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2017.6, Vol.26 / 技術專文
The Control Mechanism for Hazardous Air Pollutants
有害空氣污染物防制機制
文 | 林宗標 | 江維捷 | 林意雄 | 南科廠務一部 |
有害空氣污染物包括VOCs、多環芳香烴化合物、重金屬及戴奧辛等。有害空氣污染物污染來源繁雜，其中多數可經過接觸、呼吸等方式危害國民健康安全。職業安全衛生與動物實驗均顯示，有害空氣污染物對人類具有致癌性、致突變性與致...

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點閱 (119)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Improvement of White Smoke and H2SO4 Particle from Stack
煙囪白煙及硫酸微粒防制改善
文 | 洪民翰 | 南科廠務四部 | 鍾善昌 | 南科廠務一部 |
南科十四廠五期於2012年5月開始投入量產，隨著新製程開發也衍生出前所未見的問題與挑戰，其中以濕式蝕刻製程因酸鹼混排延伸出煙道排放白煙以及硫酸微粒等問題最為困擾，既有的廢氣濕式洗滌塔與水渦流機已無法妥善處理白煙以及...

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2017.6, Vol.26 / 技術專文
Application of Exhaust Shunting Retrofit in Particulate Matter Reduction
排氣分流改造應用於粒狀物減量
文 | 吳怡君 | 中科廠務一部 |
PM2.5空氣污染與健康危害之議題開始受到重視，近年來PM2.5超過空氣品質標準，環保署公告2017年1月1日起各縣市列為三級空氣污染防制區，面對未來將進行總量管制及排放物種削減之趨勢，各廠需進行白煙粒狀物改善。目...

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點閱 (87)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Air Pollution Control Strategy for Next Generation Fab
新世代廠房的空氣汙染防制
文 | 吳曜安 | 劉子銘 | 中科廠務三部 |
台積公司最新世代的晶圓廠房座落於中科擴建區，為因應日益嚴峻的環保法規及民眾對環境品質要求提升的期望，新廠在空氣汙染防治部分，導入最先進的技術與設備，包括：中央洗滌塔水力薄膜、排放源導入現址型洗滌塔、水霧系統及HEP...

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2017.6, Vol.26 / 技術專文
High Boiling VOCs Treatment Techniques for Advanced Process of Semiconductor Plant
先進製程之高沸點揮發性有機物處理技術應用
文 | 葉峮甫 | 竹科廠務一部 | 林哲冠 | 竹科廠務一部 | 周家祿 | 竹科廠務三部 |
半導體製程中，最主要的揮發性有機化合物汙染物包含乙醇、異丙醇、丙酮、丁酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、單乙醇胺、雙三甲基矽胺，當中組成後沸點成分高過於150℃的汙染物可稱為高沸點揮發性有機化合物，其對半導體業常用的汙染處理...

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2017.6, Vol.26 / 技術專文
Central Scrubber Improvement Approaches
濕式洗滌塔宿疾改善對策
文 | 錢立行 | 竹科廠務一部 |
本文主要探討因應半導體廠氣體特性，將既有廠內排氣中酸鹼處理設備-中央洗滌塔進行改善，嘗試以新思維改善半導體廠排氣中矽微粒堵塞拉西環、菌類生長及因污泥堆積底部而須進行冗長保養程序之中央洗滌塔宿疾，並針對未攔截水量、塔...

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2017.6, Vol.26 / 新象新知
Removal Efficiency and Safety Assessment of Wet Electrostatic Precipitator Destruction for Total Suspended Particulate
濕式靜電集塵對粒狀污染物的處理評估與安全分析
文 | 楊詠翔 | 南科廠務四部 |
靜電集塵器具備高處理效率、高可靠度、低壓力損失、低耗能、無壓力波動、可連續運轉的特點。因此，靜電集塵器廣泛地被一般工業界所應用在改善空氣污染排放。然而，傳統乾式靜電集塵器有以下問題：粉塵沉積於集塵板表面與極線上造成...

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2017.3, Vol.25 / 技術專文
The Rigorous Verification for Energy Saving Mode of New UPS Firmware Upgrade
不斷電系統新版韌體節能模式驗證手法分享
文 | 周俊宏 | 李豐裕 | 黃晋益 | 胡緯民 | 南科廠務三部 |
因應全球氣候變遷，本公司積極推動節能減碳計畫。本文以國際半導體業界標準IEC 61000-4-34 (SEMI F47-0706)與IEC 62040-3、非線性負載以及歷來失效案例等手法，全面驗證Eaton 93...

