發表文章(8)

Vol.26 / 技術專文
New Challenges of Exhaust Reduction - EPI Dual ACP Exhaust Reduction Project
排氣減量新挑戰 - 雙磊晶反應室機台排氣
磊晶機台共分成Main Chamber和氣櫃(Gas Box)兩個箱體,彼此互通,每個箱體上方銜接6吋的排氣風管,調整前兩支風管總抽風量為1248CMH,另外還有兩個預潔淨反應室(SiCoNi),各接6吋的排氣風管...

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Vol.24 / 技術專文
Application of Mobile Air Quality Monitoring Vehicle
空氣品質監測車的應用
本文主要在說明空氣品質監測車(站)設置的緣由與目的,並說明空品車的配備及監測項目,未來可透過即時監測了解周界環境的空氣品質變化,並與臨近環保署測站比較,分析周界環境是否受工廠影響。空品監測車已於今年6月份打造完成,...

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Vol.22 / 新象新知
New Design of VOCs Abatement System : Regenerative Thermal Oxidizer and Rotary Recuperative Thermal Oxidizer
揮發性有機物削減設備節能新設計:蓄熱焚化爐與旋轉閥式蓄熱焚化爐
目前公司廠內所使用的有機廢氣處理,採用沸石濃縮後再以高熱進行焚化,並且利用熱回收,將燃燒後的廢熱透過熱交換提高燃燒前的廢氣溫度;而隨著節能的目標不斷提升,燃燒所消耗的燃料量也漸漸受到重視,以熱再生技術取代熱回收技術...

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Vol.19 / 技術專文
Multi-Function Wet Scrubber Design Development and Application
酸鹼通吃 - 一機多用型濕式洗滌塔設計開發與應用
隨著半導體精密製程快速演進,機台製程排氣酸鹼分流亦越來越困難而造成酸鹼混排處理不當,使產生排氣煙囪冒白煙的情況越來越容易發生。本文將針對各世代製程排氣處理對於洗滌塔設計的發展沿革進行探討說明,並以既設廠區設計搭配原...

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Vol.18 / 技術專文
Application of Photoionization Detector for Real-time AMC Monitoring in Cleanroom
光離子化偵測器在潔淨室內空氣分子污染物即時監控的應用
已有證據顯示空氣分子污染物(AMC)對半導體廠的製程良率具有顯著影響,不少案例證實其對晶圓缺陷(Defect)的直接關聯,包含腐蝕、成形異常或電性異常等問題,因此部份大廠將AMC納入潔淨室環控因子;另外,隨著半導體...

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金筆獎入圍
Vol.14 / 技術專文
Simulation of Stack Emission and the Impact on Cleanroom Intake Air
以計算流體力學模擬煙囪對外氣空調箱進氣品質的影響
本研究採用有限體積法,透過計算流體力學(CFD)軟體 – Ansys-FLUENT進行相關分析,以一新建廠房相關數據進行模型的建立,同時將鄰近廠區相關數據納入評估,針對該廠區在不同季節條件下,污染物(總...

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Vol.08 / 技術專文
Influence of Intake Air Quality on Different Stack Design
煙囪對外氣空調箱進氣品質的影響與設計
半導體廠房的建築物大多以平屋頂、大面積的設計為主,且製程廢氣的排放管道和進氣口也常因土地空間的限制而設置於廠房的屋頂。因此,新鮮空氣經由外氣進氣口導入到製程區和辦公區時,屋頂煙囪所排放之空氣污染物可能因煙囪高度不足...

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Vol.06 / 特別企劃
Green Concept of Wet Scrubber Design Development in tsmc
綠色思維下的濕式洗滌塔設計沿革
面臨製程機台排氣量不斷增加、成分越來越複雜的挑戰下,我們必須對空氣污染防制設備進行改善。本文將針對台積電各十二吋廠洗滌塔的發展趨勢及所面臨之困境進行探討,以既設廠設計搭配學理說明,分析不同的設計因子對處理效率的影響...

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