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2015.6, Vol.18 / 技術專文
Ultrapure Water Inspection Method for 10 nm
利用掃描式電子顯微鏡之超純水中的10奈米微粒子檢測技術
文 | 呂佩真 | 新廠設計部 | 趙樹華 | 新廠設計部 | 市原史貴 | 奧璐佳瑙科技股份有限公司 |
近年，隨著半導體裝置/元件(Device)的高度積體化，促使製造技術的細微加工化發展，線寬變得越來越狹窄。半導體製造領域的超純水，必須提供高純度的水質，特別是直接影響良率的微粒子(Particle)，其粒徑與濃度都...

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2015.6, Vol.18 / 技術專文
LPC(Large Particle Count) Control
STI 化學機械研磨液之微粒子數量控制
文 | 江宜蓁 | 陳怡蒼 | 曾誌江 | 新廠設計部 |
隨著半導體製程緊湊步伐的演進，化學機械研磨(Chemical-Mechanical Planarization, CMP)，將面臨許多技術瓶頸，刮傷缺陷(scratch defect)即為一例，本文將介紹如何在化學...

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2013.6, Vol.10 / 技術專文
Nanoparticle Contaminants Measuring and Source Tracking Syst
奈米粒子捕捉技術介紹
文 | 郭啟文 | 廠務技術發展專案 |
A new nanoparticle detecting and tracking system has been proposed to measure nanoparticle contamination an...

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