有發展潛力的替代能源。對半導體產業而言，氫氣也是一種相當重要的生產原料，隨著製...

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