Vol.52 / 技術專文
Management of chemical supply backup system
化學品供酸系統備援機制管理
聯通管路長時間靜置於化學品中,伴隨著不純物析出等品質風險,因此為確保緊急開啟聯通管路供應時不造成品質的異常,本文藉ICPMS及 particle counter數據解析聯通管路內化學品品質,最終透過化學品的flus...

按讚

0

收藏

0
點閱 (38)
Vol.52 / 技術專文
Innovative management strategies for water systems in the new generation of manufacturing processes
新世代製程之水系統創新管理對策
本文累積過往新成廠經驗,水處理系統在這些過程中遇過許多挫折但也因這些經驗,逐步強化水處理系統防禦機制,發展出一套管理方法,面對快速成廠的過程中,面臨系統尚未完成建置,需逐步與設備協調其純水與化學品洗淨的總量管制,在...

按讚

0

收藏

0
點閱 (46)
Vol.48 / 技術專文
Chemical supply system upgrade-The challenge of engineering under uninterrupted
化學供應系統架構升級-生產供應不中斷之困難與挑戰
化學供應系統歷經多年的演進及改善,於新廠區已呈現相對穩定的運轉狀態。但反觀老廠之化學供應網絡及控制器已明顯跟不上世代,不斷的在老舊系統上進行小規模的CIT改善只能說是治標不治本,如何將供應網絡全面更新及控制器升級才是長遠...

按讚

0

收藏

0
點閱 (31)
Vol.45 / 技術專文
Hollow Fiber-based TOC Filter
中空纖維TOC濾網 - AMC濾網設備化的新紀元
針對先進製程區域MAU出口端異丙醇/丙酮極低濃度的規範要求,既有活性碳(Active Carbon)型濾網對異丙醇(Isopropyl Alcohol, IPA)以及丙酮(Acetone)去除效率差且握持量不足,極短的時...

按讚

0

收藏

0
點閱 (24)
Vol.44 / 技術專文
Decreasing COD concentration of effluent by increasing efficiency of Bio-System
實現綠色製造-增進生物系統處理效率達到放流COD減量
隨著半導體製程的精進,晶圓製程用於防倒線及除水痕異丙醇(IPA)的使用量逐漸上升,N7世代IPA使用量已為N16世代之6倍,在已可觸及的N2世代,IPA用量更可達N16之16倍。對於放流水中化學需氧量濃度,如何能低...

按讚

0

收藏

0
點閱 (44)
Vol.43 / 技術專文
Discussion on The Development Roadmap of Facility Laboratory
探討廠務實驗室發展藍圖
在半導體工廠裡廠務扮演極重要的角色,來自供應商的原物料(水、化學品、研磨液、氣體、空氣),都需經由廠務系統供應至生產線,使用後的廢水、廢酸、廢氣,又須經由廠務系統處理。面對日益精密的製程,廠務系統的品質也必須不斷提...

按讚

0

收藏

0
點閱 (57)
Vol.40 / 技術專文
Improvement and practice of wastewater biological treatment system operation
廢水生物處理系統運轉精進與實務
隨著半導體製程技術演進,製程機台使用的有機化學品用量大增,且單槽式晶圓濕式清洗機台數量增多,此型式機台排水有混排狀況,因此先進製程廠區面臨廢水排放化學需氧量(Chemical Oxygen Demand, COD)以及氨...

按讚

0

收藏

0
點閱 (47)
Vol.40 / 技術專文
Comprehend the characteristics of material and enhance the quality of mixing chemical
掌握原物料特性–精進CR168混酸品質
黃光微影製程為半導體製造技術之瓶頸,主要在於現代科技的進步導致線寬的縮限,為了提高晶圓產能及良率,廠區對於原物料供應品質尤其要求。然而許多原物料也因應製程需求添加額外成分(例如 : CR168界面活性劑)連帶影響本身化學...

