TSMC 廠務季刊

2022.12, Vol.48 / 技術專文

Innovative management of Chemical Filters-Pre-clean and Transferred

化學品濾心創新管理-預洗與活體移植

文 | 梁高維 | 廠務 | 羅立偉 | 亞太廠務處 |

半導體製程的快速演進，高純度化學品供應面臨嚴苛挑戰，廠務系統定時保養更換系統耗材或配件影響風險較高，每一次的更換，除了要維持金屬及不純物含量的品質監控，如何快速達成必然成為廠務義不容辭的課題，本文以經常性更換之濾心(Fi...

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2022.3, Vol.45 / 技術專文

Hollow Fiber-based TOC Filter

中空纖維TOC濾網 - AMC濾網設備化的新紀元

文 | 曹志明 | 廠務技術發展部 |

針對先進製程區域MAU出口端異丙醇/丙酮極低濃度的規範要求，既有活性碳(Active Carbon)型濾網對異丙醇(Isopropyl Alcohol, IPA)以及丙酮(Acetone)去除效率差且握持量不足，極短的時...

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2021.12, Vol.44 / 技術專文

Prevention of chemical filter contamination

化學系統濾心污染防治

文 | 羅立偉 | 日本新廠專案 | 鍾易龍 | 新廠設計部 | 梁高維 | 台南廠務七部 |

隨先進製程技術不斷推進，化學供應品質也面臨挑戰，偵測品質標準中的金屬含量及含不純物成為製程關鍵。既往影響產線供應品質汙染源，以原物料及耗材供應商製造與包裝品質異常之案例為甚，又以定時保養更換系統耗材或配件影響風險較...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文

Discussion on TOC Filter Recycling Technology　　　　　　　　　　　　

TOC濾網再生技術探討

文 | 鄭鑫 | 竹科廠務一部 |

半導體元件之微影技術的進展隨著製程特徵尺寸(feature size)的快速縮小使得製程環境污染的防治重點已由微粒轉移至氣態分子污染物(AMCs , Airborne Molecular Contaminations)上...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文

ECP/B.S. Area IPA total solution and management

防微杜漸–ECP/B.S區環境IPA全面改善及管理機制

文 | 林瑞昆 | 竹科廠務三部 |

隨著製程演進，製程對環境氣膠微汙染控制(AMC)品質要求更嚴格，以ECP/B.S.為例，環境異丙醇(Isopropyl Alcohol, IPA)濃度控制目標值再下降75%，ECP/B.S.區IPA主要來源為外氣空調箱(...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文

Response Methodology of AMC Contamination and Recovery Procedure

AMC污染應變對策及復原程序

文 | 江維捷 | 南科廠務1廠務一部 |

目前TSMC緊急應變內控作業流程，有針對異味、氣體、化學品洩漏訂立一套處理流程。然而針對氣體、化學品洩漏處理流程，皆是朝硬體設備的復原方向進行，對於洩漏所產生的AMC汙染並沒有說明該如何緊急應變。因此想藉由此次探討，建立...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文

Intelligent monitoring Method in AMC is applied to Litho Lens for early pollution prevention and filter efficiency detection mechanism

AMC智能監控應用於黃光Lens早期汙染預警防護及濾網效率檢測機制

文 | 蕭睿呈 | 南科廠務1廠務一部 |

半導體產業按照摩爾定律蓬勃發展，對於無塵室內的溫溼度、氣態分子汙染物等生產環境品質的控管越趨嚴格，影響著製程區域產品良率。廠務端以自動分析儀器對環境進行AMC定點監控已成為各廠標準模式，並輔以人力至現場巡檢。本篇為加強黃...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文

Defense Mechanism of Outside Air AMC MeCl2　　　　　　　　

外氣AMC MeCl2防禦機制

文 | 陳睿森 | 南科廠務1廠務一部 |

半導體的線寬越來精細，製程的複雜度越來越高，相對製程良率受外在環境影響的可能性也越來越大，氣態分子汙染物(Airborne Molecular Contamination, AMC) 一直都是受到關注的對象，也因為製程的...

