TSMC 廠務季刊

2018.12, Vol.32 / 技術專文

Safety Design for the System to Remove Hydrogen Peroxide from Waste Sulfuric Acid

廢硫酸去除雙氧水系統安全防護提升

文 | 呂欣 | 十四B廠工安衛生部 | 劉明翰 | 十四B廠工安衛生部 | 唐祺夏 | 十八廠 | 劉柏青 | 南科廠務五部 | 蕭千城 | 南科廠務五部 | 吳厚萱 | 中科廠務五部 |

本文以危害與可操作性分析(HAZOP)及收集13個廠區運轉經驗，評估廢硫酸 (W-H2SO4) 去除雙氧水 (H2O2) 回收...

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2018.12, Vol.32 / 技術專文

Safety Management for EUV Tool

超紫外光機台全方位安全管理

文 | 曾威霖 | 十二廠工安環保一部 |

超紫外光(EUV)為半導體製程持續微縮並延續摩爾定律(Moore's law)的新世代微影技術，亦是台積公司能持續保持先進製程技術領先的關鍵設備，EUV造價昂貴且使用大量具極度易燃特性的氫氣(Hydroge...

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2018.12, Vol.32 / 技術專文

Risk Analysis and Coping Strategies for Pyrophoric Material in Usage of Semiconductor Manufacturing Plant

發火性物質運轉風險與安全對策

文 | 韓兆祥 | 謝佳霖 | 呂欣 | 十四B廠工安衛生部 |

半導體製程陸續使用越來越多發火性物質於生產過程中，此類發火性物質大部份兼具禁水特性，於異常洩漏時遇空氣自燃且接觸水會產生非常劇烈反應。本研究應用HazOp風險分析方法及參考SEMI-5761B草案規範，針對使用發火...

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2018.12, Vol.32 / 技術專文

Reinforcement of Lock out / Tag out Procedure and Its Implementation

談上鎖掛牌程序的強化及執行方式

文 | 林宗龍 | 蔡岳奇 | 十五B 廠工安環保 |

為維護作業的安全，常以工程控制、作業程序與防護具等方式進行，過去上鎖掛牌僅於高風險作業執行。文獻指出，上鎖掛牌程序阻斷危害源，可降低作業產生的風險，如化學品供應端閥件、電源供應元件等。本計畫採以下流程進行 : (1...

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2018.12, Vol.32 / 技術專文

Flood Control Strategies of Plants in Southern Taiwan Science Park

南科防洪策略

文 | 吳昆桂 | 六廠工安環保部 | 連唯盛 | 十五B 廠工安環保部 |

南科地區在2009年莫拉克風災時，出現超過200年重現期的降雨量，當時廠房雖未淹水受損，但從風險預防及營運持續管理的角度，我們希望具體量化洪水風險，檢討對應的改善措施，並建立預防機制。考量氣候變遷可能惡化極端氣象條...

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2018.12, Vol.32 / 技術專文

Strategies and Countermeasures for Emergency Response in Magnitude 6 Earthquake

六級強震巨災應變對策

文 | 盧宣任 | 十四A 廠工安環保部 |

地震為發生機率高且不易預測之天災，近幾年陸續於全球各地出現六級以上強烈地震；且強震對半導體廠造成之傷害極大(包含人員安全與生產中斷)，因此如何面對這麼巨大的天然災害，並於第一時間做好緊急應變，固守人員安全並快速回復...

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2018.12, Vol.32 / 技術專文

E-Management of Emergency Response Center and Its Application

緊急應變中心電子化管理與應用

文 | 陳俊 | 十廠安全環保部 |

緊急應變中心（ERC）在半導體工廠乃至所有企業是至關重要的一個機構，處理異常時需要借助的資源多、器材多、人力多，且遍佈廠區。若開發電子化的管理系統，輔助異常緊急應變，必能產生可觀效益。為此，經由ISEP、IT等部門...

