TSMC 廠務季刊

2023.12, Vol.52 / 技術專文

Innovative management strategies for water systems in the new generation of manufacturing processes

新世代製程之水系統創新管理對策

文 | 郭中閔 | 台南廠務九部 | 劉家亨 | 台南廠務九部 | 鍾友維 | 台南廠務九部 | 李韋德 | 台南廠務九部 | 劉憲文 | 先進封裝廠務處 |

本文累積過往新成廠經驗，水處理系統在這些過程中遇過許多挫折但也因這些經驗，逐步強化水處理系統防禦機制，發展出一套管理方法，面對快速成廠的過程中，面臨系統尚未完成建置，需逐步與設備協調其純水與化學品洗淨的總量管制，在...

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2022.12, Vol.48 / 技術專文

The Study of technology of Cleaning 2B3T Anion Resin of Ultrapure Water System

超純水系統之2B3T陰樹脂清洗技術探討

文 | 韓華楊 | 南京廠務部 |

超純水系統中TOC的濃度管控對於高品質供水至關重要。TSMC各廠區在更換2B3T弱陰樹脂過程中面對在樹脂上線初期高濃度TOC殘留的問題，均通過線上多次再生清洗的方式來洗淨新樹脂。本文介紹南京廠建制的線下樹脂清洗裝置...

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2021.12, Vol.44 / 技術專文

The defense and strategy against small molecule TOC in UPW system

純水小分子TOC的防禦與對策

文 | 楊昀瑍 | 台南廠務九部 | 傅正貴 | 台南廠務九部 |

隨著半導體製程的精進(N5→N3製程)，使用的超純水越趨純淨，其中總有機碳(TOC)過高將導致晶圓表面氧化及結晶缺陷，導致蝕刻不均、清洗效率不佳。各廠廠務超純水系統對TOC素有極高的去除效率(POU出口已...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文

A Study of Ultrapure Water Nanoparticle Detection Technologies

談超純水奈米顆粒偵測技術

文 | 林恩添 | 新廠設計部 |

對於液體中顆粒數量之檢測，現今大都以雷射散射法作為判斷依據，受限於光學繞射極限，要偵測到 20nm 以下之奈米顆粒有很高難度，特別是在液體中顆粒數量稀薄的狀況下，如超純水；同時，超純水的奈米顆粒潔淨度又與半導體製程...

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2016.9, Vol.23 / 技術專文

Study on New Type of UV in TOC Removal Capability and Operation Benefit in UPW System

新型紫外線裝置對超純水總有機碳去除效率探討及效益分析

文 | 楊文守 | 林京歐 | 南科廠務四部 |

近年來半導體技術不斷演進，元件線寬越來越精密，製程環境中微量污染物將影響產品良率，微量有機物之去除是穩定超純水水質、提升良率之關鍵。一般而言，UPW中有機物質常以總有機碳表示，而UV是UPW系統中去除TOC之關鍵角...

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2015.6, Vol.18 / 技術專文

Ultrapure Water Inspection Method for 10 nm

利用掃描式電子顯微鏡之超純水中的10奈米微粒子檢測技術

文 | 呂佩真 | 新廠設計部 | 趙樹華 | 新廠設計部 | 市原史貴 | 奧璐佳瑙科技股份有限公司 |

近年，隨著半導體裝置/元件(Device)的高度積體化，促使製造技術的細微加工化發展，線寬變得越來越狹窄。半導體製造領域的超純水，必須提供高純度的水質，特別是直接影響良率的微粒子(Particle)，其粒徑與濃度都...

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2013.6, Vol.10 / 技術專文

UPW Future Trend: Functional Water

機能水的應用

本文主要介紹目前及未來機台超純水可能使用的走向，機能水的應用及原理，機能水可增加去除效率及減少化學品的耗量，如O3 +DIW，去除有機物(取代SPM功能)，CO2+DIW，防止帶電，增加微粒子去除效率&hellip...

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