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2022.9, Vol.47 / 技術專文
RD Fab Outside Air AMC Improvement-Analyzation and Verification of Optimizing Operating Parameters of Zeolite Rotor Concentrator
RD Fab外氣AMC改善-沸石濃縮轉輪運轉參數最佳化之分析與驗證
文 | 陳建豪 | 新竹廠務四部 | 詹資盛 | 新竹廠務六部 | 張貴琳 | 新竹廠務四部 |
隨著半導體製程的演進，氣態分子汙染物(Airborne Molecular Contamination, AMC)對於半導體製程良率的影響愈來愈顯著，並有許多案例證實其中的低分子量汙染物IPA對於B.S.(Barrier...

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點閱 (71)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Discussion on TOC Filter Recycling Technology　　　　　　　　　　　　
TOC濾網再生技術探討
文 | 鄭鑫 | 竹科廠務一部 |
半導體元件之微影技術的進展隨著製程特徵尺寸(feature size)的快速縮小使得製程環境污染的防治重點已由微粒轉移至氣態分子污染物(AMCs , Airborne Molecular Contaminations)上...

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點閱 (47)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Visual Management for AMC Concentration Map
AMC濃度分布圖之視覺化管理
文 | 蔡廷亞 | 竹科廠務三部 | 邱保仁 | 廠務處 |
半導體製程之快速演進，氣態分子污染物(Airborne Molecular Contamination, AMC) 對於半導體廠的製程良率具有顯著影響，普遍於機台清潔與晶圓清洗製程或自廠排放及外氣蓄積進入FAB，造成環境...

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點閱 (31)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
The crisis and exploration of air AMC in Nanjing
南京外氣AMC的危機與探究
文 | 屈悅 | 許焱欽 | 南京廠務一部 |
半導體工藝的精進，使得潔淨室對空氣的品質要求越來越高，小顆粒的懸浮分子污染物對製品的影響越來越大。南京台積電身處工業園區，AMC問題存在內憂外患的危機。因南京廠區為新建廠，廠區內部目前仍有大量的有機溶劑施工作業，以及有半...

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點閱 (25)
2012.4, Vol.06 / 特別企劃
AMC Source Identification by CFD Modeling in Cleanroom
潔淨室氣態分子污染物(AMC)污染源之預測方法
文 | 曹志明 | 新廠設計部 | 黃正吉 | 製造技術中心 | 周政隆 | 新廠設計部 |
一般潔淨室設計中對於汙染源的預測大多採取由已知點釋放汙染物(實驗或計算)，再觀察汙染源擴散的情況的方式來瞭解汙染物在潔淨室中的行為。但在真實運轉中的潔淨室，通常我們只能觀測到結果，而無法得悉汙染物由何處而來，若擬求...

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