Vol.52 / 技術專文
Increasing the capacity of Ammonium Sulfate Crystallization
循環經濟-硫酸銨結晶系統產能提升策略
2018年台積引入機械式蒸氣再壓縮技術處理硫酸銨廢液,2021年將此技術由中科導入至竹科與南科。竹科與中南科非同系統商建造,其系統設計有部分不同,故在實務運轉之操作參數亦有差異;F12B藉由控制結晶顆粒大小來穩定推...

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Vol.52 / 技術專文
Improving reclamation efficiency of Waste Piranha Solution
高濃廢硫酸再利用創新改良-廢硫酸稀釋法實務應用
廢硫酸回收系統(Waste Sulfuric acid recycling system)有其運轉規範要求,針對新建廠初期即面臨廢硫酸濃度過高、雙氧水(Hydrogen peroxide)濃度過低之狀況,若採用現況...

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Vol.52 / 技術專文
New Waste Sulfuric Acid Recycle System Development
新世代的廢硫酸回收處理系統開發
目前台積電各廠皆以鹽酸法去除廢硫酸中的雙氧水後回用於氨氮廢水處理等系統,本文針對既有鹽酸法所衍生之含氯物質(氯氣、氯離子)之腐蝕、殘留等問題作一探討和研究後,提出新的處理技術-硝酸法,並透過實驗室以及模廠兩種不同等...

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Vol.51 / 技術專文
Establishment of ammonium sulfate drying system and air pollution control technology
循環經濟_硫酸銨乾燥系統設立與空污防治技術
隨著產能及研發規模持續擴充,台積公司採取「廢棄物產出最小化,資源循環使用最大化」的廢棄物管理方針。其中,針對廢硫酸及氨氮廢水,繼民國104年成功轉製為可委外再利用的硫酸銨廢液;台積公司再次領先業界、進一步導入「機械...

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Vol.51 / 技術專文
Discussion of the ability of Salix to capture ammonium salt droplets and the outlook of VOCs flow at Polymer/PR Stripping process.
Salix應用於Polymer/PR Stripping之銨鹽類霧滴捕捉能力提升與VOCs流向展望
Polymer/PR Stripping 濕製程使用Wet Bench常見的高溫硫酸(SPM)與NH4OH,並同時利用IPA洗滌Wafer表面,故在製程尾氣處理具有酸性氣體與有機物(VOCs)...

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Vol.45 / 技術專文
Application of a new technology for capturing wet bench process produced particles-wet electrostatic precipitator(Wet-EP)
濕式製程微粒攔截新技術應用(WET-EP)
本研究主要針對高溫硫酸清洗機台(HT-SPM)排放的廢氣進行改善,該設備除了化學品用量的增加外,從N16到N3風量也由2,400CMH增加到7,200CMH。這些廢氣中不僅含有大量的酸鹼氣體,更因酸鹼混排產生了大量...

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Vol.44 / 技術專文
Optimization Of Waste H2SO4 Decrease H2O2 System
廢硫酸去除雙氧水系統最佳化探討
本文以「最佳化探討」(Optimization)廢硫酸去除雙氧水系統,針對廢硫酸(W-H2SO4)去除雙氧水(H2O2)回收系...

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Vol.40 / 技術專文
Challenges and Strategies for the Biological Acute Toxicity of Effluents to Daphnia
放流水生物急毒性悠活水蚤的挑戰與對策
現況廠內放流水之H2O2經由過氧化氫酶(Catalase)酵素的降解後,已使得脊椎生物TUa<1.43(Toxicity Unit Acute, TUa)之機率大幅提高,...

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點閱 (55)
Vol.40 / 技術專文
Operation and Maintenance for Crystallization Technology of Industrial Grade Ammonium Sulfate Liquid
硫酸銨乾燥系統運轉實務與維護保養
應用節能的機械式蒸氣再壓縮技術,將30%液態硫酸銨經由蒸發、濃縮再結晶 ,製作成為固態再生資源產品,以物理反應執行,將液體相變化為固體,使體積減少的機制達成減廢,雖原理簡單,但由於高濃度含結晶顆粒溶液,運作特性不同於以往...