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2017.3, Vol.25 / 技術專文
The Practical Assessment for UPS Power Efficiency Improvement
不斷電系統效率提升實務探討
文 | 黃鈵翔 | 胡家誠 | 南科廠務三部 |
本文主旨在於廠內穩定運轉的前提下，不變更UPS整體架構，探討成本與改善可行性，使Delta NT 500kVA UPS效率得以提升，達到節能減碳的效果。針對UPS既有架構提出三種節能想法，可分別在online和EC...

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2017.3, Vol.25 / 技術專文
Development Procedure of Programmable Logic Controller by On-line Simulation
廠務控制程式模擬流程開發
文 | 李宥廷 | 陳民凱 | 南科廠務三部 |
在廠務系統中，大部分系統皆由設備廠商提供程式，部份廠商因機密問題不提供原始程式，又程式撰寫方式均以階梯圖撰寫，且動輒上千條程式，難以深入詳細的動作邏輯。故本文制定出廠務控制程式開發流程，並配合Off Line模擬系...

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2017.3, Vol.25 / 技術專文
An e-Platform for PLC Asset Management
建置大型可程式控制器資產與變更管理中心
文 | 陳恩德 | 劉佳芳 | 竹科廠務二部 |
PLC管理平台其最精髓部分，是將大型十二吋晶圓廠廠務系統中數以千計的PLC進行控制器與卡片資產識別、庫存管理、汰舊換新及程式的變更管理做一個全面性的統整。本文探討 PLC管理平台工具如何運用在廠務各系統PLC之管理...

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2016.12, Vol.24 / 新象新知
The Application of Dynamic Process Simulation to Semiconductor Facility Operation
談動態製程模擬技術在半導體廠廠務運轉的應用
文 | 蔡昀叡 | 300mm Fabs廠務處 | 鄭昭平 | 新廠規畫部 | 吳劉駒 | MYNAH Technologies, LLC |
本文介紹模擬技術的發展及應用現況，並說明如何透過動態製程模擬技術結合控制系統，來模擬半導體廠設備運轉特性及外在環境變化，建構仿真工廠以提供一個擬真的實戰訓練環境，協助廠務運轉人員快速累積知識與經驗，在面對異常事件或...

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2016.9, Vol.23 / 技術專文
New Revolution in Slurry Filtration System - Cross Flow Filtration
研磨液過濾系統新革命 - 掃流過濾
文 | 江宜蓁 | 奈米材料中心一部 | 曾誌江 | 新廠設計部 |
在半導體製程中，改善晶圓缺陷為提昇良率重要的一環。以化學機械研磨中的刮傷缺陷之改善為例，一般常見手法為裝置濾心以降低研磨液中微粒子數，但目前過濾方法的效果十分有限。本研究顛覆過去既有的過濾思維，在半導體業首創掃流式...

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2016.9, Vol.23 / 技術專文
A Study on The Safety Defense of Silane System
矽甲烷供應系統安全防禦之實務探討
文 | 何重億 | 南科廠務二部 |
矽甲烷具有自燃之化學性質，矽甲烷供應系統各方面之安全防禦顯得格外重要，此物質已被許多供應商及使用者作為技術研究之主題，包含供應架構、鋼瓶結構、工安事件等，本文整合業界技術研究與實際運轉經驗，探討降低矽甲烷外洩之實務...

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2016.9, Vol.23 / 技術專文
Recycling Techniques for Inert Process Gases
惰性製程氣體回收技術
文 | 劉俊男 | 十五廠六期新建工程專案 | 黃介然 | 新廠設計部 |
本計畫開發了一套惰性製程氣體回收系統，將半導體製程機台所排放出來含有大量高單價惰性氣體的製程廢氣加以收集，再回收給氣體供應商，以降低原物料成本。此套系統主要由一個低壓緩衝桶槽、一個高壓貯存桶槽、一組加壓幫浦及一個氣...

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2016.9, Vol.23 / 技術專文
Design and Experience Sharing for Acidic Waste Drain (O3) Reclaim to Ultrapure Water system
含臭氧酸鹼廢水回收至純水之設計與運轉分享
文 | 楊淵超 | 溫士賓 | 竹科廠務一部 |
含臭氧酸鹼廢水為含臭氧的機台排放廢水，其為擴散及蝕刻機台之臭氧產生器與純水混和用來清洗晶圓上的微量有機物。透過排水水質量測及用途追蹤，發現其水質特性為高氧化性、低導電度，總有機碳濃度可達純水回收標準。然而臭氧氧化性...

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