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2023.12, Vol.52 / 技術專文
Improving reclamation efficiency of Waste Piranha Solution
高濃廢硫酸再利用創新改良-廢硫酸稀釋法實務應用
文 | 林冠宇 | 新竹廠務八部 | 王建翔 | 新竹廠務八部 | 陳宜樂 | 先進封裝廠務一部 |
廢硫酸回收系統(Waste Sulfuric acid recycling system)有其運轉規範要求，針對新建廠初期即面臨廢硫酸濃度過高、雙氧水(Hydrogen peroxide)濃度過低之狀況，若採用現況...

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2023.12, Vol.52 / 技術專文
Challenges of Underground Hydrogen in the Semiconductor Industry
地下氫氣應用於半導體產業之挑戰
文 | 謝宗成 | 台南廠務七部 | 游昇哲 | 廠務 |
氫氣地下管之應用為未來半導體產業之趨勢，為了能夠提升工廠運轉穩定度，除了參考中油地下管設計及高雄氣爆案例，另外委託第三方社團法人進行地下管完整性評估並執行相關削減措施。為了提升工廠品質，制定氫氣不純物濃度標準及工廠...

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2022.12, Vol.48 / 技術專文
Source management and reduction of Wastewater Management Indicator "Acetone" in Advanced Process Plants
先進製程廠區污水納管指標「丙酮」之源頭管理與減量對策
文 | 林雋凱 | 新竹廠務六部 | 洪士超 | 新竹廠務六部 | 吳貴弘 | 新竹廠務四部 |
自2021年5月21日起科管局將放流丙酮列為管制項目(<5mg/L)，並將其劃分為三個級距徵收污水費，其中廠區因製程原料廢水中異丙醇(晶圓乾燥使用)與氧化劑(雙氧水居多，作為晶圓清洗使用)反應產生丙酮，導致放流水丙...

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2022.12, Vol.48 / 技術專文
COD Reduction Strategy and Biological System Operation Management in Advanced Process Plants
先進製程廠區放流水COD削減策略及生物系統運轉管理
文 | 吳尚興 | 林俊龍 | 魏仲君 | 台南廠務七部 |
隨半導體先進製程發展，晶圓乾燥使用的IPA(Isopropyl alcohol)用量大幅增加(N5約為N7製程的1.5倍)。同時，WET製程中單槽式晶圓濕式清洗機台占比增多，此類型機台排水量大且易造成IPA與其他種...

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2022.9, Vol.47 / 技術專文
The prevention of hydrogen leak from EPI LSC in N28 plant
虛驚不再來-N28 EPI LSC洩漏全面改善
文 | 張景隆 | 楓祥儀 | 楊竣凱 | 台中廠務一部 |
N28 EPI製程會排放高濃度的氫氣至LSC進行處理，但隨著LSC元件逐漸老化導致LSC前段水洗氫氣洩漏風險上升。本文針對F15A廠內三個氫氣洩漏的虛驚案例，發現原因為機台設計、元件老化及既有保養方法不足，並以此朝...

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2021.12, Vol.44 / 技術專文
Optimization Of Waste H2SO4 Decrease H2O2 System
廢硫酸去除雙氧水系統最佳化探討
文 | 曾治寰 | 郭中閔 | 劉柏青 | 台南廠務三部 |
本文以「最佳化探討」(Optimization)廢硫酸去除雙氧水系統，針對廢硫酸(W-H2SO4)去除雙氧水(H2O2)回收系...

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2018.12, Vol.32 / 技術專文
Safety Design for the System to Remove Hydrogen Peroxide from Waste Sulfuric Acid
廢硫酸去除雙氧水系統 安全防護提升
文 | 呂欣 | 十四B廠工安衛生部 | 劉明翰 | 十四B廠工安衛生部 | 唐祺夏 | 十八廠 | 劉柏青 | 南科廠務五部 | 蕭千城 | 南科廠務五部 | 吳厚萱 | 中科廠務五部 |
本文以危害與可操作性分析(HAZOP)及收集13個廠區運轉經驗，評估廢硫酸 (W-H2SO4) 去除雙氧水 (H2O2) 回收...

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2018.12, Vol.32 / 技術專文
Safety Management for EUV Tool
超紫外光機台 全方位安全管理
文 | 曾威霖 | 十二廠工安環保一部 |
超紫外光(EUV)為半導體製程持續微縮並延續摩爾定律(Moore's law)的新世代微影技術，亦是台積公司能持續保持先進製程技術領先的關鍵設備，EUV造價昂貴且使用大量具極度易燃特性的氫氣(Hydroge...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文
Application of Near Infrared in the Detection of Slurry
談近紅外線光譜於研磨液檢測之應用
文 | 許紹鵬 | 南科廠務二部 |
目前研磨液供應系統的線上雙氧水濃度儀使用氧化還原滴定分析法，單筆分析時間長，在運轉維護上需消耗人、物力且分析過程產生的廢液也會造成環境衝擊；此外，傳統研磨液品質分析量測項目，已無法滿足線上晶圓生產品質需求。本文研究...

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2015.6, Vol.18 / 新象新知
The Green Energy with the Highest Potential in the Future - Hydrog
未來最具發展潛力的綠色能源：氫
文 | 巫幸峰 | 新廠設計部 | 劉俊男 | 新廠設計部 |
在飛速發展的科技下，現有石化能源的耗竭及所產生的污染已為人類不得不面對的問題。氫因具有乾淨、永續供應及高能量密度三大特質，使其成為目前最有發展潛力的替代能源。對半導體產業而言，氫氣也是一種相當重要的生產原料，隨著製...

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2014.6, Vol.14 / 技術專文
New Technology for Ammonia Recycling from Wastewater
創新氨氮廢水資源化
文 | 李玫 | 新廠設計部 | 傅正貴 | 十四廠七期專案 | 王俊元 | 十四B廠廠務一部 |
半導體事業所排放的廢水常含有高濃度的氨氮與雙氧水，具有高污染濃度、高生物毒性等特性，依新制之放流水標準，對於氨氮廢水的處理是刻不容緩的。本文介紹以脫氣膜(MD)的處理方式，將廢水中的氨氮轉換為硫酸銨廢液，企圖將廢水...

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2014.6, Vol.14 / 新象新知
Inhibition Of Copper Corrosion By Removal Of H2O2 From CO2-Dissolved Water Using Palladium Catalysts
鈀(Pd)觸媒於超純水中去除雙氧水以抑制銅腐蝕之應用
文 | 林豪逸 | 新廠設計部 | 矢野大作 | 奧璐佳瑙科技股份有限公司 |
超純水系統因紫外光的照射會導致內含有10～40μg/L的雙氧水，另雙氧水處於超純水酸性環境中會加速銅腐蝕的行為。目前發現藉由鈀觸媒陰離子樹脂(Palladium-loaded monolithic anion...

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