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2023.03, Vol.49 / 技術專文
The strategies and challenge of air pollutants and greenhouse gas in EIA development
環評開發案之空氣污染物與溫室氣體抵換執行策略與挑戰
文 | 劉芸汶 | 陳安菲 | 新廠規劃部 |
為減少園區開發對環境的影響，寶山以後興建的新廠均依環評意見承諾執行空氣污染及溫室氣體增量抵減。本文為綜整我國現行空污及溫室氣體增量抵減之法規及制度，並以寶山新廠實際執行情形為例，說明執行增量抵換所面臨的挑戰及因應對...

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2022.3, Vol.45 / 技術專文
Air pollution Improvement-As Emission Reduction Analysis
空污改善-煙道有害空氣污染物-砷及其化合物減量研究
文 | 楊映茹 | 台南廠務四部 | 鄭詠丞 | 亞太廠務處 |
因應環保署新增半導體煙道有害空氣汙染物排放限值，廠內離子植入使用之砷化氫經處理後產生之砷及其化合物屬於公告物種之一，公司除需符合法規也有責任降低砷及其化合物之排放量。

解析F14B歷年煙囪檢測砷...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文
The Challenge of Semiconductor VOCs Exhaust Treatment System & Innovation of High Removal Efficiency
半導體業揮發性有機物高效率尾氣處理系統的設計挑戰與創新
文 | 楊詠翔 | 新廠工程管理部 |
由於半導體製造技術日趨複雜、環保意識抬頭，讓空污排放的議題成為輿論關注的焦點。目前公司所採用的沸石轉輪搭配焚化系統已具備可接受的處理效率及高可靠度之特點，也是目前業界主要的VOCs 處理技術。在面對空污排放的要求越...

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點閱 (189)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
The Control Mechanism for Hazardous Air Pollutants
有害空氣污染物防制機制
文 | 林宗標 | 江維捷 | 林意雄 | 南科廠務一部 |
有害空氣污染物包括VOCs、多環芳香烴化合物、重金屬及戴奧辛等。有害空氣污染物污染來源繁雜，其中多數可經過接觸、呼吸等方式危害國民健康安全。職業安全衛生與動物實驗均顯示，有害空氣污染物對人類具有致癌性、致突變性與致...

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2017.6, Vol.26 / 技術專文
Improvement of White Smoke and H2SO4 Particle from Stack
煙囪白煙及硫酸微粒防制改善
文 | 洪民翰 | 南科廠務四部 | 鍾善昌 | 南科廠務一部 |
南科十四廠五期於2012年5月開始投入量產，隨著新製程開發也衍生出前所未見的問題與挑戰，其中以濕式蝕刻製程因酸鹼混排延伸出煙道排放白煙以及硫酸微粒等問題最為困擾，既有的廢氣濕式洗滌塔與水渦流機已無法妥善處理白煙以及...

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2017.6, Vol.26 / 技術專文
Application of Exhaust Shunting Retrofit in Particulate Matter Reduction
排氣分流改造應用於粒狀物減量
文 | 吳怡君 | 中科廠務一部 |
PM2.5空氣污染與健康危害之議題開始受到重視，近年來PM2.5超過空氣品質標準，環保署公告2017年1月1日起各縣市列為三級空氣污染防制區，面對未來將進行總量管制及排放物種削減之趨勢，各廠需進行白煙粒狀物改善。目...

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點閱 (87)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Air Pollution Control Strategy for Next Generation Fab
新世代廠房的空氣汙染防制
文 | 吳曜安 | 劉子銘 | 中科廠務三部 |
台積公司最新世代的晶圓廠房座落於中科擴建區，為因應日益嚴峻的環保法規及民眾對環境品質要求提升的期望，新廠在空氣汙染防治部分，導入最先進的技術與設備，包括：中央洗滌塔水力薄膜、排放源導入現址型洗滌塔、水霧系統及HEP...

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2017.6, Vol.26 / 技術專文
High Boiling VOCs Treatment Techniques for Advanced Process of Semiconductor Plant
先進製程之高沸點揮發性有機物處理技術應用
文 | 葉峮甫 | 竹科廠務一部 | 林哲冠 | 竹科廠務一部 | 周家祿 | 竹科廠務三部 |
半導體製程中，最主要的揮發性有機化合物汙染物包含乙醇、異丙醇、丙酮、丁酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、單乙醇胺、雙三甲基矽胺，當中組成後沸點成分高過於150℃的汙染物可稱為高沸點揮發性有機化合物，其對半導體業常用的汙染處理...

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2017.6, Vol.26 / 技術專文
Central Scrubber Improvement Approaches
濕式洗滌塔宿疾改善對策
文 | 錢立行 | 竹科廠務一部 |
本文主要探討因應半導體廠氣體特性，將既有廠內排氣中酸鹼處理設備-中央洗滌塔進行改善，嘗試以新思維改善半導體廠排氣中矽微粒堵塞拉西環、菌類生長及因污泥堆積底部而須進行冗長保養程序之中央洗滌塔宿疾，並針對未攔截水量、塔...

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2017.6, Vol.26 / 技術專文
On-line IC Monitor System for AAS Chimney
煙囪連續監測系統技術探討
文 | 吳博哲 | 中科廠務一部 | 吳曜安 | 中科廠務三部 |
本文主要說明煙囪連續監測採樣系統的建構緣由及目的，探討此系統與手動採樣方法的優缺點，並與檢測公司使用之標準手法做比較。初步結果顯示由連續監測結果可發現，無機酸及氨隨時間的進行有明顯的變動，可見本採樣系統能及時的反應...

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2017.6, Vol.26 / 新象新知
Air Pollution Issues and Challenges of High Tech Industry
空氣污染問題與高科技產業所面對的挑戰
文 | 蔡俊鴻 | 國立成功大學環境工程學系 |
空氣污染議題近年已成為臺灣社會關注之環境議題，引起民眾對健康與生活品質疑慮，亦造成社會經濟與產業發展之困擾。本文探討臺灣地區空氣品質變化特徵，介紹國內推動空氣污染防制策略沿革暨管制政策進展，亦針對科學工業園區排放空...

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