Exhaust Revolution - Innovatory Idea of Volatile Organic Compounds Reduction
排氣革命 - 揮發性有機物減量新思維
A New Perspective Heat Recovery - Total Heat Recovery and War Against Cold
全新角度檢視水側熱回收 - 全熱回收抗寒大作戰
目前廠內35℃溫水熱源使用12℃冰機冷卻水出水溫度供應，在無塵室低負載或者極劣氣候-寒流狀態下，因已無熱能再被12℃冰機吸收，會直接影響35℃溫水溫度下降，間接影響到無塵室溫、溼度控制。因此本文提出新運轉手法再進化...
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The Dynamic Energy Saving MAU
動態節能外氣空調箱
公司在廠房設計階段，就已經將綠建築納入設計發包範圍內，接著就該思考如何將智慧化措施也納入設計中。在針對無塵室空調系統各單元深入解析後，將實際運轉經驗知識化，並透過監控系統自動化，導入了智能系統即完成了標準化的動態節...
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The Brief Introduction of the Application of Run-Around Coil Heat Recovery System to MAU
淺談盤管環路熱回收系統在外氣空調箱的應用
節能減碳，提高能源使用效率已成為當前刻不容緩的議題之一。本文透過對於盤管環路熱回收系統的介紹，以及瞭解該系統在實際空調領域的應用方式後，說明如何將盤管環路熱回收系統導入半導體廠「外氣空調箱」（Make-up Air...
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Development and Application of Energy Conversion Factors (ECFs) Calculator of Fab Facility Systems
廠務能源轉換係數計算器之研究發展及應用
製程機台的耗能除了本身直接的電力需求外，尚需考量廠務系統之能耗，SEMI S23定義了能源轉換係數為提供單位製程設施使用量所需之耗電量，透過廠務「能源轉換係數」（Energy Conversion Factor, ...
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Micro Contamination Prevention -Application of IPA Reduction in F12P6 ECP Area
微污染防治 - 十二廠六期電化學電鍍製程環境異丙醇減量之應用與探討
隨著半導體製程快速演進，氣態分子汙染物(AMC)對於半導體廠的製程良率有顯著影響，異丙醇(IPA)為常見之溶劑，普遍用於機台清潔與製程內晶圓清洗，已有許多案例證實IPA對於電化學電鍍（ECP）製程之晶邊良率具有極大...
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New Design of VOCs Abatement System : Regenerative Thermal Oxidizer and Rotary Recuperative Thermal Oxidizer
揮發性有機物削減設備節能新設計：蓄熱焚化爐與旋轉閥式蓄熱焚化爐
目前公司廠內所使用的有機廢氣處理，採用沸石濃縮後再以高熱進行焚化，並且利用熱回收，將燃燒後的廢熱透過熱交換提高燃燒前的廢氣溫度；而隨著節能的目標不斷提升，燃燒所消耗的燃料量也漸漸受到重視，以熱再生技術取代熱回收技術...
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金筆獎入圍
Local Scrubber Enhancement─ UV Technology Application in N2O Reduction
廢氣處理設備大突破 - 紫外光技術應用於氧化亞氮減量
2015年12月聯合國COP21巴黎協定，通過限制全球升溫不超過攝氏2度的目標，各國政府紛紛提出國家自定減碳計畫，面對日益嚴格之溫室氣體減量管制趨勢，為達到廠區自我要求改善目標，本文以目前台積電僅次於PFCs第二大...
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Multi-Function Wet Scrubber Design Development and Application
酸鹼通吃 - 一機多用型濕式洗滌塔設計開發與應用
隨著半導體精密製程快速演進，機台製程排氣酸鹼分流亦越來越困難而造成酸鹼混排處理不當，使產生排氣煙囪冒白煙的情況越來越容易發生。本文將針對各世代製程排氣處理對於洗滌塔設計的發展沿革進行探討說明，並以既設廠區設計搭配原...
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The Check Damper Development and Application for AAS System
逆止風門開發及應用
由於半導體製造技術愈趨複雜化及精密且產能不斷的提升，讓排氣系統面對的不只是要符合日益嚴格的法規要求，更要提供更穩定及安全的負壓；這無疑是排氣系統的一大挑戰。 本文所探討的是目前排氣系統中平時最不被注意，但又是在操作...
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Purge FOUP AMC Chelating with Chilling Impinger Sampling Technique for N16 Generation
16奈米世代晶圓傳送盒吹淨微污染耦合冷凝取樣新式技術
16奈米與20奈米之量產製程，廣泛應用具吹淨功能的晶圓傳送盒 FOUP(Front Opening Unified Pod)內。然因FOUP內可供採集的容積限制與其內含之污染濃度極其微量，故甚難就晶圓於FOUP內部...
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Application of Photoionization Detector for Real-time AMC Monitoring in Cleanroom
光離子化偵測器在潔淨室內空氣分子污染物即時監控的應用
已有證據顯示空氣分子污染物(AMC)對半導體廠的製程良率具有顯著影響，不少案例證實其對晶圓缺陷(Defect)的直接關聯，包含腐蝕、成形異常或電性異常等問題，因此部份大廠將AMC納入潔淨室環控因子；另外，隨著半導體...
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LPC(Large Particle Count) Control
STI 化學機械研磨液之微粒子數量控制
隨著半導體製程緊湊步伐的演進，化學機械研磨(Chemical-Mechanical Planarization, CMP)，將面臨許多技術瓶頸，刮傷缺陷(scratch defect)即為一例，本文將介紹如何在化學...
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Design and Application of Upward Clean Air Circulation System
上回風潔淨循環系統的設計與應用
傳統FFU-DCC式之潔淨室設計，對於機台本身熱散逸至潔淨室所產生熱對流作用之上升氣流，容易與FFU向下送的潔淨循環氣流相撞後彼此產生干擾，迫使潔淨循環氣流無法達成有效的動量輸送，造成微粒滯留在潔淨室內；利用FDC...
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金筆獎入圍
Simulation of Stack Emission and the Impact on Cleanroom Intake Air
以計算流體力學模擬煙囪對外氣空調箱進氣品質的影響
本研究採用有限體積法，透過計算流體力學(CFD)軟體 – Ansys-FLUENT進行相關分析，以一新建廠房相關數據進行模型的建立，同時將鄰近廠區相關數據納入評估，針對該廠區在不同季節條件下，污染物(總...
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金筆獎入圍
Influence of Cleanroom Ambient Humidity on the Formation of Nanoparticles
無塵室環境濕度對於奈米粒子污染生成的影響
Water condensation on wafer surfaces is highly related to the formation of nanometer size defect. In the ma...
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Membrane Type Outdoor Air Humidifier and Washer
膜板式外氣水洗加溼器加濕裝置研究
為同時達成潔淨室外氣空調箱加濕以及淨化外氣，並延長高效過濾器以及化學過濾器的壽命，水洗加濕器已成為外氣空調箱的標準配備。傳統的水洗加濕器大多藉由加壓循環泵輸送洗滌水，直接吸收來自外界的固態微粒及氣態汙染物，然而考量...
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