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2024.4, Ann.2023 / 技術專文
Sharing of Fab 12B Annual Maintenance Report and Gas PCV Valve Maintenance Experience
Fab 12B 年度維修報告及氣體 PCV 主閥維修經驗分享
文 | 邱士齊 | 研發廠務部 | 曾俊傑 |
F12B(F12P6/7) 於 Y2023 分別執行大型 (100% 停電 ) 及中型 (44% 停電 )APM，共計執行 30.5 套低壓列盤停電保養、 ACB 保養與相對應的 relay 保養測試共 709 顆，另外...

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2023.09, Vol.51 / 技術專文
VOC introduces new technology and moves towards net zero emission of air pollution
VOC導入新技術_邁向空污淨零排放
文 | 洪鈺葳 | 台中廠務一部 | 蔡景安 | 台中廠務一部 |
沸石轉輪濃縮系統作為台機廠區的主要揮發性有機物（VOCs）防制設備，其中其吸附能力為處理效率之關鍵，然而高沸點VOCs會因脫附溫度不足進而隨時間殘留於沸石轉輪中，大部分廠區透過提升脫附溫度來改善此一現象，卻忽略材料...

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2023.09, Vol.51 / 技術專文
The Investigation and Application of Central Scrubber for Ammonia Emission Reduction
與時俱進的煙道革命_廠區洗滌塔氨氣排放削減研究與應用
文 | 吳瑞興 | 台南廠務一部 | 陳元昊 | 綠色製造部 | 邱冠瑋 | 台南廠務一部 | 陳睿森 | 台南廠務二部 |
隨著空氣污染防治議題蓬勃發展、環保法規日益嚴峻等等原因，空氣污染防治技術及煙道排放濃度減量逐漸成為關注焦點。TSMC F6及F14A共同遭遇的空污問題以酸性洗滌塔(SEX)酸鹼混排及去除效率不佳為主，為符合未來法規...

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2023.09, Vol.51 / 技術專文
Development and research on monitoring technology of arsenic-containing waste gas in Nanjing Factory
南京廠含砷廢氣的監管技術的發展與研究
文 | 張波 | 南京廠務部 |
含砷廢氣作為劇毒性氣體，在大陸環保管制被從嚴要求，監管手段除了常規的煙囪出口量測，更趨向于源頭管控。本文因應法規要求，於前端現址式處理裝置出口設置單獨風管收集，並設立標準檢測口進行標準化採樣檢測，在廢氣進入主管段之...

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2022.3, Vol.45 / 技術專文
With more strictly air pollution regulations, Local Scrubber improve strategy for aged operation Fab
日趨嚴謹空污法規對於成廠區LSC之精進改善
文 | 盧泓佑 | 新竹廠務二部 | 康智翔 | 新竹廠務二部 |
歷經二三十年的發展，半導體工業已經成為台灣最重要的經濟支柱之一，隨著半導體工業的高度成長，明星產業背後所隱藏工業污染問題也日益受到重視。各界漸漸對空污排放提高標準，而對於運轉多年半導體廠區，既設製程尾氣處理設備如何...

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2022.3, Vol.45 / 技術專文
The accuracy and application of Online IC in Stack monitoring
煙道酸鹼連續監測(Online IC)精確度提升改善及其應用
文 | 溫閎元 | 亞太廠務處 | 錢立行 | 新竹廠務四部 | 趙世閔 | 新竹廠務四部 |
於廠務運轉，各項污染物減量改善也隨之展開，如酸槽機台IPA(異丙醇)源頭改善及排放減量，煙道不透光率及F2(氟氣)異味改善。在這些項目執行過程中，選擇以何種方式量測污染物及驗證改善成效更是重中...

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2022.3, Vol.45 / 技術專文
Inspection and Re-creation a Friendly Environment for Air Pollution Reduction for 30-year-old Factory
30年老廠空污健檢減量與再造友善環境
文 | 魏君穎 | 新竹廠務一部 |
由於環境污染日趨惡化，加上近年來環保意識抬頭，各界對於污染管制紛紛提高標準，工廠廢氣的排放也受到關注。對企業而言，除了必須遵守空氣污染法規的要求外，如何在資源有限的情況下降低廢氣的排放量和改善防制設備發揮最大效益，...

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2022.3, Vol.45 / 技術專文
Air Pollution Improve Strategy for Environmental assessment Fab
環評廠空污減量躍進做法及未來思維
文 | 陳昭文 | 台中廠務三部 | 姚明宗 | 台中廠務三部 |
2016年12月通過環保署第306次環評大會審查，中科空氣污染減量、符合總量管制之承諾。隨著台積製程演進與產能需求的增加，為了符合最關鍵的空污總量管制，對於空污的改善是持續演進，廠務處集合新廠設計部、ISEP眾多專...

