TSMC 廠務季刊

2022.3, Vol.45 / 技術專文

Hollow Fiber-based TOC Filter

中空纖維TOC濾網 - AMC濾網設備化的新紀元

文 | 曹志明 | 廠務技術發展部 |

針對先進製程區域MAU出口端異丙醇/丙酮極低濃度的規範要求，既有活性碳(Active Carbon)型濾網對異丙醇(Isopropyl Alcohol, IPA)以及丙酮(Acetone)去除效率差且握持量不足，極短的時...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文

Zero Contamination Supply Roadmap of AMC

AMC潔淨空氣展望

文 | 葉彥甫 | 新廠設計部 |

隨著半導體製程製程的演進，AMC(Airborne Molecular Contamination)對於製程的良率越來越重要，現行存在於MC中的低分子量汙染物(IPA/Acetone)為目前台積電半導體製程的良率瓶頸，為...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文

The Conception of AMC Pollution Real–time monitor management

AMC污染源即時顯示概念總覽

文 | 劉宜鑫 | 陳彥佑 | 竹科廠務二部 |

隨著半導體技術越來越精細微小，對於環境中微量氣態分子污染物(Airborne Molecular Contaminants, AMC)防治問題也越來越受到重視。在AMC防治上，可分為三方向進行 : 污染源監測控制、污染源...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文

Visual Management for AMC Concentration Map

AMC濃度分布圖之視覺化管理

文 | 蔡廷亞 | 竹科廠務三部 | 邱保仁 | 廠務處 |

半導體製程之快速演進，氣態分子污染物(Airborne Molecular Contamination, AMC) 對於半導體廠的製程良率具有顯著影響，普遍於機台清潔與晶圓清洗製程或自廠排放及外氣蓄積進入FAB，造成環境...

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2020.8, Vol.38 / 技術專文

Implementation of Total Quality Management by Automation Technology

以自動化科技落實全面品質管理

文 | 陳浚瑋 | 南科智能廠務管理課 | 周啟昭 | 南科廠務六部 | 吳柏葳 | 南科智能廠務管理課 |

半導體製造要維持競爭優勢，品質的良寙扮演重要的角色，尤其目前智能駕駛輔助系統漸漸成為未來車輛標準配備，車用晶片的可靠度更是攸關使用人員的性命安全，需藉由全面品質管理(Total Quality Management, T...

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2014.9, Vol.15 / 技術專文

Airborne Molecular Contamination Monitoring Technology for New Fab Cleanroom Construction

新建廠潔淨室氣態分子汙染監控技術之應用實務

文 | 黃裕欣 | 李建國 | 蘇鈺洲 | 十四廠七期新建工程專案 |

本文以建廠期間極具代表性的黃光區為例，說明兩項主要污染物氨(NH3)和總有機碳(TOC)，如何應用監控儀器配合各種空氣分子汙染(Airborne molecular contamination, AMC)之去除設備...

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