TSMC 廠務季刊

2023.09, Vol.51 / 技術專文

Improvement Strategy and Implementation Effect of Mixed Air Emission in RD Fab

RD廠區空污混排改善策略與執行成效

文 | 林裕愷 | 新竹廠務五部 | 黃友元 | 新竹廠務五部 |

RD Fab 先進製程研發致使製程不斷變化，2020 new chemical申請數較前幾年上升71%(全年120件)，依F12B實驗運轉經驗制訂從源頭、現址式洗滌塔(Local Scrubber)至中央處理設備(...

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2023.09, Vol.51 / 技術專文

VOC introduces new technology and moves towards net zero emission of air pollution

VOC導入新技術_邁向空污淨零排放

文 | 洪鈺葳 | 台中廠務一部 | 蔡景安 | 台中廠務一部 |

沸石轉輪濃縮系統作為台機廠區的主要揮發性有機物（VOCs）防制設備，其中其吸附能力為處理效率之關鍵，然而高沸點VOCs會因脫附溫度不足進而隨時間殘留於沸石轉輪中，大部分廠區透過提升脫附溫度來改善此一現象，卻忽略材料...

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2022.9, Vol.47 / 技術專文

RD Fab Outside Air AMC Improvement-Analyzation and Verification of Optimizing Operating Parameters of Zeolite Rotor Concentrator

RD Fab外氣AMC改善-沸石濃縮轉輪運轉參數最佳化之分析與驗證

文 | 陳建豪 | 新竹廠務四部 | 詹資盛 | 新竹廠務六部 | 張貴琳 | 新竹廠務四部 |

隨著半導體製程的演進，氣態分子汙染物(Airborne Molecular Contamination, AMC)對於半導體製程良率的影響愈來愈顯著，並有許多案例證實其中的低分子量汙染物IPA對於B.S.(Barrier...

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2019.9, Vol.35 / 技術專文

Improvement of Removal Efficiency Using Reverse-direction Desorption in Zeolite Rotor

高溫逆脫附技術改善沸石濃縮轉輪去除效率

文 | 何大弘 | 竹科廠務一部 | 姚文淙 | 竹科廠務一部 | 謝振友 | 中科廠務三部 |

現今台積廠區均使用沸石轉輪濃縮系統作為主要揮發性有機物（VOCs）防制設備，其中沸石轉輪之吸附能力為處理效率之關鍵。而沸石轉輪藉由高溫脫附以及定期水洗兩種方式維持吸附能力。然而在長期使用後，沸石轉輪會因脫附溫度不均...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文

The Challenge of Semiconductor VOCs Exhaust Treatment System & Innovation of High Removal Efficiency

半導體業揮發性有機物高效率尾氣處理系統的設計挑戰與創新

文 | 楊詠翔 | 新廠工程管理部 |

由於半導體製造技術日趨複雜、環保意識抬頭，讓空污排放的議題成為輿論關注的焦點。目前公司所採用的沸石轉輪搭配焚化系統已具備可接受的處理效率及高可靠度之特點，也是目前業界主要的VOCs 處理技術。在面對空污排放的要求越...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文

The Application of High-temperature Desorption for Honeycomb Zeolite Concentrator Treatment System in Semiconductor Fab Facility Systems

高溫脫附法應用於沸石轉輪處理效率改善之探討與驗證

文 | 陳仲祥 | 陳元昊 | 南科廠務一部 |

為了使揮發性有機物(VOC)處理設備保持良好的去除效率，例行保養(PM)是不可或缺的。然而，有些高沸點VOC是無法透過沸石轉輪清洗被清除，甚至隨著時間會有殘留於沸石轉輪的現象，迫使去除效率漸漸衰減至91%。因此，本...

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2017.6, Vol.26 / 技術專文

High Boiling VOCs Treatment Techniques for Advanced Process of Semiconductor Plant

先進製程之高沸點揮發性有機物處理技術應用

文 | 葉峮甫 | 竹科廠務一部 | 林哲冠 | 竹科廠務一部 | 周家祿 | 竹科廠務三部 |

半導體製程中，最主要的揮發性有機化合物汙染物包含乙醇、異丙醇、丙酮、丁酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、單乙醇胺、雙三甲基矽胺，當中組成後沸點成分高過於150℃的汙染物可稱為高沸點揮發性有機化合物，其對半導體業常用的汙染處理...

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