按讚

0

收藏

0
點閱 (25)
Vol.40 / 技術專文
Management of Chemical Quality– Calculation Model for the Index of Chemical Filtration Times
化學品品質管理–循環過濾次數指標之計算模式
本研究提出兩種新型計算模式,用於計算桶裝化學品供應系統(Drum Unit, DU)的循環過濾次數,分別為概略型估算模式(Rough Estimation Mode, REM)及動態型精算模式(Dynamic Calcu...

按讚

0

收藏

0
點閱 (33)
Vol.40 / 技術專文
Management of Waste Chemical from Advanced Process Equipment
先進製程設備機台廢酸排放站前管理
半導體先進製程不斷演進,化學品使用越多元,相對設備機台排放的廢酸越複雜,發生混排的機會越高。本篇研究針對設備廢酸站前排放區分兩大主題 : ①管理層面 ②廠務系統強化,並以某先進製程廠廢液IPA含酸為例,裝機前NTCC及S...

按讚

0

收藏

0
點閱 (57)
Vol.36 / 技術專文
Investigation on a Novel Slurry Blending Technology for Advanced Semiconductor
先進半導體製程研磨液之新混酸技術探討
化學機械研磨(CMP)製程是半導體製程中達到全面平坦化(global planarization)的主要關鍵技術。影響化學機械平坦化的因子包含可調節、可稀釋的研磨液(slurry),以及相匹配的研磨墊(pad),轉速,下...

按讚

1

收藏

1
點閱 (60)
Vol.36 / 技術專文
Method and Practice of Chemical Dispense Unit Control System Upgrade without Supply Interruption
化學供應系統之控制單元執行不中斷供應的升級方法與實務
隨著半導體製程由N4X演變至N3,廠務化學品供應系統(CDU)也須同步進化,但在2008年建立之舊式化學品供應系統設計已不符現況,且系統供應商部門解散,造成廠務進化的腳步停滯,必須研擬出新的方法突破現況,以符合N3之先進...

按讚

0

收藏

0
點閱 (45)
Vol.36 / 技術專文
High Concentration H2O2 Wastewater Treatment Technology of Semiconductor Assembly
先進封裝廠含高濃度雙氧水廢液處理技術與實務探討
晶圓半導體製造工廠大部分高濃度雙氧水廢液排放至廠務廢水系統進行調勻處理,先進封裝廠區廢水量較晶圓廠區小,若直接排放至廢水系統將造成放流水超標風險。因此需委外處理高濃度雙氧水廢液,對環境與公司營運成本皆造成負面影響。本文藉...

按讚

0

收藏

0
點閱 (60)
Vol.36 / 技術專文
Discussion and Practice of COD Reduction in Wastewater
外排廢水化學需氧量減量方法探討與實務
隨著製程技術持續推進,許多新的製程機台以及化學品首次導入,我們發現新建廠區有放流水之 COD 值偏高問題。為解決這個問題,我們一方面進行廠內 COD 污染源之追查,透過源頭分析及查找,發現 IPA 為廢水中 COD 之貢...

按讚

0

收藏

0
點閱 (60)
Vol.33 / 技術專文
Operation Strategy of Gas and Chemical Supply Systems for Converting Advanced R&D Processes into Mass Production Fab
因應研發先進製程轉量產之氣體與化學供應系統運轉策略
本研究使用目前業界廣泛應用於製造流程分析的 IDEF0 建模方式,在半導體研發製程轉大量生產過渡期間,將氣體與化學供應系統運轉方式,分為三個主要階段及五個次要程序。根據最新廠區運轉經驗及結合各廠區相關專業同仁的意見...

按讚

0

收藏

0
點閱 (68)
Vol.33 / 技術專文
Site-Selection Strategy of Electronic Material Supply Chain – NJ Site as an Example
電子材料供應鏈選址策略 - 以南京為例
台積電南京廠因主要生產電子材料原物料有95%以上來自非大陸地區,原物料皆需透過長時間的運輸,因此衍生額外的問題如品質、穩定供應及成本等問題。為維持台積電南京廠長期營運穩定及競爭力,需要台積電協助電子材料原物料廠商建...

按讚

0

收藏

0
點閱 (82)