Treat Wastewater by Wastewater! Treatment of IPA and COD Wastewater by UV/AWD H2O2 Process
廢水處理廢水！以紫外光結合雙氧水 廢水程序處理異丙醇與化學需氧量廢水
Advanced Organic Treating Wastewater with Wastewater– Wastewater Treatment with Bio System
以廢水治廢水─ 以生物處理有機廢水
台積公司廠務製程廢水分流確實，其優勢在於分流後，可規劃流程簡單且較小系統設計量，但也因此需添加更多化學品，例如酸、鹼廢水分流處理後，酸鹼廢水各自需添加化學藥劑進行中和。有鑑於此，我們希望尋找「以廢水治廢水」之機會點...
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Strict Defense – The Optimum Operation Defense of Ammonia Nitrogen System Membrane Degasifier
禦敵從嚴─氨氮系統脫氣膜最佳運轉防禦
半導體製程中會產生高濃度氨氮廢水，廠內以脫氣膜資源最佳化方式去除水中氨氮，脫氣膜法於膜管內通以硫酸，膜管外通以氨氮廢水，藉由質傳效應使硫酸吸收廢水中氨氣，形成硫酸銨副產物。此方法除了可消耗廠內製程行為產生之大量廢硫...
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Reverse Flush Strategy Analysis of Reverse Osmosis in High Concentration Wastewater Environment
逆滲透膜於高濃廢水下之反向流交互產水操作策略
對半導體製造業大廠而言，水資源高度依賴與廢水排放品質，視為汙染減量與環境改善之標竿，2016年新設之逆滲透二段濃縮處理設備，負責進階回收內含氫氟酸廢水與廢氣洗滌塔廢水之逆滲透濃縮廢水，該廢水導電度極高，並內含多種化...
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Effluent Reclamation-Optimization in Operation of Process Pilot
工業再生水研發─ 回收模廠運轉最佳化
再生水模廠(AOP Pilot)設備於2015年11月導入晶圓工廠排放廢水，成功克服原水高濃度TOC，然處理流程複雜及運轉成本較高；我們完成高難度的晶圓廠排放廢水，接著最終目標是處理南科放流水，從中找出流程簡化且兼...
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金筆獎入圍
Treat Wastewater by Wastewater! Treatment of IPA and COD Wastewater by UV/AWD H2O2 Process
廢水處理廢水！以紫外光結合雙氧水 廢水程序處理異丙醇與化學需氧量廢水
本文測試目的為利用高級氧化程序處理廠內含IPA與COD有機廢水，測試中利用廠內含H2O2廢水當為水處理原料並結合UV催化系統所形成OH‧自由基處理廠內含高濃度有機廢水，經由測試結果IPA去除率達99.5%，COD和...
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Design and Experience Sharing for Acidic Waste Drain (O3) Reclaim to Ultrapure Water system
含臭氧酸鹼廢水回收至純水之設計與運轉分享
含臭氧酸鹼廢水為含臭氧的機台排放廢水，其為擴散及蝕刻機台之臭氧產生器與純水混和用來清洗晶圓上的微量有機物。透過排水水質量測及用途追蹤，發現其水質特性為高氧化性、低導電度，總有機碳濃度可達純水回收標準。然而臭氧氧化性...
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New Sterilization Technology - Composite Pulse and Plasma Sterilization Technology
生態保育水活化殺菌技術大進化 - 脈衝電漿殺菌技術
為追求環境保護與生態保育之目標，科學園區管理局針對園區廠商制定嚴格之放流水排放標準，用以降低放流水生物急毒性（TUa）。水處理系統近年來新增氫氧化四甲基銨（TMAH）、氨氮（NH3-N）、廢硫酸（W-H2SO4）處...
