Vol.47 / 技術專文
AI application-AMC prediction by machine learning and pollution source analysis
應用AI-AMC機械學習預測與污染來源分析
因應市場的需求,半導體製程技術演進快速,電晶體30年內已縮小了1000倍,到了五奈米的技術,而隨著規格及產線環境要求的提升,氣態分子微汙染(airborne molecular contamination, AMC...

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Vol.28 / 技術專文
Fab & HPM Area Construction Procedure and Management
廠房無塵室與危害性物質放置樓層之工序與施工管理
晶圓廠廠房之新建工程中,包含了土建結構、內裝、無塵室、機械、電力、監控、裝修、氣體、化學、純水、廢水等數十項工程,廠房內的管線分佈綿密、工項繁瑣且複雜。若沒有有效的管理方法,就會造成不同系統間的管路干涉、與施作空間...

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Vol.22 / 技術專文
The Dynamic Energy Saving MAU
動態節能外氣空調箱
公司在廠房設計階段,就已經將綠建築納入設計發包範圍內,接著就該思考如何將智慧化措施也納入設計中。在針對無塵室空調系統各單元深入解析後,將實際運轉經驗知識化,並透過監控系統自動化,導入了智能系統即完成了標準化的動態節...

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Vol.18 / 技術專文
Application of Photoionization Detector for Real-time AMC Monitoring in Cleanroom
光離子化偵測器在潔淨室內空氣分子污染物即時監控的應用
已有證據顯示空氣分子污染物(AMC)對半導體廠的製程良率具有顯著影響,不少案例證實其對晶圓缺陷(Defect)的直接關聯,包含腐蝕、成形異常或電性異常等問題,因此部份大廠將AMC納入潔淨室環控因子;另外,隨著半導體...

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Vol.15 / 技術專文
Airborne Molecular Contamination Monitoring Technology for New Fab Cleanroom Construction
新建廠潔淨室氣態分子汙染監控技術之應用實務
本文以建廠期間極具代表性的黃光區為例,說明兩項主要污染物氨(NH3)和總有機碳(TOC),如何應用監控儀器配合各種空氣分子汙染(Airborne molecular contamination, AMC)之去除設備...

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金筆獎入圍
Vol.14 / 技術專文
Simulation of Stack Emission and the Impact on Cleanroom Intake Air
以計算流體力學模擬煙囪對外氣空調箱進氣品質的影響
本研究採用有限體積法,透過計算流體力學(CFD)軟體 – Ansys-FLUENT進行相關分析,以一新建廠房相關數據進行模型的建立,同時將鄰近廠區相關數據納入評估,針對該廠區在不同季節條件下,污染物(總...

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Vol.10 / 技術專文
Performance-based Design of Smoke Removal in Cleanroom
無塵室性能式煙控設計
無塵室內性能式煙控設計,係整合環境特性、氣流控制系統與排煙系統而成的煙控系統;以高程差環境建構出蓄煙井,調節氣流建構壓差環境,再配合終端之排煙設備將煙塵排至室外,達到煙控目的。性能式煙控經過驗證後,即可突破消防規章...

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Vol.04 / 技術專文
FFU Installation Procedure for New Fab Construction
新建廠FFU安裝程序之改善研究
針對新建廠之cleanroom 的 FFU+ULPA 之安裝施工方法,思考其改善方案;對施工承包商各種 extra cost 影響最少,但是卻能夠獲得最大改善效益,以此作為出發點;並基於設備之詳細尺寸、施工環境特性...

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