Treat Wastewater by Wastewater! Treatment of IPA and COD Wastewater by UV/AWD H2O2 Process
廢水處理廢水！以紫外光結合雙氧水 廢水程序處理異丙醇與化學需氧量廢水
Advanced Process Cobalt Wastewater Treatment and Recycling Achievements
先進製程含鈷廢水處理及其資源化再利用成果
台積電新世代製程新增使用含鈷化學品及靶材，導致廢水鈷濃度提高，因鈷為國際癌症研究機構定義之致癌物，基於企業社會責任台積電以ICP-OES檢測偵測極限(2.3ppb)作為自主管理標準，本文主要呈現先進製程廠區含鈷廢水...
按讚
0收藏
0點閱 (65)
Practical Experience for a New Fab Commission of Chemical Dispense System
新成廠化學供應系統快速驗機方法與實務
化學品供應系統於新廠初期，通常第一波供酸是最緊迫的，建置過程除了工程進度不足還要留意機台需求變更，以及相關毒化物證照取得前也會限制原液洗酸作業，為了滿足機台送酸需求，需要規劃驗機程序，配合commission te...
按讚
0收藏
0點閱 (25)
Innovative management strategies for water systems in the new generation of manufacturing processes
新世代製程之水系統創新管理對策
本文累積過往新成廠經驗，水處理系統在這些過程中遇過許多挫折但也因這些經驗，逐步強化水處理系統防禦機制，發展出一套管理方法，面對快速成廠的過程中，面臨系統尚未完成建置，需逐步與設備協調其純水與化學品洗淨的總量管制，在...
按讚
0收藏
0點閱 (46)
Practice of Biological Process Treatment in Organic Wastewater and Innovative Ideas
生物工藝處理TMAH廢水實踐分享與創新發想
隨著溫室效應的不斷增強，碳達峰、碳中和逐漸成為全球持續關注的話題，而作為半導體行業的領頭羊，公司也在踐行ESG理念，極大地鼓勵並逐步建成建立環境友好型生產處理產綫。在此基礎上，上海厰通過多種小試實驗，結合國內其他行...
按讚
0收藏
0點閱 (18)
Supply Risks and Countermeasures of GC under Extremely Cold Weather
極寒天氣下氣化課供應風險與應對策略
台灣地區位於北緯21°~25°，全年平均氣溫22~27℃，冬季氣候最低僅至4~5℃，目前因極寒天氣造成氣化課運轉異常的報道較少，而隨著台積全球化佈局的進行，各地氣候差異對氣化課運轉影響越來越不可忽視...
按讚
0收藏
0點閱 (16)
Quality control-breakthrough development of analytical instrument for slurry dispense system
品質監控-化學研磨液系統分析儀器突破性發展
半導體先進製程_CMP化學機械研磨，所使用之Slurry 研磨液品質與CMP defects 息息相關，如何適當地分析研磨液品質更顯得重要。研磨液其組成除了包含研磨粒子之外，還包括一些少量且不同功能的化學品，例如:...
按讚
0收藏
0點閱 (23)
Water Electrolysis System for Hydrogen Production and Stable operation Management
水電解產氫技術應用與系統穩定運轉管理
氫氣為晶圓製造上會使用到的大宗氣體(Bulk Gas)，N5製程以下EUV機台更讓用量突增(18廠滿載狀況下，估計氫氣每天需求達48台槽車)，先前台積工廠用的氫氣主要由蒸氣甲烷(天然氣)重整或甲醇裂解方式生產，生產...
按讚
0收藏
0點閱 (79)
The Strategies and Risk Controls of Tainan Science Park Reclaimed Water Implemented in T-Site TSMC.
南科再生水導入規劃及風險控管對策
台積公司為實現綠色製造，與政府合作建立台積電南科再生水廠，其水體主要來源組成為民生污水與工業廢水回收再利用。為了能夠成功導入製程用水取代自來水，且不影響工廠運轉及晶圓製造，本文以與再生水廠簽訂之21項合約水質為標準...
按讚
0收藏
0點閱 (97)
Management Of Facility Water System Operation for Fast Ramping Up
因應新廠快速擴產下的水系統運轉管理心法
近年新廠快速擴展，於2021年達到前所未見的高峰(F12P8, F18P4/P5, AP2C, AP06)，平均每90天完成一座FAB。因應裝機時程緊湊，整體工期需較以往縮減6~9個月，主要挑戰如下 : ①缺工缺料 : ...
按讚
0收藏
0點閱 (30)
The Study of technology of Cleaning 2B3T Anion Resin of Ultrapure Water System
超純水系統之2B3T陰樹脂清洗技術探討
超純水系統中TOC的濃度管控對於高品質供水至關重要。TSMC各廠區在更換2B3T弱陰樹脂過程中面對在樹脂上線初期高濃度TOC殘留的問題，均通過線上多次再生清洗的方式來洗淨新樹脂。本文介紹南京廠建制的線下樹脂清洗裝置...
按讚
0收藏
0點閱 (29)
SDS load cell mixing function upgrade and improve the mixing quality
SDS load cell混酸架構升級與供應不停線之品質精進管理
隨著化學機械研磨製程(Chemical-Mechanical Planarization, CMP)技術不斷演進，因應不同新製程需求轉變下，研磨液 (Slurry)新物料的開發數量持續提升，使得研磨液配方調整需求日益頻繁...
按讚
0收藏
0點閱 (27)
Improvement and practice of wastewater biological treatment system operation
廢水生物處理系統運轉精進與實務
隨著半導體製程技術演進，製程機台使用的有機化學品用量大增，且單槽式晶圓濕式清洗機台數量增多，此型式機台排水有混排狀況，因此先進製程廠區面臨廢水排放化學需氧量(Chemical Oxygen Demand, COD)以及氨...
按讚
0收藏
0點閱 (46)
Comprehend the characteristics of material and enhance the quality of mixing chemical
掌握原物料特性–精進CR168混酸品質
黃光微影製程為半導體製造技術之瓶頸，主要在於現代科技的進步導致線寬的縮限，為了提高晶圓產能及良率，廠區對於原物料供應品質尤其要求。然而許多原物料也因應製程需求添加額外成分(例如 : CR168界面活性劑)連帶影響本身化學...
按讚
0收藏
0點閱 (24)
Management of Chemical Quality– Calculation Model for the Index of Chemical Filtration Times
化學品品質管理–循環過濾次數指標之計算模式
本研究提出兩種新型計算模式，用於計算桶裝化學品供應系統(Drum Unit, DU)的循環過濾次數，分別為概略型估算模式(Rough Estimation Mode, REM)及動態型精算模式(Dynamic Calcu...
按讚
0收藏
0點閱 (32)
ASRS+DHL installation/commissioning/Operational experience
化學品自動化倉儲與高速物流系統建造與運轉實務
長久以來，半導體桶裝化學品倉儲停留在傳統倉儲，大量的人工搬運作業不僅速度慢，化學品傾倒風險也高。惟半導體廠皆是24小時運轉，無法長時間停止產線進行系統升級和連續運轉測試，既有運轉廠區轉型升級成自動化倉儲，卻往往因為空間、...
按讚
0收藏
0點閱 (53)
Management of Waste Chemical from Advanced Process Equipment
先進製程設備機台廢酸排放站前管理
半導體先進製程不斷演進，化學品使用越多元，相對設備機台排放的廢酸越複雜，發生混排的機會越高。本篇研究針對設備廢酸站前排放區分兩大主題 : ①管理層面 ②廠務系統強化，並以某先進製程廠廢液IPA含酸為例，裝機前NTCC及S...
按讚
0收藏
0點閱 (56)