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New Blue Ocean of Energy Saving and Waste Reduction - The Principle and Application of MVR
節能減廢新藍海 - 機械式蒸氣再壓縮系統原理概述及應用
廢棄物減量為公司綠色製造主軸之一，2015年致力於廢硫酸去除雙氧水回收再利用，大幅減少廢硫酸委外清運量及處理費用。2016年隨占比調整，30%硫酸銨已躍居最大宗廢棄物，分析30%硫酸銨其中水份佔70%，除增加廢棄物...
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Withdraw Copper from Waste Copper Sulfate-Application of Annular Cylindrical Electrochemical Cells
液中求銅－製程廢硫酸銅回收裝置應用
硫酸銅（CuSO4）為LSI銅製程之重要原料之一，其製程（ECP）廢液濃度可達20 g/L以上，極具回收價值。現行因放流水質限制（竹科放流水銅檢出量需小於1ppm），本公司高濃度廢硫酸銅均採委...
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Study on New Type of UV in TOC Removal Capability and Operation Benefit in UPW System
新型紫外線裝置對超純水總有機碳去除效率探討及效益分析
近年來半導體技術不斷演進，元件線寬越來越精密，製程環境中微量污染物將影響產品良率，微量有機物之去除是穩定超純水水質、提升良率之關鍵。一般而言，UPW中有機物質常以總有機碳表示，而UV是UPW系統中去除TOC之關鍵角...
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Effluent Reclamation - Design and Operation of Advanced Oxidation Process Pilot
工業再生水研發 - 高級氧化法模廠的設計與運轉
再生水模廠(AOP Pilot)設備於2015年8月進廠安裝，11月施工完成後導入晶圓工廠排放廢水進行試車，2016年6月模廠進行168小時連續運轉測試。測試時原水TOC大於設計預估值80 ppm，達120-160...
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金筆獎
Ammonia Removal Analysis by Combing RO Concentration and the MAP Method
二次逆滲透濃縮聯合磷酸銨鎂沉澱法之氨氮減量分析研究
對半導體製造業大廠而言，水資源的高度依賴性與廢水排放需求，為汙染減量與環境改善之標竿，近年政府特別將氨氮廢水視為重點改善目標，各科學園區藉由訂定放流汙水納管限值或規劃除氮廢水系統積極因應，面對日益嚴格之氨氮減量管制...
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Effluent Reclamation - Application of Advanced Oxidation Process
放流水再生利用 - 高級氧化法(AOP)的應用
放流水再生利用的關鍵技術是去除放流水中有機物，尤其是低分子量有機碳氮，使再生水水質達到相當於自來水水質低分子量有機物(含尿素)含量水準。 高級氧化法(AOP)是種新的水處理方法，利用氫氧自由基(OH．)的強氧化力，...
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Ultrapure Water Inspection Method for 10 nm
利用掃描式電子顯微鏡之超純水中的10奈米微粒子檢測技術
近年，隨著半導體裝置/元件(Device)的高度積體化，促使製造技術的細微加工化發展，線寬變得越來越狹窄。半導體製造領域的超純水，必須提供高純度的水質，特別是直接影響良率的微粒子(Particle)，其粒徑與濃度都...
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New Technology for Ammonia Recycling from Wastewater
創新氨氮廢水資源化
半導體事業所排放的廢水常含有高濃度的氨氮與雙氧水，具有高污染濃度、高生物毒性等特性，依新制之放流水標準，對於氨氮廢水的處理是刻不容緩的。本文介紹以脫氣膜(MD)的處理方式，將廢水中的氨氮轉換為硫酸銨廢液，企圖將廢水...
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Inhibition Of Copper Corrosion By Removal Of H2O2 From CO2-Dissolved Water Using Palladium Catalysts
鈀(Pd)觸媒於超純水中去除雙氧水以抑制銅腐蝕之應用
超純水系統因紫外光的照射會導致內含有10～40μg/L的雙氧水，另雙氧水處於超純水酸性環境中會加速銅腐蝕的行為。目前發現藉由鈀觸媒陰離子樹脂(Palladium-loaded monolithic anion...
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