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2020.9, Vol.39 / 技術專文

Analysis and prevention IPA sources in clean room environment

半導體製程無塵室環境IPA來源分析與防治

文 | 張書豪 | 池健誠 | 中科廠務一部 |

隨著製成世代的進步，半導體晶圓製程的線徑也越來越小，但化學品使用量卻越來越多種多樣，本文著重於有使用異丙醇(IPA)的機台其IPA的洩漏改善，由作業觀察到設備的改善活動CIT(Continual Improvement ...

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2018.6, Vol.30 / 技術專文

Research on IPA Chemical Filter Efficiency Improvement

談異丙醇化學濾網使用效率提升之研究

文 | 林瑞昆 | 竹科廠務三部 |

異丙醇(IPA)對於電化學電鍍(ECP)製程之晶邊良率具有極大的影響，ECP區域IPA主要來源為外氣空調箱(MAU)引入，汙染源來自於本身或鄰近廠區煙囪排放(約佔70%)，其次為化學研磨製程(CMP)機台洩漏或蝕刻...

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2018.3, Vol.29 / 技術專文

Selection of Series Reactors for AC-Capacitor-Filter Set on Low-Voltage Level and Operating Experience

交流低壓電容盤電抗器的選用與運轉經驗

文 | 廖日能 | 陳信任 | 中科廠務一部 |

為落實高科技廠房節能減碳之目標，廠內UPS運轉皆採節能模式，下游負載諧波可直接流回系統導致諧波增高，如何治理系統諧波成為廠務一項重要課題。本文目標主要針對被動式濾波器4.04%和6.06%(交流低壓電容盤)進行諧波...

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2017.6, Vol.26 / 技術專文

Improvement of White Smoke and H2SO4 Particle from Stack

煙囪白煙及硫酸微粒防制改善

文 | 洪民翰 | 南科廠務四部 | 鍾善昌 | 南科廠務一部 |

南科十四廠五期於2012年5月開始投入量產，隨著新製程開發也衍生出前所未見的問題與挑戰，其中以濕式蝕刻製程因酸鹼混排延伸出煙道排放白煙以及硫酸微粒等問題最為困擾，既有的廢氣濕式洗滌塔與水渦流機已無法妥善處理白煙以及...

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2017.6, Vol.26 / 技術專文

Air Pollution Control Strategy for Next Generation Fab

新世代廠房的空氣汙染防制

文 | 吳曜安 | 劉子銘 | 中科廠務三部 |

台積公司最新世代的晶圓廠房座落於中科擴建區，為因應日益嚴峻的環保法規及民眾對環境品質要求提升的期望，新廠在空氣汙染防治部分，導入最先進的技術與設備，包括：中央洗滌塔水力薄膜、排放源導入現址型洗滌塔、水霧系統及HEP...

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2015.6, Vol.18 / 技術專文

LPC(Large Particle Count) Control

STI 化學機械研磨液之微粒子數量控制

文 | 江宜蓁 | 陳怡蒼 | 曾誌江 | 新廠設計部 |

隨著半導體製程緊湊步伐的演進，化學機械研磨(Chemical-Mechanical Planarization, CMP)，將面臨許多技術瓶頸，刮傷缺陷(scratch defect)即為一例，本文將介紹如何在化學...

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2015.6, Vol.18 / 新象新知

Design and Application of Upward Clean Air Circulation System

上回風潔淨循環系統的設計與應用

文 | 曹志明 | 新廠設計部 | 徐明甫 | 新廠設計部 | 胡石政 | 國立台北科技大學潔淨技術中心 |

傳統FFU-DCC式之潔淨室設計，對於機台本身熱散逸至潔淨室所產生熱對流作用之上升氣流，容易與FFU向下送的潔淨循環氣流相撞後彼此產生干擾，迫使潔淨循環氣流無法達成有效的動量輸送，造成微粒滯留在潔淨室內；利用FDC...

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2011.10, Vol.04 / 技術專文

FFU Installation Procedure for New Fab Construction

新建廠FFU安裝程序之改善研究

文 | 謝松德 | 十二廠六期專案 |

針對新建廠之cleanroom 的 FFU+ULPA 之安裝施工方法，思考其改善方案；對施工承包商各種 extra cost 影響最少，但是卻能夠獲得最大改善效益，以此作為出發點；並基於設備之詳細尺寸、施工環境特性...

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