TSMC 廠務季刊

2023.12, Vol.52 / 技術專文

Innovative management strategies for water systems in the new generation of manufacturing processes

新世代製程之水系統創新管理對策

文 | 郭中閔 | 台南廠務九部 | 劉家亨 | 台南廠務九部 | 鍾友維 | 台南廠務九部 | 李韋德 | 台南廠務九部 | 劉憲文 | 先進封裝廠務處 |

本文累積過往新成廠經驗，水處理系統在這些過程中遇過許多挫折但也因這些經驗，逐步強化水處理系統防禦機制，發展出一套管理方法，面對快速成廠的過程中，面臨系統尚未完成建置，需逐步與設備協調其純水與化學品洗淨的總量管制，在...

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2022.12, Vol.48 / 技術專文

Management Of Facility Water System Operation for Fast Ramping Up

因應新廠快速擴產下的水系統運轉管理心法

文 | 林志剛 | 台南廠務九部 |

近年新廠快速擴展，於2021年達到前所未見的高峰(F12P8, F18P4/P5, AP2C, AP06)，平均每90天完成一座FAB。因應裝機時程緊湊，整體工期需較以往縮減6~9個月，主要挑戰如下 : ①缺工缺料 : ...

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2022.12, Vol.48 / 技術專文

The Study of technology of Cleaning 2B3T Anion Resin of Ultrapure Water System

超純水系統之2B3T陰樹脂清洗技術探討

文 | 韓華楊 | 南京廠務部 |

超純水系統中TOC的濃度管控對於高品質供水至關重要。TSMC各廠區在更換2B3T弱陰樹脂過程中面對在樹脂上線初期高濃度TOC殘留的問題，均通過線上多次再生清洗的方式來洗淨新樹脂。本文介紹南京廠建制的線下樹脂清洗裝置...

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2021.12, Vol.44 / 技術專文

The defense and strategy against small molecule TOC in UPW system

純水小分子TOC的防禦與對策

文 | 楊昀瑍 | 台南廠務九部 | 傅正貴 | 台南廠務九部 |

隨著半導體製程的精進(N5→N3製程)，使用的超純水越趨純淨，其中總有機碳(TOC)過高將導致晶圓表面氧化及結晶缺陷，導致蝕刻不均、清洗效率不佳。各廠廠務超純水系統對TOC素有極高的去除效率(POU出口已...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文

No AMC Contamination–IPA/Acetone Concentration Improvement in CleanRoom

AMC零污染–無塵室異丙醇及丙酮濃度改善

文 | 楊尊中 | 陳民軒 | 中科廠務三部 |

從10奈米製程以降，清洗晶片的機台大量使用異丙醇、硫酸、雙氧水等化學品進行清洗，因其尾氣混排至酸性洗滌塔，未能有效處理的異丙醇及丙酮容易伴隨外氣進入無塵室。因現有處理有機物的化學濾網未能有效吸附這些小分子量的氣體，使無塵...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文

A Study of Ultrapure Water Nanoparticle Detection Technologies

談超純水奈米顆粒偵測技術

文 | 林恩添 | 新廠設計部 |

對於液體中顆粒數量之檢測，現今大都以雷射散射法作為判斷依據，受限於光學繞射極限，要偵測到 20nm 以下之奈米顆粒有很高難度，特別是在液體中顆粒數量稀薄的狀況下，如超純水；同時，超純水的奈米顆粒潔淨度又與半導體製程...

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2016.9, Vol.23 / 技術專文

Design and Experience Sharing for Acidic Waste Drain (O3) Reclaim to Ultrapure Water system

含臭氧酸鹼廢水回收至純水之設計與運轉分享

文 | 楊淵超 | 溫士賓 | 竹科廠務一部 |

含臭氧酸鹼廢水為含臭氧的機台排放廢水，其為擴散及蝕刻機台之臭氧產生器與純水混和用來清洗晶圓上的微量有機物。透過排水水質量測及用途追蹤，發現其水質特性為高氧化性、低導電度，總有機碳濃度可達純水回收標準。然而臭氧氧化性...

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2016.9, Vol.23 / 技術專文

Study on New Type of UV in TOC Removal Capability and Operation Benefit in UPW System

新型紫外線裝置對超純水總有機碳去除效率探討及效益分析

文 | 楊文守 | 林京歐 | 南科廠務四部 |

近年來半導體技術不斷演進，元件線寬越來越精密，製程環境中微量污染物將影響產品良率，微量有機物之去除是穩定超純水水質、提升良率之關鍵。一般而言，UPW中有機物質常以總有機碳表示，而UV是UPW系統中去除TOC之關鍵角...

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2013.6, Vol.10 / 技術專文

UPW Future Trend: Functional Water

機能水的應用

本文主要介紹目前及未來機台超純水可能使用的走向，機能水的應用及原理，機能水可增加去除效率及減少化學品的耗量，如O3 +DIW，去除有機物(取代SPM功能)，CO2+DIW，防止帶電，增加微粒子去除效率&hellip...

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