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點閱 (35)
Vol.36 / 技術專文
Treatment of Advanced Semiconductor Cobalt Sulfate Wastewater
先進半導體硫酸鈷廢水特性與處理技術探討
由於半導體先進製程演進,化學品使用成分複雜,產生製程廢水處理亦趨困難,其中,硫酸鈷廢水主要來源為ECP(Co)與CMP(Co)製程所產生,且先進半導體鈷金屬放流濃度要求為ng/L(ppb)等級,此為先進半導體製程首次面對...

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點閱 (67)
Vol.36 / 技術專文
New Technology of NH4N High Removal Efficiency and Recycling in Caustic Wastewater-Stripper
鹼性廢水中氨氮的高效脫除與資源再利用新技術
對於半導體製造業大廠,廢水有效處理達到排放要求,高濃度的氨氮廢水處理格外重要,尤其針對南京廠,根據最新出臺的《江蘇省半導體行業排放標準》,政府規定的硫酸鹽類濃度小於600ppm,且氨氮外排標準已由45ppm 調整至20p...

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點閱 (72)
Vol.36 / 技術專文
Crystallization Technology of Semiconductor Waste Sulfuric Acid Recovery to Industrial Grade Ammonium Sulfate Liquid
半導體廢硫酸回收轉製成工業級硫酸銨乾燥技術探討
為了達成「廢棄物產出最小化與資源回收最大化」的循環經濟理念,台積公司持續推動源頭減量及廠內廢棄物回收再利用。 本次研究導入普遍用於化工業的「結晶乾燥系統」,對硫酸銨廢液進行蒸發濃縮產出工業級硫酸銨晶體,不但節省硫酸銨委外...

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點閱 (85)
Vol.35 / 技術專文
Reduction Strategy for Sulfuric Acid Emission of Stack in Semiconductor Industry
半導體業煙道硫酸排放減量策略
在12吋晶圓廠中隨著產能不斷提升,排氣風量與硫酸使用量增加,硫酸排放總量逐漸受到主管機關的重視。以最新12吋晶圓廠為例,使用硫酸的最大來源是高溫硫酸製程機台及廠務桶槽,參考文獻研究顯示處理廢氣入口濃度越高洗滌塔處理...

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Vol.32 / 技術專文
Safety Design for the System to Remove Hydrogen Peroxide from Waste Sulfuric Acid
廢硫酸去除雙氧水系統 安全防護提升
本文以危害與可操作性分析(HAZOP)及收集13個廠區運轉經驗,評估廢硫酸 (W-H2SO4) 去除雙氧水 (H2O2) 回收...

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Vol.31 / 技術專文
A Study of Ammonium Sulfate Concentrated Technique
硫酸氨提濃技術探討
隨著法規納管標準漸趨嚴謹,半導體製程中廣泛使用氨水及硫酸,造成排放廢水含有高濃度氨氮以及廢硫酸廢棄物。業界普遍以脫氣膜方式去除水中氨氮濃度,進而衍生產出硫酸氨廢棄物。故本文介紹利用氨氮系統參數優化調整及硫酸氨回流等...

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Vol.30 / 技術專文
Application of Demister in Removal Performance Enhancement of Inorganic Acid and Base in Scrubber
水力薄膜應用於洗滌塔中 無機酸鹼去除效率之探討
半導體製程中經常使用到大量的有機溶劑及化學酸鹼溶液,部分化學物質會經由揮發或者高溫霧化而被排氣系統所收集至中央洗滌塔處理後排放,其中以濕式蝕刻製程因酸鹼混排延伸出排氣風管結晶與煙囪排放白煙以及硫酸微粒等問題最為困擾...

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