Vol.52 / 技術專文
Prospects of Advanced Process Ammonia Nitrogen Wastewater Treatment System-Discussing the Future Development of Supergravity Rotating Bed
先進製程氨氮廢水處理系統展望-談超重力旋轉床未來發展
脫氣膜(MD)系統自開始導入後便成為公司主要的氨氮廢水處理技術,但隨著近年來海外廠區的建置,脫氣膜已非唯一的選擇,隨著國內生物系統及美國日本stripper的建置再到各廠區次氯酸水折點加氯法的普及化,氨氮廢水的處理...

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Vol.52 / 技術專文
The Assessment of Zero Liquid Discharge in Advanced Packing Process wastewater
先進封裝製程廢水零排評估與規劃
隨著半導體製程發展,製程用水日益增多,如何有效將機台排水適當分流並利用水回收技術進行廢水回收成為廠務重要課題。近年來水處理技術不斷發展,實廠應用EDR/BWRO/蒸發罐/結晶罐等技術達成零排放目標,但近年全球公司注...

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Vol.52 / 技術專文
The key challenges of advanced packaging process in Zhunan_Recovery for phosphoric acid wastewater
先進封裝廠零排放技術鑰徑-磷酸廢水資源化
含磷酸之化學藥劑被大量應用於先進封裝製程,而針對此含磷廢水做的化混加藥處理所產生的高導廢水及大量鹽類廢棄物將為未來邁向零排的最重要挑戰之一,故本篇研究藉由電透析法及薄膜法純化磷酸後再利用熱蒸發法使磷酸達再利用濃度,...

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Vol.52 / 技術專文
Advanced Process Cobalt Wastewater Treatment and Recycling Achievements
先進製程含鈷廢水處理及其資源化再利用成果
台積電新世代製程新增使用含鈷化學品及靶材,導致廢水鈷濃度提高,因鈷為國際癌症研究機構定義之致癌物,基於企業社會責任台積電以ICP-OES檢測偵測極限(2.3ppb)作為自主管理標準,本文主要呈現先進製程廠區含鈷廢水...

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Vol.52 / 技術專文
Practice of Biological Process Treatment in Organic Wastewater and Innovative Ideas
生物工藝處理TMAH廢水實踐分享與創新發想
隨著溫室效應的不斷增強,碳達峰、碳中和逐漸成為全球持續關注的話題,而作為半導體行業的領頭羊,公司也在踐行ESG理念,極大地鼓勵並逐步建成建立環境友好型生產處理產綫。在此基礎上,上海厰通過多種小試實驗,結合國內其他行...

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Vol.48 / 技術專文
COD Reduction Strategy and Biological System Operation Management in Advanced Process Plants
先進製程廠區放流水COD削減策略及生物系統運轉管理
隨半導體先進製程發展,晶圓乾燥使用的IPA(Isopropyl alcohol)用量大幅增加(N5約為N7製程的1.5倍)。同時,WET製程中單槽式晶圓濕式清洗機台占比增多,此類型機台排水量大且易造成IPA與其他種...

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Vol.48 / 技術專文
Bio-ACF(BAC)'s technology applied decreasing TMAH of the effluent water
Bio-ACF(BAC)技術應用於廢水TMAH濃度減量之機制與研究
因全球半導體與光電業蓬勃發展,大量使用氫氧化四甲基胺(TMAH)顯影劑。本文中提到傳統樹脂可以有效吸附高濃度TMAH,但對於低濃度TMAH處理效益低,導致放流水TMAH雖符合園區納管標準卻未達ESG排放目標(<1m...

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Vol.48 / 技術專文
System Design and Removal Strategy of PFAS from Semiconductor Wastewater
製程廢水中短鏈全氟化合物去除策略與設計規劃
半導體界近年積極開發工業再生水技術,將自身排放的工業廢水再製供前段製程重新使用,廢水中不易被水處理系統去除的短碳鏈全氟化合物,雖然台灣目前未有制訂法規管制排放濃度,但已開始被重視是否影響再生水水質。本研究探討多方文...

