文章分類

熱門關鍵詞

中文 | Keyword
首頁 / 分類閱讀 /
2023.12, Vol.52 / 技術專文
Improving reclamation efficiency of Waste Piranha Solution
高濃廢硫酸再利用創新改良-廢硫酸稀釋法實務應用
文 | 林冠宇 | 新竹廠務八部 | 王建翔 | 新竹廠務八部 | 陳宜樂 | 先進封裝廠務一部 |
廢硫酸回收系統(Waste Sulfuric acid recycling system)有其運轉規範要求，針對新建廠初期即面臨廢硫酸濃度過高、雙氧水(Hydrogen peroxide)濃度過低之狀況，若採用現況...

按讚

0

收藏

0
點閱 (26)
2022.12, Vol.48 / 技術專文
Source management and reduction of Wastewater Management Indicator "Acetone" in Advanced Process Plants
先進製程廠區污水納管指標「丙酮」之源頭管理與減量對策
文 | 林雋凱 | 新竹廠務六部 | 洪士超 | 新竹廠務六部 | 吳貴弘 | 新竹廠務四部 |
自2021年5月21日起科管局將放流丙酮列為管制項目(<5mg/L)，並將其劃分為三個級距徵收污水費，其中廠區因製程原料廢水中異丙醇(晶圓乾燥使用)與氧化劑(雙氧水居多，作為晶圓清洗使用)反應產生丙酮，導致放流水丙...

按讚

0

收藏

0
點閱 (48)
2021.12, Vol.44 / 技術專文
Optimization Of Waste H2SO4 Decrease H2O2 System
廢硫酸去除雙氧水系統最佳化探討
文 | 曾治寰 | 郭中閔 | 劉柏青 | 台南廠務三部 |
本文以「最佳化探討」(Optimization)廢硫酸去除雙氧水系統，針對廢硫酸(W-H2SO4)去除雙氧水(H2O2)回收系...

按讚

0

收藏

0
點閱 (117)
2020.6, Vol.36 / 技術專文
High Concentration H2O2 Wastewater Treatment Technology of Semiconductor Assembly
先進封裝廠含高濃度雙氧水廢液處理技術與實務探討
文 | 戴君豪 | 南科廠務二部 氣化三課 | 廖俊凱 | 南科廠務二部 氣化三課 | 黃政道 | 南科廠務一部 技術副理 |
晶圓半導體製造工廠大部分高濃度雙氧水廢液排放至廠務廢水系統進行調勻處理，先進封裝廠區廢水量較晶圓廠區小，若直接排放至廢水系統將造成放流水超標風險。因此需委外處理高濃度雙氧水廢液，對環境與公司營運成本皆造成負面影響。本文藉...

按讚

0

收藏

0
點閱 (60)
2018.12, Vol.32 / 技術專文
Safety Design for the System to Remove Hydrogen Peroxide from Waste Sulfuric Acid
廢硫酸去除雙氧水系統 安全防護提升
文 | 呂欣 | 十四B廠工安衛生部 | 劉明翰 | 十四B廠工安衛生部 | 唐祺夏 | 十八廠 | 劉柏青 | 南科廠務五部 | 蕭千城 | 南科廠務五部 | 吳厚萱 | 中科廠務五部 |
本文以危害與可操作性分析(HAZOP)及收集13個廠區運轉經驗，評估廢硫酸 (W-H2SO4) 去除雙氧水 (H2O2) 回收...

按讚

0

收藏

0
點閱 (338)
2018.9, Vol.31 / 技術專文
Application of Near Infrared in the Detection of Slurry
談近紅外線光譜於研磨液檢測之應用
文 | 許紹鵬 | 南科廠務二部 |
目前研磨液供應系統的線上雙氧水濃度儀使用氧化還原滴定分析法，單筆分析時間長，在運轉維護上需消耗人、物力且分析過程產生的廢液也會造成環境衝擊；此外，傳統研磨液品質分析量測項目，已無法滿足線上晶圓生產品質需求。本文研究...

按讚

0

收藏

0
點閱 (100)
2017.9, Vol.27 / 技術專文
Improvement of Slurry Dispense System
化學研磨液供應系統的改善
文 | 孫聖哲 | 竹科廠務四部 |
隨著半導體產業日新月異的發展，整條製程產線上從化學品供應系統到設備機台都須不斷地強化更新。本篇著重在化學研磨液供應系統的強化。現今化學研磨液供應系統雖趨於成熟，但為了因應新物料的產生、使用者需求、更精準的品質以及強...

按讚

0

收藏

0
點閱 (61)
2016.9, Vol.23 / 技術專文
Innovation in Slurry In - line H2O2 Detection
研磨液之雙氧水即時量測技術進化
文 | 趙培辰 | 南科廠務五部 |
本文主要分析雙氧水滴定儀使用上之問題，針對六向閥和螺桿組進行新概念設計、硬體改造，以及軟體計算進行驗證和優化，包含將滴定儀用作定量的六向閥移除，改由閥件之滯吸力進行定量，並將定量管拉出毛細管，強化管內的附著力，避免...

按讚

0

收藏

0
點閱 (46)
金筆獎入圍
2016.9, Vol.23 / 技術專文
Treat Wastewater by Wastewater! Treatment of IPA and COD Wastewater by UV/AWD H2O2 Process
廢水處理廢水！以紫外光結合雙氧水 廢水程序處理異丙醇與化學需氧量廢水
文 | 謝文彬 | 中科六期新建工程專案 | 王世民 | 竹科廠務三部 |
本文測試目的為利用高級氧化程序處理廠內含IPA與COD有機廢水，測試中利用廠內含H2O2廢水當為水處理原料並結合UV催化系統所形成OH‧自由基處理廠內含高濃度有機廢水，經由測試結果IPA去除率達99.5%，COD和...

按讚

0

收藏

0
點閱 (85)
2014.6, Vol.14 / 技術專文
New Technology for Ammonia Recycling from Wastewater
創新氨氮廢水資源化
文 | 李玫 | 新廠設計部 | 傅正貴 | 十四廠七期專案 | 王俊元 | 十四B廠廠務一部 |
半導體事業所排放的廢水常含有高濃度的氨氮與雙氧水，具有高污染濃度、高生物毒性等特性，依新制之放流水標準，對於氨氮廢水的處理是刻不容緩的。本文介紹以脫氣膜(MD)的處理方式，將廢水中的氨氮轉換為硫酸銨廢液，企圖將廢水...

按讚

0

收藏

0
點閱 (57)
2014.6, Vol.14 / 新象新知
Inhibition Of Copper Corrosion By Removal Of H2O2 From CO2-Dissolved Water Using Palladium Catalysts
鈀(Pd)觸媒於超純水中去除雙氧水以抑制銅腐蝕之應用
文 | 林豪逸 | 新廠設計部 | 矢野大作 | 奧璐佳瑙科技股份有限公司 |
超純水系統因紫外光的照射會導致內含有10～40μg/L的雙氧水，另雙氧水處於超純水酸性環境中會加速銅腐蝕的行為。目前發現藉由鈀觸媒陰離子樹脂(Palladium-loaded monolithic anion...

按讚

0

收藏

0
點閱 (30)