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水處理 Water Treatment 70 最新文章 熱門文章 按讚數
Vol.31 / 技術專文
Applying Leveling Agent in W-CuSO4 Plating System for Performance Enhancement
平整劑應用於液中求銅系統產能提升
廢液電解中常因部分干擾物質造成電鍍層外表結構不一定規則狀,在共同的電流下,端子離陽極距離較近的部位稱為局部高電流區,局部高電流區電解形成速度較快,在惡性循環下造成銅花的情形發生,進而造成橋接短路發生,廢液電解中最常...

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Vol.31 / 技術專文
Cobalt Recycle Methodology Study on Waste Water Treatment
廢水外排不鈷息: 先進製程廢水全鈷回收
鈷被大量應用於晶圓先進製程,而其產生之含鈷廢水造成的重金屬汙染對於環境有很大衝擊,需要一個妥善處理含鈷廢水方法,將處理後含鈷有害廢棄物轉換為有價的金屬資源回收,並減少避免處理過程中的衍生環境汙染風險。本篇研究以螯合...

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Vol.31 / 技術專文
A Study of Ammonium Sulfate Concentrated Technique
硫酸氨提濃技術探討
隨著法規納管標準漸趨嚴謹,半導體製程中廣泛使用氨水及硫酸,造成排放廢水含有高濃度氨氮以及廢硫酸廢棄物。業界普遍以脫氣膜方式去除水中氨氮濃度,進而衍生產出硫酸氨廢棄物。故本文介紹利用氨氮系統參數優化調整及硫酸氨回流等...

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點閱 (123)
Vol.31 / 技術專文
The Study of Water Hammer Effect on Process Cooling Water Improvement in High Flow Tool
大用水量機台之水槌效應於製程冷卻水之研究改善
製程冷卻水(PCW)用途為供應製程冷卻水,將製程機台所產生的熱量透過熱交換方式帶走。本文將探討如何改善高用水量機台觸發緊急停止(EMO,Emergency Off)時,對PCW系統產生水錘效應與供應溫度變化的影響。...

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Vol.27 / 技術專文
The Technology and Opportunity of Zero Liquid Discharge
業界廢水零排技術與機會點
降低環境污染的議題是各國致力追求的目標。從2015年12月國內友廠於新聞發佈製程廢水零排放開始,零排變成各行各業所討論的標竿,但零排放需付出更多的電能,對於環境不見得是友善。本文透過分析業界零排放的重要技術(MBR...

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點閱 (80)
Vol.27 / 技術專文
A Study of Biological Acute Toxicity
談放流水生物急毒性之研究
本文主要分析半導體廠廢水生物急毒性潛在問題,建立主要毒性物質之管制標準,以作為毒性之減量量及處理理方法選用依據。目前放流水生物急毒性標準檢測方法需48至96小時才能得知急毒性數值,本研究期能即時掌握放流水質狀況,維...

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點閱 (89)
Vol.27 / 技術專文
Advanced Organic Treating Wastewater with Wastewater– Wastewater Treatment with Bio System
以廢水治廢水─ 以生物處理有機廢水
台積公司廠務製程廢水分流確實,其優勢在於分流後,可規劃流程簡單且較小系統設計量,但也因此需添加更多化學品,例如酸、鹼廢水分流處理後,酸鹼廢水各自需添加化學藥劑進行中和。有鑑於此,我們希望尋找「以廢水治廢水」之機會點...

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點閱 (68)
Vol.27 / 技術專文
Strict Defense – The Optimum Operation Defense of Ammonia Nitrogen System Membrane Degasifier
禦敵從嚴─氨氮系統脫氣膜最佳運轉防禦
半導體製程中會產生高濃度氨氮廢水,廠內以脫氣膜資源最佳化方式去除水中氨氮,脫氣膜法於膜管內通以硫酸,膜管外通以氨氮廢水,藉由質傳效應使硫酸吸收廢水中氨氣,形成硫酸銨副產物。此方法除了可消耗廠內製程行為產生之大量廢硫...

