TSMC 廠務季刊

2022.3, Vol.45 / 技術專文

Hollow Fiber-based TOC Filter

中空纖維TOC濾網 - AMC濾網設備化的新紀元

文 | 曹志明 | 廠務技術發展部 |

針對先進製程區域MAU出口端異丙醇/丙酮極低濃度的規範要求，既有活性碳(Active Carbon)型濾網對異丙醇(Isopropyl Alcohol, IPA)以及丙酮(Acetone)去除效率差且握持量不足，極短的時...

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2021.12, Vol.44 / 技術專文

The defense and strategy against small molecule TOC in UPW system

純水小分子TOC的防禦與對策

文 | 楊昀瑍 | 台南廠務九部 | 傅正貴 | 台南廠務九部 |

隨著半導體製程的精進(N5→N3製程)，使用的超純水越趨純淨，其中總有機碳(TOC)過高將導致晶圓表面氧化及結晶缺陷，導致蝕刻不均、清洗效率不佳。各廠廠務超純水系統對TOC素有極高的去除效率(POU出口已...

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2020.12, Vol.40 / 新象新知

The Feasibility of Using UV254 to Replace TOC/COD Analyzer

水質監測以UV254取代TOC/COD分析儀可行性評估

文 | 張得威 | 王世民 | 竹科廠務五部 |

因應半導體製程日趨進步，傳統總有機碳(Total Organic Carbon, TOC)及化學需氧量(Chemical Oxygen Demand, COD)監測方式分析時間長，較難反映水質的快速變化，本文根據Beer...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文

Research on IPA Chemical Filter Efficiency Improvement

談異丙醇化學濾網使用效率提升之研究

文 | 林瑞昆 | 竹科廠務三部 |

異丙醇(IPA)對於電化學電鍍(ECP)製程之晶邊良率具有極大的影響，ECP區域IPA主要來源為外氣空調箱(MAU)引入，汙染源來自於本身或鄰近廠區煙囪排放(約佔70%)，其次為化學研磨製程(CMP)機台洩漏或蝕刻...

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2017.9, Vol.27 / 技術專文

Effluent Reclamation-Optimization in Operation of Process Pilot

工業再生水研發─ 回收模廠運轉最佳化

文 | 楊秉駪 | 南科廠務四部 | 萬棟勳 | 新廠設計部 |

再生水模廠(AOP Pilot)設備於2015年11月導入晶圓工廠排放廢水，成功克服原水高濃度TOC，然處理流程複雜及運轉成本較高；我們完成高難度的晶圓廠排放廢水，接著最終目標是處理南科放流水，從中找出流程簡化且兼...

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2016.9, Vol.23 / 技術專文

Study on New Type of UV in TOC Removal Capability and Operation Benefit in UPW System

新型紫外線裝置對超純水總有機碳去除效率探討及效益分析

文 | 楊文守 | 林京歐 | 南科廠務四部 |

近年來半導體技術不斷演進，元件線寬越來越精密，製程環境中微量污染物將影響產品良率，微量有機物之去除是穩定超純水水質、提升良率之關鍵。一般而言，UPW中有機物質常以總有機碳表示，而UV是UPW系統中去除TOC之關鍵角...

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2015.6, Vol.18 / 技術專文

Effluent Reclamation - Application of Advanced Oxidation Process

放流水再生利用 - 高級氧化法(AOP)的應用

文 | 萬棟勳 | 廠務技術發展部 |

放流水再生利用的關鍵技術是去除放流水中有機物，尤其是低分子量有機碳氮，使再生水水質達到相當於自來水水質低分子量有機物(含尿素)含量水準。高級氧化法(AOP)是種新的水處理方法，利用氫氧自由基(OH．)的強氧化力，...

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