TSMC 廠務季刊

2022.9, Vol.47 / 技術專文

The application of two-fluid atomization nozzle and cyclone dust collection

粉塵變不見 - 二流體與旋風集塵的綜合運用

文 | 姚明宗 | 曾喚培 | 台中廠務三部 |

半導體製程當中，每一道製程均有不同的副生成物，其中爐管製程中的六氯矽乙烷(HCD)與二氯矽甲烷(DCS)高溫燒結與水洗後所產生的二氧化矽(SiO2)粉塵與鹽酸(HCl)一直是難以處理的項目，不但會造...

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2020.6, Vol.36 / 新象新知

New Generation Particle Measurement Technique for Liquid Phase Chemical

新世代液相化學品微粒量測技術

文 | 劉俊男 | 中科廠務五部 |

本文介紹一套由公司和工研院共同合作開發液相化學品微粒量測系統，又稱超級微粒量測儀(SuperSizer, SS)。有別於一般市面上常見的液體微粒計術器(LPC)僅能測至20 nm的微粒，且僅能提供4至5道粒徑區間的測值，...

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2019.9, Vol.35 / 技術專文

Aerosol Reduction Using Depth-filtration Technology in Exhaust System

廢氣中氣膠微粒深度淨化處理技術

文 | 王鄧安 | 中科廠務三部 | 陳博政 | 南科廠務六部 |

半導體製程產生之酸鹼廢氣經化學反應為鹽類固體，分散在空氣中成為懸浮微粒，造成排氣煙囪產生煙霧現象，而引起健康及環保問題。本研究運用高度密合纖維材料構成之深度淨化裝置與現址式洗滌塔設備串聯，針對酸槽之機台尾氣進行氣膠...

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2019.9, Vol.35 / 技術專文

Wet Cyclone Participator of PM2.5 Reduction in Local Scrubber

應用濕式旋風集塵器於製程尾氣處理設備改善細懸浮微粒研究

文 | 張聖杰 | 中科廠務一部 |

PM2.5空氣污染與健康危害之議題近年開始受到重視，為因應民眾對環境品質要求提升的期望，本研究探討目前半導體業界粒狀物防制技術應用，以及製程尾氣處理設備(Local Scrubber,LSC)後端酸性排風管所產生阻...

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2018.9, Vol.31 / 技術專文

A Study of Ultrapure Water Nanoparticle Detection Technologies

談超純水奈米顆粒偵測技術

文 | 林恩添 | 新廠設計部 |

對於液體中顆粒數量之檢測，現今大都以雷射散射法作為判斷依據，受限於光學繞射極限，要偵測到 20nm 以下之奈米顆粒有很高難度，特別是在液體中顆粒數量稀薄的狀況下，如超純水；同時，超純水的奈米顆粒潔淨度又與半導體製程...

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2015.6, Vol.18 / 技術專文

Ultrapure Water Inspection Method for 10 nm

利用掃描式電子顯微鏡之超純水中的10奈米微粒子檢測技術

文 | 呂佩真 | 新廠設計部 | 趙樹華 | 新廠設計部 | 市原史貴 | 奧璐佳瑙科技股份有限公司 |

近年，隨著半導體裝置/元件(Device)的高度積體化，促使製造技術的細微加工化發展，線寬變得越來越狹窄。半導體製造領域的超純水，必須提供高純度的水質，特別是直接影響良率的微粒子(Particle)，其粒徑與濃度都...

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2015.6, Vol.18 / 技術專文

LPC(Large Particle Count) Control

STI 化學機械研磨液之微粒子數量控制

文 | 江宜蓁 | 陳怡蒼 | 曾誌江 | 新廠設計部 |

隨著半導體製程緊湊步伐的演進，化學機械研磨(Chemical-Mechanical Planarization, CMP)，將面臨許多技術瓶頸，刮傷缺陷(scratch defect)即為一例，本文將介紹如何在化學...