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點閱 (71)
Vol.27 / 技術專文
Reverse Flush Strategy Analysis of Reverse Osmosis in High Concentration Wastewater Environment
逆滲透膜於高濃廢水下之反向流交互產水操作策略
對半導體製造業大廠而言,水資源高度依賴與廢水排放品質,視為汙染減量與環境改善之標竿,2016年新設之逆滲透二段濃縮處理設備,負責進階回收內含氫氟酸廢水與廢氣洗滌塔廢水之逆滲透濃縮廢水,該廢水導電度極高,並內含多種化...

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Vol.23 / 技術專文
Design and Experience Sharing for Acidic Waste Drain (O3) Reclaim to Ultrapure Water system
含臭氧酸鹼廢水回收至純水之設計與運轉分享
含臭氧酸鹼廢水為含臭氧的機台排放廢水,其為擴散及蝕刻機台之臭氧產生器與純水混和用來清洗晶圓上的微量有機物。透過排水水質量測及用途追蹤,發現其水質特性為高氧化性、低導電度,總有機碳濃度可達純水回收標準。然而臭氧氧化性...

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點閱 (60)
Vol.23 / 技術專文
New Sterilization Technology - Composite Pulse and Plasma Sterilization Technology
生態保育水活化殺菌技術大進化 - 脈衝電漿殺菌技術
為追求環境保護與生態保育之目標,科學園區管理局針對園區廠商制定嚴格之放流水排放標準,用以降低放流水生物急毒性(TUa)。水處理系統近年來新增氫氧化四甲基銨(TMAH)、氨氮(NH3-N)、廢硫酸(W-H2SO4)處...

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Vol.23 / 技術專文
New Blue Ocean of Energy Saving and Waste Reduction - The Principle and Application of MVR
節能減廢新藍海 - 機械式蒸氣再壓縮系統原理概述及應用
廢棄物減量為公司綠色製造主軸之一,2015年致力於廢硫酸去除雙氧水回收再利用,大幅減少廢硫酸委外清運量及處理費用。2016年隨占比調整,30%硫酸銨已躍居最大宗廢棄物,分析30%硫酸銨其中水份佔70%,除增加廢棄物...

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Vol.23 / 技術專文
Withdraw Copper from Waste Copper Sulfate-Application of Annular Cylindrical Electrochemical Cells
液中求銅-製程廢硫酸銅回收裝置應用
硫酸銅(CuSO4)為LSI銅製程之重要原料之一,其製程(ECP)廢液濃度可達20 g/L以上,極具回收價值。現行因放流水質限制(竹科放流水銅檢出量需小於1ppm),本公司高濃度廢硫酸銅均採委...

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Vol.23 / 技術專文
Study on New Type of UV in TOC Removal Capability and Operation Benefit in UPW System
新型紫外線裝置對超純水總有機碳去除效率探討及效益分析
近年來半導體技術不斷演進,元件線寬越來越精密,製程環境中微量污染物將影響產品良率,微量有機物之去除是穩定超純水水質、提升良率之關鍵。一般而言,UPW中有機物質常以總有機碳表示,而UV是UPW系統中去除TOC之關鍵角...

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Vol.23 / 技術專文
Effluent Reclamation - Design and Operation of Advanced Oxidation Process Pilot
工業再生水研發 - 高級氧化法模廠的設計與運轉
再生水模廠(AOP Pilot)設備於2015年8月進廠安裝,11月施工完成後導入晶圓工廠排放廢水進行試車,2016年6月模廠進行168小時連續運轉測試。測試時原水TOC大於設計預估值80 ppm,達120-160...

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金筆獎入圍
Vol.23 / 技術專文
Treat Wastewater by Wastewater! Treatment of IPA and COD Wastewater by UV/AWD H2O2 Process
廢水處理廢水!以紫外光結合雙氧水 廢水程序處理異丙醇與化學需氧量廢水
本文測試目的為利用高級氧化程序處理廠內含IPA與COD有機廢水,測試中利用廠內含H2O2廢水當為水處理原料並結合UV催化系統所形成OH‧自由基處理廠內含高濃度有機廢水,經由測試結果IPA去除率達99.5%,COD和...

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