TSMC 廠務季刊

2020.9, Vol.39 / 技術專文

AMC Improvement Using CFD Analysis in CUP Area

從空污及煙流模擬改善運轉廠區AMC微污染

文 | 林志穎 | 古義榔 | 竹科廠務四部 |

半導體廠房因土地空間的限制將煙囪設計於廠房的屋頂，當煙囪與外氣空調箱進氣口設計不良時導致污染物被MAU吸入至廠房內，形成AMC微污染。本文研究減少MAU進氣口受到污染物的影響，首先利用IC放樣得知冬天(東北季風)時進氣口...

按讚

0

點閱 (30)

2017.12, Vol.28 / 技術專文

Fab & HPM Area Construction Procedure and Management

廠房無塵室與危害性物質放置樓層之工序與施工管理

文 | 徐偉翔 | 新廠工程管理部 | 陳修皓 | 新廠工程管理部 | 張允泰 | 新廠工程管理部 | 王毅挺 | 新廠工程管理部 |

晶圓廠廠房之新建工程中，包含了土建結構、內裝、無塵室、機械、電力、監控、裝修、氣體、化學、純水、廢水等數十項工程，廠房內的管線分佈綿密、工項繁瑣且複雜。若沒有有效的管理方法，就會造成不同系統間的管路干涉、與施作空間...

按讚

0

點閱 (44)

2016.6, Vol.22 / 技術專文

The Dynamic Energy Saving MAU

動態節能外氣空調箱

文 | 陳廷宇 | 徐家紹 | 葉俊賢 | 竹科廠務三部 |

公司在廠房設計階段，就已經將綠建築納入設計發包範圍內，接著就該思考如何將智慧化措施也納入設計中。在針對無塵室空調系統各單元深入解析後，將實際運轉經驗知識化，並透過監控系統自動化，導入了智能系統即完成了標準化的動態節...

按讚

0

點閱 (52)

2015.6, Vol.18 / 技術專文

Application of Photoionization Detector for Real-time AMC Monitoring in Cleanroom

光離子化偵測器在潔淨室內空氣分子污染物即時監控的應用

文 | 陳駿華 | 新廠設計部 | 賴盈宏 | 新廠設計部 | 莊青龍 | 沃亞科技股份有限公司 |

已有證據顯示空氣分子污染物(AMC)對半導體廠的製程良率具有顯著影響，不少案例證實其對晶圓缺陷(Defect)的直接關聯，包含腐蝕、成形異常或電性異常等問題，因此部份大廠將AMC納入潔淨室環控因子；另外，隨著半導體...

按讚

0

點閱 (39)

金筆獎入圍

2014.6, Vol.14 / 技術專文

Influence of Cleanroom Ambient Humidity on the Formation of Nanoparticles

無塵室環境濕度對於奈米粒子污染生成的影響

文 | 郭啟文 | 廠務技術發展專案 |

Water condensation on wafer surfaces is highly related to the formation of nanometer size defect. In the ma...

按讚

0

點閱 (65)

2013.9, Vol.11 / 技術專文

Apply Progressive Placement Method to Cleanroom Ceiling Construction

無塵室天花板高低平台工法應用

文 | 張文龍 | 陳芳明 | 十五廠廠務二部 |

晶圓廠的興建作業中，土建鋼構及無塵室的建造為主體項目，而無塵室的迴風格子樑設計導致土建作業的難度增加，為了能夠縮短整體工期滿足安全的要求，承攬商將公共工程常見重型施工鷹架導入在十五廠三期與四期廠房的無塵室新建工程，...

按讚

0

點閱 (54)

文章分類

熱門關鍵詞