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2018.12, Vol.32 / 新象新知

The Challenge and Coping Strategies of Hazardous Chemical Exposure Assessment and Control Banding in High-tech Industries

高科技業危害性化學品暴露評估及分級管理制度面臨之挑戰與因應策略

文 | 蔡朋枝 | 國立成功大學醫學院工業衛生學科暨環境醫學研究所 |

高科技產業先進製程繁複且變化快速、使用化學物質多，其中並非所有危害性化學品皆具容許濃度標準，而具容許濃度也有可能無建議採樣方法，且環測數據多為未檢出，因而在技術、經費與人力需求上，無法單純使用作業環境監測來解決。如...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文

New Auto Jar Test Application of the CMP Waste Water of Coagulation and Sedimentation

先進研磨廢液混凝沉降自動化系統開發與應用

文 | 鄭權慶 | 中科廠務二部 |

半導體產業於廢水處理系統中，研磨廢水的部份採用混凝沉降的方法進行處理。而混凝沉降方式主要在於降低水中粒子間的相斥電位，相互接觸凝集而達到固液分離的目的(電性中和)，而混凝劑及膠凝劑加藥量控制精準與否？將影響最終處理...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文

New Generation Chemical Coupler Booth Design

新世代化學品灌充口設計

文 | 潘耿輝 | 新廠工程管理部 | 張育正 | 新廠設計部 | 黃介然 | 新廠設計部 |

隨著半導體製程持續演進，槽車化學品用量不斷被提高，化學品灌充作業人力也逐年上升；過去也曾因為外部環境品質影響，造成灌充前取樣量測不穩定。本文主要說明如何應用滑軌、氣壓缸與訂製夾具等動力元件於化學品灌充設備中，來設計...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文

Automation Circulation Drum System Development

研磨液自動循環系統開發解決手動操作風險

文 | 翁儷瑜 | 張育正 | 新廠設計部 |

現行研磨液的均勻再分散，是藉由搖搖機來進行；然而，搖搖機屬於高風險手動作業設備，非自動化的人力操作凸顯誤操作的風險、作業安全及人力資源取得的問題。本計畫開發的研磨液自動循環系統，於回流端和抽吸端的汲取管分別裝設混流...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文

A Study of Ultrapure Water Nanoparticle Detection Technologies

談超純水奈米顆粒偵測技術

文 | 林恩添 | 新廠設計部 |

對於液體中顆粒數量之檢測，現今大都以雷射散射法作為判斷依據，受限於光學繞射極限，要偵測到 20nm 以下之奈米顆粒有很高難度，特別是在液體中顆粒數量稀薄的狀況下，如超純水；同時，超純水的奈米顆粒潔淨度又與半導體製程...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文

Application of Near Infrared in the Detection of Slurry

談近紅外線光譜於研磨液檢測之應用

文 | 許紹鵬 | 南科廠務二部 |

目前研磨液供應系統的線上雙氧水濃度儀使用氧化還原滴定分析法，單筆分析時間長，在運轉維護上需消耗人、物力且分析過程產生的廢液也會造成環境衝擊；此外，傳統研磨液品質分析量測項目，已無法滿足線上晶圓生產品質需求。本文研究...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文

Applying Leveling Agent in W-CuSO4 Plating System for Performance Enhancement

平整劑應用於液中求銅系統產能提升

文 | 曾宏升 | 王世民 | 竹科廠務三部 |

廢液電解中常因部分干擾物質造成電鍍層外表結構不一定規則狀，在共同的電流下，端子離陽極距離較近的部位稱為局部高電流區，局部高電流區電解形成速度較快，在惡性循環下造成銅花的情形發生，進而造成橋接短路發生，廢液電解中最常...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文

Cobalt Recycle Methodology Study on Waste Water Treatment

廢水外排不鈷息：先進製程廢水全鈷回收

文 | 蒙彥超 | 竹科廠務三部 |

鈷被大量應用於晶圓先進製程，而其產生之含鈷廢水造成的重金屬汙染對於環境有很大衝擊，需要一個妥善處理含鈷廢水方法，將處理後含鈷有害廢棄物轉換為有價的金屬資源回收，並減少避免處理過程中的衍生環境汙染風險。本篇研究以螯合...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文

A Study of Ammonium Sulfate Concentrated Technique

硫酸氨提濃技術探討

文 | 周劻輝 | 南科廠務五部 |

隨著法規納管標準漸趨嚴謹，半導體製程中廣泛使用氨水及硫酸，造成排放廢水含有高濃度氨氮以及廢硫酸廢棄物。業界普遍以脫氣膜方式去除水中氨氮濃度，進而衍生產出硫酸氨廢棄物。故本文介紹利用氨氮系統參數優化調整及硫酸氨回流等...

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