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水處理 Water Treatment 70 最新文章 熱門文章 按讚數
Vol.31 / 技術專文
A Study of Ultrapure Water Nanoparticle Detection Technologies
談超純水 奈米顆粒偵測技術
對於液體中顆粒數量之檢測,現今大都以雷射散射法作為判斷依據,受限於光學繞射極限,要偵測到 20nm 以下之奈米顆粒有很高難度,特別是在液體中顆粒數量稀薄的狀況下,如超純水;同時,超純水的奈米顆粒潔淨度又與半導體製程...

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金筆獎入圍
Vol.06 / 特別企劃
TMAH Reclaim in Green Recycle
四甲基氫氧化銨(TMAH)綠色循環回收再利用
以四甲基氫氧化銨(TMAH) 作為顯影劑,已廣泛使用在半導體業及光電產業等高科技產業,所產生之污染也因此與日俱增。TMAH廢液同一般鹼類具有腐蝕性,亦因製程之不同,不純物可能包含: 光阻劑、介面活性劑、重金屬陽離子...

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Vol.31 / 技術專文
Applying Leveling Agent in W-CuSO4 Plating System for Performance Enhancement
平整劑應用於液中求銅系統產能提升
廢液電解中常因部分干擾物質造成電鍍層外表結構不一定規則狀,在共同的電流下,端子離陽極距離較近的部位稱為局部高電流區,局部高電流區電解形成速度較快,在惡性循環下造成銅花的情形發生,進而造成橋接短路發生,廢液電解中最常...

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Vol.31 / 技術專文
Cobalt Recycle Methodology Study on Waste Water Treatment
廢水外排不鈷息: 先進製程廢水全鈷回收
鈷被大量應用於晶圓先進製程,而其產生之含鈷廢水造成的重金屬汙染對於環境有很大衝擊,需要一個妥善處理含鈷廢水方法,將處理後含鈷有害廢棄物轉換為有價的金屬資源回收,並減少避免處理過程中的衍生環境汙染風險。本篇研究以螯合...

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Vol.52 / 技術專文
Prospects of Advanced Process Ammonia Nitrogen Wastewater Treatment System-Discussing the Future Development of Supergravity Rotating Bed
先進製程氨氮廢水處理系統展望-談超重力旋轉床未來發展
脫氣膜(MD)系統自開始導入後便成為公司主要的氨氮廢水處理技術,但隨著近年來海外廠區的建置,脫氣膜已非唯一的選擇,隨著國內生物系統及美國日本stripper的建置再到各廠區次氯酸水折點加氯法的普及化,氨氮廢水的處理...

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Vol.31 / 技術專文
A Study of Ammonium Sulfate Concentrated Technique
硫酸氨提濃技術探討
隨著法規納管標準漸趨嚴謹,半導體製程中廣泛使用氨水及硫酸,造成排放廢水含有高濃度氨氮以及廢硫酸廢棄物。業界普遍以脫氣膜方式去除水中氨氮濃度,進而衍生產出硫酸氨廢棄物。故本文介紹利用氨氮系統參數優化調整及硫酸氨回流等...

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Vol.40 / 新象新知
Special gas rapid quality detection system
特殊氣體品質快篩系統
半導體先進製程不斷提升下,面臨著如何確保氣體品質以提高產品良率與降低製程成本等問題。針對快篩檢驗鋼瓶氣體品質開發特殊氣體品質快篩系統(Special Gas Rapid Quality Detection System)...

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Vol.48 / 技術專文
The Strategies and Risk Controls of Tainan Science Park Reclaimed Water Implemented in T-Site TSMC.
南科再生水導入規劃及風險控管對策
台積公司為實現綠色製造,與政府合作建立台積電南科再生水廠,其水體主要來源組成為民生污水與工業廢水回收再利用。為了能夠成功導入製程用水取代自來水,且不影響工廠運轉及晶圓製造,本文以與再生水廠簽訂之21項合約水質為標準...

