Vol.48 / 技術專文
The safety design and definition of public hazardous substances places using the supply dispense system and environment of trichlorosilane
三氯矽甲烷供應系統之公危品安全設計定義與探討
三氯矽甲烷(Trichlorosilane, TCS)是由矽、氫及氯所組成,其化學式為SiHCl3,為半導體相關產業使用之重要化學品。因其具可燃性、禁水性、毒性與腐蝕性等物化特性,故其使用場所的選定...

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Vol.48 / 技術專文
Innovative management of Chemical Filters-Pre-clean and Transferred
化學品濾心創新管理-預洗與活體移植
半導體製程的快速演進,高純度化學品供應面臨嚴苛挑戰,廠務系統定時保養更換系統耗材或配件影響風險較高,每一次的更換,除了要維持金屬及不純物含量的品質監控,如何快速達成必然成為廠務義不容辭的課題,本文以經常性更換之濾心(Fi...

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點閱 (78)
Vol.48 / 技術專文
Find the voice in the extreme environment-application of Industrial Acoustic Imager in foundry
在極限環境中看見你所未聞之物-工業聲學顯像儀實務應用
廠務工程師的專業職責在於安全的供應晶圓廠區設備的一切所需,身為工廠的安全守護第一線,於廠區擁有數以千計的機台/附屬機台需要進行監控、巡檢,如何在短時間內有效地找出機台問題點是很大的挑戰。對於這項挑戰,本篇使用工業聲學顯像...

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Vol.48 / 技術專文
Source management and reduction of Wastewater Management Indicator "Acetone" in Advanced Process Plants
先進製程廠區污水納管指標「丙酮」之源頭管理與減量對策
自2021年5月21日起科管局將放流丙酮列為管制項目(<5mg/L),並將其劃分為三個級距徵收污水費,其中廠區因製程原料廢水中異丙醇(晶圓乾燥使用)與氧化劑(雙氧水居多,作為晶圓清洗使用)反應產生丙酮,導致放流水丙...

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Vol.48 / 技術專文
COD Reduction Strategy and Biological System Operation Management in Advanced Process Plants
先進製程廠區放流水COD削減策略及生物系統運轉管理
隨半導體先進製程發展,晶圓乾燥使用的IPA(Isopropyl alcohol)用量大幅增加(N5約為N7製程的1.5倍)。同時,WET製程中單槽式晶圓濕式清洗機台占比增多,此類型機台排水量大且易造成IPA與其他種...

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Vol.48 / 技術專文
Bio-ACF(BAC)'s technology applied decreasing TMAH of the effluent water
Bio-ACF(BAC)技術應用於廢水TMAH濃度減量之機制與研究
因全球半導體與光電業蓬勃發展,大量使用氫氧化四甲基胺(TMAH)顯影劑。本文中提到傳統樹脂可以有效吸附高濃度TMAH,但對於低濃度TMAH處理效益低,導致放流水TMAH雖符合園區納管標準卻未達ESG排放目標(<1m...

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點閱 (35)
Vol.48 / 技術專文
System Design and Removal Strategy of PFAS from Semiconductor Wastewater
製程廢水中短鏈全氟化合物去除策略與設計規劃
半導體界近年積極開發工業再生水技術,將自身排放的工業廢水再製供前段製程重新使用,廢水中不易被水處理系統去除的短碳鏈全氟化合物,雖然台灣目前未有制訂法規管制排放濃度,但已開始被重視是否影響再生水水質。本研究探討多方文...

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點閱 (75)
Vol.48 / 技術專文
Chloride Sources and Reduction Strategies in Semiconductor Effluent Wastewater
半導體排放廢水氯化物來源與削減策略
隨著國內半導體、光伏企業的快速發展,對純水的需求量與含氟廢水的處理量也大幅增加,由於大多企業使用鹽酸再生樹脂,氯化鈣處理含氟廢水,隨之而來廢水排放中氯離子濃度也居高不下。隨著環保法規日趨嚴格,對水中氯化物的濃度也有了明確...