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2022.3, Vol.45 / 技術專文
Destruction efficiency promotes with LOW NOx Operational Parameters of Dual Rotor VOCs Process System for Green Manufacturing
綠色製造 - VOC雙轉輪系統處理效率提升與LOW NOx運行參數
文 | 盧人瑜 | 亞太廠務處 | 楊詠翔 | 台南廠務六部 |
雙轉輪VOC開始使用，目的為提高VOCs的處理效率，降低排放量以利空污減量，廠區內使用廠商分為D公司與J公司，單轉輪設計處理效率為95%，雙轉輪設計預計能到達99%以上處理效率，VOCs的排放量減少為單轉輪設計的1/5。...

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2022.3, Vol.45 / 技術專文
Exploration and Application of Autonomous air pollution detection in Nanjing Factory
南京廠空污自主檢測的探索與應用
文 | 張波 | 南京廠務部 |
環境問題已然成為當今全球最重視的話題之一，隨著半導體行業的飛速發展，人們也越來越重視該行業廢氣排放的研究與改善，但受限於在綫監測儀器的分佈率及成本，實驗手動檢測仍然是空污改善最常用的量測手段。因此南京厰建立廠內空污檢測實...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文
Research and Defense of Air Pollution Impact on AMC
空污對微污染影響的探討與防禦
文 | 王威凱 | 中科廠務一部 |
隨著半導體導線線徑的縮減及製程發展的演進，氣態分子污染物(AMC)的管制及監控方式也更受重視，面臨微污染物威脅，必須要有完整監測系統搭配防治計畫，除了無塵室環境內機台或者是人為污染管控外，外氣污染也是相當大的考驗，目前大...

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2020.7, Vol.37 / 技術專文
To investigate the Challenge of AAS Systems in tsmc 8"Semiconductor Fab
探討台積電八吋晶圓廠空污處理系統的挑戰
文 | 連上舜 | 竹科廠務二部 |
隨著台灣歷經了多次的空氣污染防制法的修訂與政策變遷，建置時的空污處理設備效率不彰是許多老廠正面臨的問題。如何持續精進空污處理設備以達到公司綠色製造，永續經營的理念是關鍵。本文以台積電首座八吋晶圓製造廠三廠為例，運用KT決...

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2019.9, Vol.35 / 技術專文
Challenges and Strategies of Air Pollutants Emission Reduction in R&D Fab
研發廠空氣污染物排放減量之挑戰與策略
文 | 黃友元 | 盧銘駿 | 竹科廠務三部 |
空氣污染問題已成為人們日常討論的議題，統計陳情案件，以高科技廠較為集中的新竹科學園區周圍空氣污染問題最多，而空污的來源大多數由未經適當處理的污染物經由煙囪排出。面對民眾生活環境及複雜製程所使用的化學物質，操作者應思...

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2019.9, Vol.35 / 新象新知
Acid/alkaline On-line and Realtime Monitoring System of Stack Emissions
煙道酸鹼即時連續監測系統研究
文 | 康智翔 | 錢立行 | 竹科廠務三部 |
於廠務運轉層面，各項空氣污染物減量改善對策已展開並如火如荼的進行，如酸槽機台異丙醇(IPA)源頭改善及排放減量，煙道不透光率改善及氟氣(F2)異味改善也都已有成效。在這些改善項目執行過程中，選...

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2019.03, Vol.33 / 技術專文
The Development Roadmap of Environmental Facility for Advanced Semiconductor Operations
先進半導體廠房環保設施發展藍圖
文 | 李明利 | 新廠設計部 |
本研究旨在探討未來先進半導體廠房環保設施發展藍圖，先從文獻回顧過去世界半導體業的環保設施發展方向，從中汲取未來可能需持續改善的重點。再從檢討目前半導體廠房在空氣及放流水的防治方法，伴隨製程發展的演進及環保法令要求趨...

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2019.03, Vol.33 / 技術專文
Methodology for Exploring Air Pollution Control Measures in R&D Fab
探索研發廠空污防制對策之方法論
文 | 王若杰 | 竹科廠務三部 |
現今半導體製程發展一日千里，研發廠所面臨的空污排放問題，在處理防制上已是越來越困難了，其原因主要為研發廠空污問題具多變性及未知性，多未能有良好的空污處理經驗以茲依循，另因應研發製程的需求迫切，可擬定空污防制對策的時...

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