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2015.6, Vol.18 / 新象新知

Membrane Filtration Capability Evaluation Method Establishment & Development and Application of Inorganic Membranes for Nanoparticle Removal

薄膜過濾功能鑑別方法建立及無機薄膜於奈米顆粒去除之開發與應用

文 | 林恩添 | 廠務技術發展部 | 童國倫 | 國立台灣大學化學工程學系 |

本文說明建立金粒子搭配ICP-MS 分析之粒子阻擋法作為薄膜過濾功能之鑑別方法，此法最大優點為突破光學顆粒計數器(OPC) 分析之限制(20~50nm)。以此法檢驗本文開發之無機濾膜整體去除效率可達99.9%，顯著...

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金筆獎入圍

2014.6, Vol.14 / 技術專文

Influence of Cleanroom Ambient Humidity on the Formation of Nanoparticles

無塵室環境濕度對於奈米粒子污染生成的影響

文 | 郭啟文 | 廠務技術發展專案 |

Water condensation on wafer surfaces is highly related to the formation of nanometer size defect. In the ma...

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2013.6, Vol.10 / 技術專文

Nanoparticle Contaminants Measuring and Source Tracking Syst

奈米粒子捕捉技術介紹

文 | 郭啟文 | 廠務技術發展專案 |

A new nanoparticle detecting and tracking system has been proposed to measure nanoparticle contamination an...

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2013.6, Vol.10 / 技術專文

Advanced Chemical and Slurry Supply with Particle Control

先進半導體廠化學品供應系統及微粒子控制

文 | 徐銘宗 | 新廠設計部 | 江宜蓁 | 十二B 廠廠務工程專案 | 謝欣容 | 十二B 廠廠務工程專案 |

本文將討論半導體廠化學品及化學研磨液供應系統微粒子控制的設計和改進的方向以及未來的晶圓廠化學品及化學研磨液供應系統新挑戰。其次，研究化學研磨液顆粒大小和穩定性，以管理研磨液使用時間、減少缺陷，特別是大顆粒粒子（LP...

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2012.10, Vol.08 / 技術專文

Nano Particle Control in Facility Design

奈米粒子與防治技術運用於廠務設計

文 | 郭啟文 | 新廠設計部 |

由於製程技術的演進，積體電路線徑一路由65nm、45nm往28nm、22nm向下探伸，持續往16nm甚至更細微的尺寸發展。奈米粒子除了在物理性質與化學性質上，與巨積單元體有顯著差異，成為材料科學的熱門研究領域之外，...

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2012.10, Vol.08 / 技術專文

Performance Test for 40nm Liquide Particle Counter

40奈米液相微粒分析儀實測

文 | 洪舜立 | 專案管理部 |

在晶圓的生產過程中微粒(Particle)會造成品質瑕疵，甚至於報廢，因此如何量測與去除一直是個重要議題，本文針對量測液相流體微粒的新式40奈米微粒分析儀(Particle Counter)與現行主力65奈米分析儀...

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2011.1, Vol.01 / 技術專文

PHOTOCATALYTIC DEGRADATION OF GASEOUS TOLUENE IN AN ULTRASONIC MIST CONTAINING TiO2 PARTICLES

利用光觸媒對氣態甲苯在含有 TiO2 超音波微霧粒環境下降解之探討 - 不需消耗太多的能源

文 | 林語騰 | 國立台灣大學土木工程系 | 吳怡亭 | 國立台灣大學化學工程系 | 許明皓 | 台灣大學環境工程系 | 陳虹瑤 | 台灣大學環境工程系 | 黃正吉 | 計劃整合及研究專案部 PIRP | 吳紀聖 | 國立台灣大學化學工程系 | 張陸滿 | 國立台灣大學土木工程系 |

本研究將凝態的 TiO2 利用超音波原子化器轉換成微霧滴，在不同的條件下對氣態甲苯的光觸媒降解之研究，在 365nm 的 UV 光輻射下，甲苯在光觸媒 TiO2 微霧滴的...

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