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2022.3, Vol.45 / 技術專文
Hollow Fiber-based TOC Filter
中空纖維TOC濾網 - AMC濾網設備化的新紀元
文 | 曹志明 | 廠務技術發展部 |
針對先進製程區域MAU出口端異丙醇/丙酮極低濃度的規範要求，既有活性碳(Active Carbon)型濾網對異丙醇(Isopropyl Alcohol, IPA)以及丙酮(Acetone)去除效率差且握持量不足，極短的時...

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點閱 (24)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Discussion on TOC Filter Recycling Technology　　　　　　　　　　　　
TOC濾網再生技術探討
文 | 鄭鑫 | 竹科廠務一部 |
半導體元件之微影技術的進展隨著製程特徵尺寸(feature size)的快速縮小使得製程環境污染的防治重點已由微粒轉移至氣態分子污染物(AMCs , Airborne Molecular Contaminations)上...

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點閱 (47)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
ECP/B.S. Area IPA total solution and management
防微杜漸–ECP/B.S區環境IPA全面改善及管理機制
文 | 林瑞昆 | 竹科廠務三部 |
隨著製程演進，製程對環境氣膠微汙染控制(AMC)品質要求更嚴格，以ECP/B.S.為例，環境異丙醇(Isopropyl Alcohol, IPA)濃度控制目標值再下降75%，ECP/B.S.區IPA主要來源為外氣空調箱(...

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點閱 (34)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Response Methodology of AMC Contamination and Recovery Procedure
AMC污染應變對策及復原程序
文 | 江維捷 | 南科廠務1廠務一部 |
目前TSMC緊急應變內控作業流程，有針對異味、氣體、化學品洩漏訂立一套處理流程。然而針對氣體、化學品洩漏處理流程，皆是朝硬體設備的復原方向進行，對於洩漏所產生的AMC汙染並沒有說明該如何緊急應變。因此想藉由此次探討，建立...

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點閱 (31)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Intelligent monitoring Method in AMC is applied to Litho Lens for early pollution prevention and filter efficiency detection mechanism
AMC智能監控應用於黃光Lens早期汙染預警防護及濾網效率檢測機制
文 | 蕭睿呈 | 南科廠務1廠務一部 |
半導體產業按照摩爾定律蓬勃發展，對於無塵室內的溫溼度、氣態分子汙染物等生產環境品質的控管越趨嚴格，影響著製程區域產品良率。廠務端以自動分析儀器對環境進行AMC定點監控已成為各廠標準模式，並輔以人力至現場巡檢。本篇為加強黃...

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點閱 (33)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Defense Mechanism of Outside Air AMC MeCl2　　　　　　　　
外氣AMC MeCl2防禦機制
文 | 陳睿森 | 南科廠務1廠務一部 |
半導體的線寬越來精細，製程的複雜度越來越高，相對製程良率受外在環境影響的可能性也越來越大，氣態分子汙染物(Airborne Molecular Contamination, AMC) 一直都是受到關注的對象，也因為製程的...

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點閱 (86)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Analysis and prevention IPA sources in clean room environment
半導體製程無塵室環境IPA來源分析與防治
文 | 張書豪 | 池健誠 | 中科廠務一部 |
隨著製成世代的進步，半導體晶圓製程的線徑也越來越小，但化學品使用量卻越來越多種多樣，本文著重於有使用異丙醇(IPA)的機台其IPA的洩漏改善，由作業觀察到設備的改善活動CIT(Continual Improvement ...

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點閱 (36)
2018.6, Vol.30 / 技術專文
Research on IPA Chemical Filter Efficiency Improvement
談異丙醇化學濾網使用效率提升之研究
文 | 林瑞昆 | 竹科廠務三部 |
異丙醇(IPA)對於電化學電鍍(ECP)製程之晶邊良率具有極大的影響，ECP區域IPA主要來源為外氣空調箱(MAU)引入，汙染源來自於本身或鄰近廠區煙囪排放(約佔70%)，其次為化學研磨製程(CMP)機台洩漏或蝕刻...

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點閱 (131)
2018.6, Vol.30 / 技術專文
Tool Exhaust HEPA Retrofit in Particulate Matter Reduction
高效濾網於機台排氣粒狀物減量之運用
文 | 陳昭文 | 中科廠務三部 | 吳曜安 | 新廠工程管理部 |
近年來PM2.5超過空氣品質標準，環保署公告2018年7月1日起將針對固定污染源的懸浮微粒、細懸浮微粒等粒狀污染物開徵空氣污染防制費，因應粒狀污染物減量趨勢，各廠需積極進行白煙粒狀物改善。目前先進製程的粒狀污染物排...

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點閱 (110)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Improvement of White Smoke and H2SO4 Particle from Stack
煙囪白煙及硫酸微粒防制改善
文 | 洪民翰 | 南科廠務四部 | 鍾善昌 | 南科廠務一部 |
南科十四廠五期於2012年5月開始投入量產，隨著新製程開發也衍生出前所未見的問題與挑戰，其中以濕式蝕刻製程因酸鹼混排延伸出煙道排放白煙以及硫酸微粒等問題最為困擾，既有的廢氣濕式洗滌塔與水渦流機已無法妥善處理白煙以及...

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點閱 (98)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Air Pollution Control Strategy for Next Generation Fab
新世代廠房的空氣汙染防制
文 | 吳曜安 | 劉子銘 | 中科廠務三部 |
台積公司最新世代的晶圓廠房座落於中科擴建區，為因應日益嚴峻的環保法規及民眾對環境品質要求提升的期望，新廠在空氣汙染防治部分，導入最先進的技術與設備，包括：中央洗滌塔水力薄膜、排放源導入現址型洗滌塔、水霧系統及HEP...

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點閱 (110)
2015.6, Vol.18 / 技術專文
LPC(Large Particle Count) Control
STI 化學機械研磨液之微粒子數量控制
文 | 江宜蓁 | 陳怡蒼 | 曾誌江 | 新廠設計部 |
隨著半導體製程緊湊步伐的演進，化學機械研磨(Chemical-Mechanical Planarization, CMP)，將面臨許多技術瓶頸，刮傷缺陷(scratch defect)即為一例，本文將介紹如何在化學...

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點閱 (72)
2015.6, Vol.18 / 新象新知
Design and Application of Upward Clean Air Circulation System
上回風潔淨循環系統的設計與應用
文 | 曹志明 | 新廠設計部 | 徐明甫 | 新廠設計部 | 胡石政 | 國立台北科技大學潔淨技術中心 |
傳統FFU-DCC式之潔淨室設計，對於機台本身熱散逸至潔淨室所產生熱對流作用之上升氣流，容易與FFU向下送的潔淨循環氣流相撞後彼此產生干擾，迫使潔淨循環氣流無法達成有效的動量輸送，造成微粒滯留在潔淨室內；利用FDC...

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2011.7, Vol.03 / 技術專文
Application of ASHRAE 52.2 Air Filter in USGBC LEED-NC
ASHRAE 52.2空氣濾網在美國綠建築LEED-NC的應用
文 | 呂坤福 | 研究專案部 |
由於國家政府及企業不斷的向外尋求資源或產品，在國際交通網路便捷性不斷的提昇下，跨國性貿易行為正蓬勃發展，從已開發國家、開發中國家並延伸至未開發國家。為確保合約雙方對產品品質及性能達成共識，共通標準遂應運而生，空氣濾...

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