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2022.12, Vol.48 / 技術專文
COD Reduction Strategy and Biological System Operation Management in Advanced Process Plants
先進製程廠區放流水COD削減策略及生物系統運轉管理
文 | 吳尚興 | 林俊龍 | 魏仲君 | 台南廠務七部 |
隨半導體先進製程發展，晶圓乾燥使用的IPA(Isopropyl alcohol)用量大幅增加(N5約為N7製程的1.5倍)。同時，WET製程中單槽式晶圓濕式清洗機台占比增多，此類型機台排水量大且易造成IPA與其他種...

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2021.12, Vol.44 / 技術專文
Decreasing COD concentration of effluent by increasing efficiency of Bio-System
實現綠色製造-增進生物系統處理效率達到放流COD減量
文 | 林佑勳 | 台中廠務四部 |
隨著半導體製程的精進，晶圓製程用於防倒線及除水痕異丙醇(IPA)的使用量逐漸上升，N7世代IPA使用量已為N16世代之6倍，在已可觸及的N2世代，IPA用量更可達N16之16倍。對於放流水中化學需氧量濃度，如何能低...

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2020.12, Vol.40 / 技術專文
Improvement and practice of wastewater biological treatment system operation
廢水生物處理系統運轉精進與實務
文 | 楊文守 | 新廠工程管理部 | 邊逢沂 | 南科廠務2廠務二部 |
隨著半導體製程技術演進，製程機台使用的有機化學品用量大增，且單槽式晶圓濕式清洗機台數量增多，此型式機台排水有混排狀況，因此先進製程廠區面臨廢水排放化學需氧量(Chemical Oxygen Demand, COD)以及氨...

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2020.12, Vol.40 / 新象新知
The Feasibility of Using UV254 to Replace TOC/COD Analyzer
水質監測以UV254取代TOC/COD分析儀可行性評估
文 | 張得威 | 王世民 | 竹科廠務五部 |
因應半導體製程日趨進步，傳統總有機碳(Total Organic Carbon, TOC)及化學需氧量(Chemical Oxygen Demand, COD)監測方式分析時間長，較難反映水質的快速變化，本文根據Beer...

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2020.6, Vol.36 / 技術專文
Discussion and Practice of COD Reduction in Wastewater
外排廢水化學需氧量減量方法探討與實務
文 | 吳世霖 | 南科廠務五部 |
隨著製程技術持續推進，許多新的製程機台以及化學品首次導入，我們發現新建廠區有放流水之 COD 值偏高問題。為解決這個問題，我們一方面進行廠內 COD 污染源之追查，透過源頭分析及查找，發現 IPA 為廢水中 COD 之貢...

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