Vol.51 / 技術專文
VOC introduces new technology and moves towards net zero emission of air pollution
VOC導入新技術_邁向空污淨零排放
沸石轉輪濃縮系統作為台機廠區的主要揮發性有機物(VOCs)防制設備,其中其吸附能力為處理效率之關鍵,然而高沸點VOCs會因脫附溫度不足進而隨時間殘留於沸石轉輪中,大部分廠區透過提升脫附溫度來改善此一現象,卻忽略材料...

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Vol.26 / 技術專文
Improvement of White Smoke and H2SO4 Particle from Stack
煙囪白煙及硫酸微粒防制改善
南科十四廠五期於2012年5月開始投入量產,隨著新製程開發也衍生出前所未見的問題與挑戰,其中以濕式蝕刻製程因酸鹼混排延伸出煙道排放白煙以及硫酸微粒等問題最為困擾,既有的廢氣濕式洗滌塔與水渦流機已無法妥善處理白煙以及...

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Vol.26 / 技術專文
Application of Exhaust Shunting Retrofit in Particulate Matter Reduction
排氣分流改造應用於粒狀物減量
PM2.5空氣污染與健康危害之議題開始受到重視,近年來PM2.5超過空氣品質標準,環保署公告2017年1月1日起各縣市列為三級空氣污染防制區,面對未來將進行總量管制及排放物種削減之趨勢,各廠需進行白煙粒狀物改善。目...

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Vol.26 / 技術專文
Air Pollution Control Strategy for Next Generation Fab
新世代廠房的空氣汙染防制
台積公司最新世代的晶圓廠房座落於中科擴建區,為因應日益嚴峻的環保法規及民眾對環境品質要求提升的期望,新廠在空氣汙染防治部分,導入最先進的技術與設備,包括:中央洗滌塔水力薄膜、排放源導入現址型洗滌塔、水霧系統及HEP...

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Vol.26 / 技術專文
High Boiling VOCs Treatment Techniques for Advanced Process of Semiconductor Plant
先進製程之高沸點揮發性有機物處理技術應用
半導體製程中,最主要的揮發性有機化合物汙染物包含乙醇、異丙醇、丙酮、丁酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、單乙醇胺、雙三甲基矽胺,當中組成後沸點成分高過於150℃的汙染物可稱為高沸點揮發性有機化合物,其對半導體業常用的汙染處理...

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Vol.26 / 技術專文
Central Scrubber Improvement Approaches
濕式洗滌塔宿疾改善對策
本文主要探討因應半導體廠氣體特性,將既有廠內排氣中酸鹼處理設備-中央洗滌塔進行改善,嘗試以新思維改善半導體廠排氣中矽微粒堵塞拉西環、菌類生長及因污泥堆積底部而須進行冗長保養程序之中央洗滌塔宿疾,並針對未攔截水量、塔...

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