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2022.9, Vol.47 / 技術專文
AI application-AMC prediction by machine learning and pollution source analysis
應用AI-AMC機械學習預測與污染來源分析
文 | 莊鎧瑋 | Arizona Facility |
因應市場的需求，半導體製程技術演進快速，電晶體30年內已縮小了1000倍，到了五奈米的技術，而隨著規格及產線環境要求的提升，氣態分子微汙染(airborne molecular contamination, AMC...

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2022.3, Vol.45 / 技術專文
Hollow Fiber-based TOC Filter
中空纖維TOC濾網 - AMC濾網設備化的新紀元
文 | 曹志明 | 廠務技術發展部 |
針對先進製程區域MAU出口端異丙醇/丙酮極低濃度的規範要求，既有活性碳(Active Carbon)型濾網對異丙醇(Isopropyl Alcohol, IPA)以及丙酮(Acetone)去除效率差且握持量不足，極短的時...

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2015.6, Vol.18 / 技術專文
Purge FOUP AMC Chelating with Chilling Impinger Sampling Technique for N16 Generation
16奈米世代晶圓傳送盒吹淨微污染耦合冷凝取樣新式技術
文 | 郭啟文 | 廠務技術發展部 |
16奈米與20奈米之量產製程，廣泛應用具吹淨功能的晶圓傳送盒 FOUP(Front Opening Unified Pod)內。然因FOUP內可供採集的容積限制與其內含之污染濃度極其微量，故甚難就晶圓於FOUP內部...

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2015.6, Vol.18 / 技術專文
Application of Photoionization Detector for Real-time AMC Monitoring in Cleanroom
光離子化偵測器在潔淨室內空氣分子污染物即時監控的應用
文 | 陳駿華 | 新廠設計部 | 賴盈宏 | 新廠設計部 | 莊青龍 | 沃亞科技股份有限公司 |
已有證據顯示空氣分子污染物(AMC)對半導體廠的製程良率具有顯著影響，不少案例證實其對晶圓缺陷(Defect)的直接關聯，包含腐蝕、成形異常或電性異常等問題，因此部份大廠將AMC納入潔淨室環控因子；另外，隨著半導體...

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2014.9, Vol.15 / 技術專文
Airborne Molecular Contamination Monitoring Technology for New Fab Cleanroom Construction
新建廠潔淨室氣態分子汙染監控技術之應用實務
文 | 黃裕欣 | 李建國 | 蘇鈺洲 | 十四廠七期新建工程專案 |
本文以建廠期間極具代表性的黃光區為例，說明兩項主要污染物氨(NH3)和總有機碳(TOC)，如何應用監控儀器配合各種空氣分子汙染(Airborne molecular contamination, AMC)之去除設備...

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