TSMC 廠務季刊

2018.6, Vol.30 / 技術專文

Tool Exhaust HEPA Retrofit in Particulate Matter Reduction

高效濾網於機台排氣粒狀物減量之運用

文 | 陳昭文 | 中科廠務三部 | 吳曜安 | 新廠工程管理部 |

近年來PM2.5超過空氣品質標準，環保署公告2018年7月1日起將針對固定污染源的懸浮微粒、細懸浮微粒等粒狀污染物開徵空氣污染防制費，因應粒狀污染物減量趨勢，各廠需積極進行白煙粒狀物改善。目前先進製程的粒狀污染物排...

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2017.9, Vol.27 / 技術專文

Strict Defense – The Optimum Operation Defense of Ammonia Nitrogen System Membrane Degasifier

禦敵從嚴─氨氮系統脫氣膜最佳運轉防禦

文 | 楊政儒 | 陳建助 | 竹科廠務三部 |

半導體製程中會產生高濃度氨氮廢水，廠內以脫氣膜資源最佳化方式去除水中氨氮，脫氣膜法於膜管內通以硫酸，膜管外通以氨氮廢水，藉由質傳效應使硫酸吸收廢水中氨氣，形成硫酸銨副產物。此方法除了可消耗廠內製程行為產生之大量廢硫...

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2017.6, Vol.26 / 技術專文

Application of Exhaust Shunting Retrofit in Particulate Matter Reduction

排氣分流改造應用於粒狀物減量

文 | 吳怡君 | 中科廠務一部 |

PM2.5空氣污染與健康危害之議題開始受到重視，近年來PM2.5超過空氣品質標準，環保署公告2017年1月1日起各縣市列為三級空氣污染防制區，面對未來將進行總量管制及排放物種削減之趨勢，各廠需進行白煙粒狀物改善。目...

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2016.9, Vol.23 / 技術專文

Withdraw Copper from Waste Copper Sulfate-Application of Annular Cylindrical Electrochemical Cells

液中求銅－製程廢硫酸銅回收裝置應用

文 | 連翊鈞 | 竹科廠務一部 |

硫酸銅（CuSO4）為LSI銅製程之重要原料之一，其製程（ECP）廢液濃度可達20 g/L以上，極具回收價值。現行因放流水質限制（竹科放流水銅檢出量需小於1ppm），本公司高濃度廢硫酸銅均採委...

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2014.6, Vol.14 / 技術專文

New Technology for Ammonia Recycling from Wastewater

創新氨氮廢水資源化

文 | 李玫 | 新廠設計部 | 傅正貴 | 十四廠七期專案 | 王俊元 | 十四B廠廠務一部 |

半導體事業所排放的廢水常含有高濃度的氨氮與雙氧水，具有高污染濃度、高生物毒性等特性，依新制之放流水標準，對於氨氮廢水的處理是刻不容緩的。本文介紹以脫氣膜(MD)的處理方式，將廢水中的氨氮轉換為硫酸銨廢液，企圖將廢水...

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金筆獎入圍

2012.7, Vol.07 / 特別企劃

Recycling of Alkaline Wastewater from Semiconductor Plant

半導體廠鹼性廢水的回收與資源再利用技術

文 | 丁瑞華 | 新廠營建部 | 陳國益 | 兆聯實業股份有限公司 |

含氨 (Ammonia) 的鹼性廢水是半導體廠棘手的問題，因為水中除了氨外，往往還伴隨著高濃度的雙氧水。以回收的方式來濃縮廢水中的氨，並導入脫氣膜 (Membrane Degasifier) 與硫酸反應生成硫酸氨。...

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