Revelation of FN-DP001 Negative Developer for Facility Supply System
醋酸丁酯負顯影劑廠務供酸系統大解密
Advanced Chemical and Slurry Supply with Particle Control
先進半導體廠化學品供應系統及微粒子控制
本文將討論半導體廠化學品及化學研磨液供應系統微粒子控制的設計和改進的方向以及未來的晶圓廠化學品及化學研磨液供應系統新挑戰。其次，研究化學研磨液顆粒大小和穩定性，以管理研磨液使用時間、減少缺陷，特別是大顆粒粒子（LP...
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Gas Yard Planning
氣體場設置規劃
對建廠而言，通常是優先規劃好生產工廠(FAB)、中央廠務工廠(CUP)及辦公大樓(Office Building)等建築物位置後，才開始著眼於氣體場選址，所以氣體場的規劃須在有限的場地選擇條件下做最佳化的利用。本文...
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i-ASC Air System Controller for Power Saving
節能指揮家 i-ASC
本文由離心式空氣壓縮機的工作程序切入主題，利用十二廠的實際運轉狀況針對耗電量大的廠務單元系統進行改良，藉由ASC (Air system controller )系統的導入讓空壓機生產穩定性與效率能夠提升 ; 另一...
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i-GET System (Intelligent-Gas Chemical Tracing)
氣體及化學原物料品質即時追蹤系統
隨著製程技術進入奈米世代，原物料對晶片良率的影響越來越重要，當有異常發生時，能夠迅速的找到問題所在，並採取必要的防護措施是非常關鍵的，i-GET (Intelligent - Gas Chemical Tracin...
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F12P5 Liquid Nitrogen Central Supply System
十二廠五期液態氮中央供應系統
RD在F12P4廠區開始導入GN2 supply under -185℃的系統，藉此低溫環境來降低物質活性，達成預期目標。機台所需的低溫環境，是藉由更低溫的物質(Liquide N2...
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Liquid Helium Supply System Implement Evaluation
液態氦氣供應系統導入TSMC評估
液態氦氣供應系統能兼顧品質、供應來源充足、節能省碳及降低工作Loading等多重功效，本文說明液態氦氣供應系統與氣態氦氣供應系統之差異並對建立長期穩定的氦氣供應系統提出分析，藉此整合採購、廠務風險管理及製程同仁們的...
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PHOTOCATALYTIC DEGRADATION OF GASEOUS TOLUENE IN AN ULTRASONIC MIST CONTAINING TiO2 PARTICLES
利用光觸媒對氣態甲苯在含有 TiO2 超音波微霧粒環境下降解之探討 - 不需消耗太多的能源
本研究將凝態的 TiO2 利用超音波原子化器轉換成微霧滴，在不同的條件下對氣態甲苯的光觸媒降解之研究，在 365nm 的 UV 光輻射下，甲苯在光觸媒 TiO2 微霧滴的...
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