Vol.18 / 技術專文
LPC(Large Particle Count) Control
STI 化學機械研磨液之微粒子數量控制
隨著半導體製程緊湊步伐的演進,化學機械研磨(Chemical-Mechanical Planarization, CMP),將面臨許多技術瓶頸,刮傷缺陷(scratch defect)即為一例,本文將介紹如何在化學...

按讚

0

收藏

0
點閱 (72)
Vol.18 / 技術專文
A Novel Gas Supply Technique with Stable Output Concentration: Application for the Gas with High Reactivity & Extreme Toxicity
一個新穎的穩定濃度供氣技術:高活性劇毒氣體的應用
乙硼烷(B2H6, Diborane)為一種相當重要的半導體製程氣體,其具有高活性與劇毒性。鋼瓶內的B2H6即使未和其他物質接...

按讚

0

收藏

0
點閱 (74)
Vol.18 / 技術專文
Online Monitoring AC/DC Capacitors Ageing of UPS
不斷電系統電容器老化在線監測及本質壽命評估
UPS應用於廠內電力敏感設備的防護已行之有年,在平時運轉中,時有因內部異常導致UPS切換,雖然大部分的切換對下游負載並無影響,但有時仍會影響負載或引發更大的電力事故。本文統計歷年UPS異常原因,發現電容器異常佔內部...

按讚

0

收藏

0
點閱 (30)
Vol.18 / 技術專文
N16 & N20 Product Yield Improvement Technology:XCDA New Application
16/20奈米提高良率技術XCDA新應用
壓縮乾燥空氣CDA(Compressed Dry Air) 在半導體廠扮演著非常重要的角色,幾乎半導體廠內的每台設備機台都需要使用到CDA。300mm晶圓廠甚至以CDA再經過純化器(Purifier) 過濾大氣中的...

按讚

0

收藏

0
點閱 (47)
Vol.18 / 新象新知
Design and Application of Upward Clean Air Circulation System
上回風潔淨循環系統的設計與應用
傳統FFU-DCC式之潔淨室設計,對於機台本身熱散逸至潔淨室所產生熱對流作用之上升氣流,容易與FFU向下送的潔淨循環氣流相撞後彼此產生干擾,迫使潔淨循環氣流無法達成有效的動量輸送,造成微粒滯留在潔淨室內;利用FDC...

按讚

0

收藏

0
點閱 (25)
Vol.18 / 新象新知
The Green Energy with the Highest Potential in the Future - Hydrog
未來最具發展潛力的綠色能源:氫
在飛速發展的科技下,現有石化能源的耗竭及所產生的污染已為人類不得不面對的問題。氫因具有乾淨、永續供應及高能量密度三大特質,使其成為目前最有發展潛力的替代能源。對半導體產業而言,氫氣也是一種相當重要的生產原料,隨著製...

按讚

0

收藏

0
點閱 (29)
Vol.18 / 新象新知
Membrane Filtration Capability Evaluation Method Establishment & Development and Application of Inorganic Membranes for Nanoparticle Removal
薄膜過濾功能鑑別方法建立及無機薄膜於奈米顆粒去除之開發與應用
本文說明建立金粒子搭配ICP-MS 分析之粒子阻擋法作為薄膜過濾功能之鑑別方法,此法最大優點為突破光學顆粒計數器(OPC) 分析之限制(20~50nm)。以此法檢驗本文開發之無機濾膜整體去除效率可達99.9%,顯著...

按讚

0

收藏

0
點閱 (34)
Vol.17 / 技術專文
Integrating Next-Generation Technology Into Today’s Nano/MEMS Research Facilities
整合次世代技術於現今奈米/微機電廠務系統之探討
This article is to describe the architectural design approach to the latest-generation nano/MEMS research f...

按讚

0

收藏

0
點閱 (49)
Vol.17 / 技術專文
Standard Architectural Drawings in Construction
建築標準圖的應用
本文主要在探討建築標準圖在專案過程中的應用,試圖闡述何謂建築標準圖,並依序說明標準圖的目的、範疇、內容及該由誰來負責這項工作,且以新建廠房專案說明如何將建築標準圖應用在專案生命週期的不同階段,最後以建築標準圖未來進...

按讚

0

收藏

0
點閱 (48)
Vol.17 / 技術專文
Database Enhancement of the Tools Utility Requirement for New Fab Project
新建工程機台需求之資料庫進階強化計畫
新廠的設計,是依製程生產機台的需求(Tools Utility Requirement)及位置(Layout)進行各種廠務供應系統之設置與規劃;本篇將闡述藉由 IDI (Initial Design Integra...

按讚

0

收藏

0
點閱 (75)
Vol.17 / 技術專文
A Brief Introduction of New Fab Planning Tools Based on Decision Support System
以決策支援系統之架構論述新廠廠房規劃之工具
本文導入決策支援系統化架構,以此脈絡思維來進行設計流程上之探討,不僅對改善的方向確認有實質幫助,更有條理的逐一檢視不同之設計區塊,避免系統之重複或定位不明,造成日後之整合不易。...

按讚

0

收藏

0
點閱 (35)
Vol.17 / 技術專文
Automatic Material Handling System Design for GIGA FAB Cross Phase Bridge
超大晶圓廠間的自動晶圓傳輸橋接設計
台積電在卓越製造技術有一重要因素即為導入超大晶圓廠 (GIGA FAB) 概念,而跨接橋樑 (Cross Phase Bridge) 的設計則確保超大晶圓廠運作的成功。本文主在說明一個跨接橋的設計需考慮何因素,並利...

按讚

0

收藏

0
點閱 (86)
Vol.17 / 技術專文
Reducing the Legal Risk Effectively
有效降低法律風險一二事
隨著公司營運持續成長,購買廠房已成為滿足產能擴充需求的方法之一。本文將針對廠房購買交易過程中可能衍生的法律問題,做一概略探討,而後將以一實際案例來說明所遭遇的問題及處理的過程與方法,期望能藉此讓同仁們後續在面對類似...

按讚

0

收藏

0
點閱 (39)
Vol.17 / 技術專文
Advanced Cost Benchmarking
進階成本標竿管理
工程生命週期中,成本管理主要可分為五個階段,規劃階段、設計階段、招標發包階段、施工階段及營運維護階段。本文主要針對台積電新建廠工程招標發包階段之成本管理方法進行探討,說明目前遭遇之困難,並如何藉由系統工具的協助來達...

按讚

0

收藏

0
點閱 (60)
Vol.17 / 技術專文
Process Improvement: Service Procurement Re-engineering
流程改善:服務採購流程再造
現今企業,皆無法僅依自產自製而滿足營運需求,採購行為已為企業運作必然進行之作業程序。而就公司而言,為加速運作流程,降低相關運轉費用,早已將大部分採購流程導入電子化作業系統。但隨著公司組織日益龐大,資本與經常性支出顯...

按讚

0

收藏

0
點閱 (41)
Vol.17 / 技術專文
Application of Building Information Modeling in Quantity Take-offs for Semiconductor Fab Facility Systems
建築資訊模型於半導體廠房廠務系統數量計算之應用
半導體廠房的投資龐大,建廠時程緊迫,若能妥善應用BIM工具,相信其能產生可觀的效益。半導體廠房之廠務系統組成複雜,要能建置其BIM模型有相當之困難度,為此本研究以某一半導體廠房為實例,來探討如何建置半導體廠房廠務系...

按讚

0

收藏

0
點閱 (37)