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Vol.48 / 技術專文
Transfer Waste High Concentration HF to A Highly Value Product, Cryolite
點氟成晶-廢氫氟酸轉製成正價值冰晶石
廠務持續推動循環經濟,致力將製程產生的廢棄資源再製為異業可使用的產品,隨著先進製程的演進(N7~),需蝕刻及清潔的次數增加,導致氫氟酸需求量大幅上升,也增加了氫氟酸的廢液量,預估2025年將達6,927噸/月,佔全...

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Vol.48 / 技術專文
Recovery Enhancement and Quality Optimization of Low-concentration Waste-Sulfuric Acid
無憂無氯-低濃度廢硫酸回收效率提升及品質優化
目前tsmc各廠皆以鹽酸法去除廢硫酸中之過氧化氫,反應副產物氯氣再藉由尾氣處理系統去除。因鹽酸於低濃度硫酸中溶解度較大之特性,因此鹽酸法運用於低濃度硫酸處理時,不易形成氯氣,導致再生硫酸中氯離子殘留濃度偏高;進而影響氨氮...

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點閱 (32)
Vol.48 / 技術專文
Eco-Industrial Parks(EIP)-The Planning, Design, and Challenge for Taichung Zero Waste Manufacturing Center
台中零廢製造中心設計規劃實務
台積電產能持續擴充,廢棄物產出量亦同步攀升,如公司ESG報告所揭露委外廢棄物總量由2016年約30萬噸/年,至2020年已增長至55萬噸/年的水準,依公司產能規劃預估至2025年廢棄物委外將高達100萬噸/年以上。...

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Vol.47 / 技術專文
The application of two-fluid atomization nozzle and cyclone dust collection
粉塵變不見 - 二流體與旋風集塵的綜合運用
半導體製程當中,每一道製程均有不同的副生成物,其中爐管製程中的六氯矽乙烷(HCD)與二氯矽甲烷(DCS)高溫燒結與水洗後所產生的二氧化矽(SiO2)粉塵與鹽酸(HCl)一直是難以處理的項目,不但會造...

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Vol.47 / 技術專文
Development and application of an integrated auto-clean machine for Pumping-line
Pumping-line 全自動清管器的開發與應用
「製程排氣管路」(Pumping-line)作為「生產機臺附屬系統的一環,一方面承載著提供製程chamber高真空度環境的作用,另一方面也是製程排氣輸送至「現址式廢氣處理洗滌塔」(Local scrubber, L...

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Vol.47 / 技術專文
The Breakthrough in the Spatial Location of Local Scrubber
8吋成廠區在LSC拆裝的空間位置突破 - 以8廠為例
F8從世大建廠之初運轉至今已超過20年,隨著半導體產業日新月異及製程的進步,產能需求銳不可擋,如何在有限的空間把機台安裝效率最大化已成為製造生產端、設備機台端與廠務運轉端最大挑戰。本文旨在分享及介紹F8拆裝機過程的規劃,...

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Vol.47 / 技術專文
The Breakthrough and Innovation of Local Scrubber Stable Operation by iSystem Implementation
iSystem導入對廠務LSC穩定運轉的突破與創新
Local Scrubber欲達成有效節能運轉成效,其先決條件是確保其製程尾氣處理效能可達到良好水準。iSystem藉由確認製程機台所使用的製程氣體,並依據定義該製程氣體於Local Scrubber處理的方式,即時依據...

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Vol.47 / 技術專文
Air Distribution Improvement and Management of Downflow Clean Room
單向流無塵室氣流組織改善及精進管理
不同於其他廠區無塵室內前期造價昂貴的天車系統(Automatic Material Handling System, AMHS),F10廠區無塵室內採用的是人工物料搬運系統(Manual Material Handlin...

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