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2020.6, Vol.36 / 新象新知
New Generation Particle Measurement Technique for Liquid Phase Chemical
新世代液相化學品微粒量測技術
文 | 劉俊男 | 中科廠務五部 |
本文介紹一套由公司和工研院共同合作開發液相化學品微粒量測系統，又稱超級微粒量測儀(SuperSizer, SS)。有別於一般市面上常見的液體微粒計術器(LPC)僅能測至20 nm的微粒，且僅能提供4至5道粒徑區間的測值，...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文
A Study of Ultrapure Water Nanoparticle Detection Technologies
談超純水 奈米顆粒偵測技術
文 | 林恩添 | 新廠設計部 |
對於液體中顆粒數量之檢測，現今大都以雷射散射法作為判斷依據，受限於光學繞射極限，要偵測到 20nm 以下之奈米顆粒有很高難度，特別是在液體中顆粒數量稀薄的狀況下，如超純水；同時，超純水的奈米顆粒潔淨度又與半導體製程...

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2015.6, Vol.18 / 技術專文
Ultrapure Water Inspection Method for 10 nm
利用掃描式電子顯微鏡之超純水中的10奈米微粒子檢測技術
文 | 呂佩真 | 新廠設計部 | 趙樹華 | 新廠設計部 | 市原史貴 | 奧璐佳瑙科技股份有限公司 |
近年，隨著半導體裝置/元件(Device)的高度積體化，促使製造技術的細微加工化發展，線寬變得越來越狹窄。半導體製造領域的超純水，必須提供高純度的水質，特別是直接影響良率的微粒子(Particle)，其粒徑與濃度都...

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2015.6, Vol.18 / 技術專文
LPC(Large Particle Count) Control
STI 化學機械研磨液之微粒子數量控制
文 | 江宜蓁 | 陳怡蒼 | 曾誌江 | 新廠設計部 |
隨著半導體製程緊湊步伐的演進，化學機械研磨(Chemical-Mechanical Planarization, CMP)，將面臨許多技術瓶頸，刮傷缺陷(scratch defect)即為一例，本文將介紹如何在化學...

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2012.10, Vol.08 / 技術專文
Performance Test for 40nm Liquide Particle Counter
40奈米液相微粒分析儀實測
文 | 洪舜立 | 專案管理部 |
在晶圓的生產過程中微粒(Particle)會造成品質瑕疵，甚至於報廢，因此如何量測與去除一直是個重要議題，本文針對量測液相流體微粒的新式40奈米微粒分析儀(Particle Counter)與現行主力65奈米分析儀...

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