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點閱 (97)
Vol.40 / 新象新知
The Feasibility of Using UV254 to Replace TOC/COD Analyzer
水質監測以UV254取代TOC/COD分析儀可行性評估
因應半導體製程日趨進步,傳統總有機碳(Total Organic Carbon, TOC)及化學需氧量(Chemical Oxygen Demand, COD)監測方式分析時間長,較難反映水質的快速變化,本文根據Beer...

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Vol.27 / 技術專文
Effluent Reclamation-Optimization in Operation of Process Pilot
工業再生水研發─ 回收模廠運轉最佳化
再生水模廠(AOP Pilot)設備於2015年11月導入晶圓工廠排放廢水,成功克服原水高濃度TOC,然處理流程複雜及運轉成本較高;我們完成高難度的晶圓廠排放廢水,接著最終目標是處理南科放流水,從中找出流程簡化且兼...

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Vol.27 / 技術專文
A Study of Biological Acute Toxicity
談放流水生物急毒性之研究
本文主要分析半導體廠廢水生物急毒性潛在問題,建立主要毒性物質之管制標準,以作為毒性之減量量及處理理方法選用依據。目前放流水生物急毒性標準檢測方法需48至96小時才能得知急毒性數值,本研究期能即時掌握放流水質狀況,維...

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Vol.23 / 技術專文
Withdraw Copper from Waste Copper Sulfate-Application of Annular Cylindrical Electrochemical Cells
液中求銅-製程廢硫酸銅回收裝置應用
硫酸銅(CuSO4)為LSI銅製程之重要原料之一,其製程(ECP)廢液濃度可達20 g/L以上,極具回收價值。現行因放流水質限制(竹科放流水銅檢出量需小於1ppm),本公司高濃度廢硫酸銅均採委...

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Vol.36 / 技術專文
Crystallization Technology of Semiconductor Waste Sulfuric Acid Recovery to Industrial Grade Ammonium Sulfate Liquid
半導體廢硫酸回收轉製成工業級硫酸銨乾燥技術探討
為了達成「廢棄物產出最小化與資源回收最大化」的循環經濟理念,台積公司持續推動源頭減量及廠內廢棄物回收再利用。 本次研究導入普遍用於化工業的「結晶乾燥系統」,對硫酸銨廢液進行蒸發濃縮產出工業級硫酸銨晶體,不但節省硫酸銨委外...

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Vol.52 / 技術專文
Improvement Of Water Quality In Washing Towers For Air Pollution Reduction(NMHC)
空氣污染(NMHC)減量之空污設備(洗滌塔)用水水質改善
F12P3以源頭分流改善及提升污染物防制設備處理效能的兩個主軸方式,致力於各項空氣污染減量(污染物為硝酸、磷酸、硫酸、氫氟酸、鹽酸、氯氣、氨氮、VOCs(NMHC代表),達到源頭減量、降低排放濃度。盤查分析發現LW...

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金筆獎入圍
Vol.23 / 技術專文
Treat Wastewater by Wastewater! Treatment of IPA and COD Wastewater by UV/AWD H2O2 Process
廢水處理廢水!以紫外光結合雙氧水 廢水程序處理異丙醇與化學需氧量廢水
本文測試目的為利用高級氧化程序處理廠內含IPA與COD有機廢水,測試中利用廠內含H2O2廢水當為水處理原料並結合UV催化系統所形成OH‧自由基處理廠內含高濃度有機廢水,經由測試結果IPA去除率達99.5%,COD和...

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Vol.27 / 技術專文
The Technology and Opportunity of Zero Liquid Discharge
業界廢水零排技術與機會點
降低環境污染的議題是各國致力追求的目標。從2015年12月國內友廠於新聞發佈製程廢水零排放開始,零排變成各行各業所討論的標竿,但零排放需付出更多的電能,對於環境不見得是友善。本文透過分析業界零排放的重要技術(MBR...

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