Vol.52 / 技術專文
Management of chemical supply backup system
化學品供酸系統備援機制管理
聯通管路長時間靜置於化學品中,伴隨著不純物析出等品質風險,因此為確保緊急開啟聯通管路供應時不造成品質的異常,本文藉ICPMS及 particle counter數據解析聯通管路內化學品品質,最終透過化學品的flus...

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點閱 (38)
Vol.52 / 技術專文
Innovative management strategies for water systems in the new generation of manufacturing processes
新世代製程之水系統創新管理對策
本文累積過往新成廠經驗,水處理系統在這些過程中遇過許多挫折但也因這些經驗,逐步強化水處理系統防禦機制,發展出一套管理方法,面對快速成廠的過程中,面臨系統尚未完成建置,需逐步與設備協調其純水與化學品洗淨的總量管制,在...

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點閱 (46)
Vol.40 / 技術專文
Management of Chemical Quality– Calculation Model for the Index of Chemical Filtration Times
化學品品質管理–循環過濾次數指標之計算模式
本研究提出兩種新型計算模式,用於計算桶裝化學品供應系統(Drum Unit, DU)的循環過濾次數,分別為概略型估算模式(Rough Estimation Mode, REM)及動態型精算模式(Dynamic Calcu...

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點閱 (33)
Vol.40 / 技術專文
ASRS+DHL installation/commissioning/Operational experience
化學品自動化倉儲與高速物流系統建造與運轉實務
長久以來,半導體桶裝化學品倉儲停留在傳統倉儲,大量的人工搬運作業不僅速度慢,化學品傾倒風險也高。惟半導體廠皆是24小時運轉,無法長時間停止產線進行系統升級和連續運轉測試,既有運轉廠區轉型升級成自動化倉儲,卻往往因為空間、...

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點閱 (54)
Vol.36 / 技術專文
Method and Practice of Chemical Dispense Unit Control System Upgrade without Supply Interruption
化學供應系統之控制單元執行不中斷供應的升級方法與實務
隨著半導體製程由N4X演變至N3,廠務化學品供應系統(CDU)也須同步進化,但在2008年建立之舊式化學品供應系統設計已不符現況,且系統供應商部門解散,造成廠務進化的腳步停滯,必須研擬出新的方法突破現況,以符合N3之先進...

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點閱 (45)
Vol.33 / 技術專文
Site-Selection Strategy of Electronic Material Supply Chain – NJ Site as an Example
電子材料供應鏈選址策略 - 以南京為例
台積電南京廠因主要生產電子材料原物料有95%以上來自非大陸地區,原物料皆需透過長時間的運輸,因此衍生額外的問題如品質、穩定供應及成本等問題。為維持台積電南京廠長期營運穩定及競爭力,需要台積電協助電子材料原物料廠商建...

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點閱 (82)
Vol.31 / 技術專文
New Generation Chemical Coupler Booth Design
新世代化學品灌充口設計
隨著半導體製程持續演進,槽車化學品用量不斷被提高,化學品灌充作業人力也逐年上升;過去也曾因為外部環境品質影響,造成灌充前取樣量測不穩定。本文主要說明如何應用滑軌、氣壓缸與訂製夾具等動力元件於化學品灌充設備中,來設計...

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點閱 (271)
Vol.27 / 技術專文
Drum’s Hyper Logistic (DHL) System for Chemical Drum
桶裝化學品高效供酸新架構
因應未來人力成本高漲以及人力資源取得不易的問題,如何設計一套兼顧效率與供應品質並有效降低因人工操作必須面對的失誤風險,已然成為半導體廠務的重要課題。本計畫設計了一套為桶裝化學品量身打造的高效率輸送及供應系統,藉由高...

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點閱 (163)
Vol.27 / 技術專文
The Fingerprint Database of Chemical PPT Metal Pollution & Improvement
化學品金屬汙染指紋資料庫與改善對策
由摩爾定律「單位面積電晶體數目每18個月就會增加一倍」可知半導體業界晶圓線寬將日漸縮小。因應電晶體線寬的縮小,黃光、蝕刻等製程要求的化學品純度也越高,從早期「百萬分之一」(Parts Per Million, PP...

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點閱 (146)
Vol.27 / 技術專文
Chemical Consuming Defense System
化學品用量異常即時偵測系統
半導體製造工廠所使用之化學品,大部分由廠務端中央供應系統自動供應至產線端設備機台。當設備機台發生異常時,容易發生化學品異常大量使用。為了使化學品異常使用防禦系統達到即時且全面性的能力,廠務與自動化整合部門共同開發「...

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點閱 (57)
Vol.27 / 新象新知
Application of Factory Automation and Intelligentization
廠務自動化與智能化之應用
拜摩爾定律所賜,新科技因成本不斷降低而大幅的躍進。其中自動化技術在這個加速創新的環境下更是站在浪潮頂端,尤其是視覺辨識、視覺導航和微控制技術的結合,讓機器手臂長了眼睛,可以作出更細微的動作。當這項技術容易取得後,一...

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點閱 (147)
Vol.19 / 技術專文
lectrical ExplosionPrevention Guidelines and Practice
電氣防爆規範與實務
本文介紹防爆危險場所之防爆設備安裝、選用規則,以及新建廠之防爆設備規劃。依新建廠防爆區之危險區域劃分結果,大部分區域危險等級劃分為Zone 2,有少部分區域劃分為Zone 1(易燃液體供應區/儲存區之集液井溝)及Z...

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點閱 (42)
Vol.15 / 技術專文
Procedure Optimization for HPM External Ducts Construction
HPM外部管路區施工工序最佳化探討
半導體晶圓代工業競爭日趨激烈,除了高良率的要求外,是否具有足夠產能以隨時滿足客戶的需求亦是競爭力的重要關鍵。在新建廠房的施工過程中,工程施作的品質與工期進度的快慢對於新廠房何時可投入生產影響甚大,唯有以最佳工序工法...

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點閱 (44)
Vol.10 / 技術專文
Advanced Chemical and Slurry Supply with Particle Control
先進半導體廠化學品供應系統及微粒子控制
本文將討論半導體廠化學品及化學研磨液供應系統微粒子控制的設計和改進的方向以及未來的晶圓廠化學品及化學研磨液供應系統新挑戰。其次,研究化學研磨液顆粒大小和穩定性,以管理研磨液使用時間、減少缺陷,特別是大顆粒粒子(LP...

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