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Vol.36 / 技術專文
Treatment of Advanced Semiconductor Cobalt Sulfate Wastewater
先進半導體硫酸鈷廢水特性與處理技術探討
由於半導體先進製程演進,化學品使用成分複雜,產生製程廢水處理亦趨困難,其中,硫酸鈷廢水主要來源為ECP(Co)與CMP(Co)製程所產生,且先進半導體鈷金屬放流濃度要求為ng/L(ppb)等級,此為先進半導體製程首次面對...

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Vol.36 / 技術專文
New Technology of NH4N High Removal Efficiency and Recycling in Caustic Wastewater-Stripper
鹼性廢水中氨氮的高效脫除與資源再利用新技術
對於半導體製造業大廠,廢水有效處理達到排放要求,高濃度的氨氮廢水處理格外重要,尤其針對南京廠,根據最新出臺的《江蘇省半導體行業排放標準》,政府規定的硫酸鹽類濃度小於600ppm,且氨氮外排標準已由45ppm 調整至20p...

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Vol.36 / 技術專文
Crystallization Technology of Semiconductor Waste Sulfuric Acid Recovery to Industrial Grade Ammonium Sulfate Liquid
半導體廢硫酸回收轉製成工業級硫酸銨乾燥技術探討
為了達成「廢棄物產出最小化與資源回收最大化」的循環經濟理念,台積公司持續推動源頭減量及廠內廢棄物回收再利用。 本次研究導入普遍用於化工業的「結晶乾燥系統」,對硫酸銨廢液進行蒸發濃縮產出工業級硫酸銨晶體,不但節省硫酸銨委外...

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Vol.36 / 技術專文
Discussion and Practice of COD Reduction in Wastewater
外排廢水化學需氧量減量方法探討與實務
隨著製程技術持續推進,許多新的製程機台以及化學品首次導入,我們發現新建廠區有放流水之 COD 值偏高問題。為解決這個問題,我們一方面進行廠內 COD 污染源之追查,透過源頭分析及查找,發現 IPA 為廢水中 COD 之貢...

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Vol.31 / 技術專文
Cobalt Recycle Methodology Study on Waste Water Treatment
廢水外排不鈷息: 先進製程廢水全鈷回收
鈷被大量應用於晶圓先進製程,而其產生之含鈷廢水造成的重金屬汙染對於環境有很大衝擊,需要一個妥善處理含鈷廢水方法,將處理後含鈷有害廢棄物轉換為有價的金屬資源回收,並減少避免處理過程中的衍生環境汙染風險。本篇研究以螯合...

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Vol.27 / 技術專文
The Technology and Opportunity of Zero Liquid Discharge
業界廢水零排技術與機會點
降低環境污染的議題是各國致力追求的目標。從2015年12月國內友廠於新聞發佈製程廢水零排放開始,零排變成各行各業所討論的標竿,但零排放需付出更多的電能,對於環境不見得是友善。本文透過分析業界零排放的重要技術(MBR...

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Vol.27 / 技術專文
A Study of Biological Acute Toxicity
談放流水生物急毒性之研究
本文主要分析半導體廠廢水生物急毒性潛在問題,建立主要毒性物質之管制標準,以作為毒性之減量量及處理理方法選用依據。目前放流水生物急毒性標準檢測方法需48至96小時才能得知急毒性數值,本研究期能即時掌握放流水質狀況,維...

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Vol.27 / 技術專文
Advanced Organic Treating Wastewater with Wastewater– Wastewater Treatment with Bio System
以廢水治廢水─ 以生物處理有機廢水
台積公司廠務製程廢水分流確實,其優勢在於分流後,可規劃流程簡單且較小系統設計量,但也因此需添加更多化學品,例如酸、鹼廢水分流處理後,酸鹼廢水各自需添加化學藥劑進行中和。有鑑於此,我們希望尋找「以廢水治廢水」之機會點...

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