Treat Wastewater by Wastewater! Treatment of IPA and COD Wastewater by UV/AWD H2O2 Process
廢水處理廢水！以紫外光結合雙氧水 廢水程序處理異丙醇與化學需氧量廢水
Improvement of Removal Efficiency Using Reverse-direction Desorption in Zeolite Rotor
高溫逆脫附技術改善沸石濃縮轉輪去除效率
現今台積廠區均使用沸石轉輪濃縮系統作為主要揮發性有機物（VOCs）防制設備，其中沸石轉輪之吸附能力為處理效率之關鍵。而沸石轉輪藉由高溫脫附以及定期水洗兩種方式維持吸附能力。然而在長期使用後，沸石轉輪會因脫附溫度不均...
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Wet Cyclone Participator of PM2.5 Reduction in Local Scrubber
應用濕式旋風集塵器於製程尾氣 處理設備改善細懸浮微粒研究
PM2.5空氣污染與健康危害之議題近年開始受到重視，為因應民眾對環境品質要求提升的期望，本研究探討目前半導體業界粒狀物防制技術應用，以及製程尾氣處理設備(Local Scrubber,LSC)後端酸性排風管所產生阻...
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Reduction Strategy for Sulfuric Acid Emission of Stack in Semiconductor Industry
半導體業煙道硫酸排放減量策略
在12吋晶圓廠中隨著產能不斷提升，排氣風量與硫酸使用量增加，硫酸排放總量逐漸受到主管機關的重視。以最新12吋晶圓廠為例，使用硫酸的最大來源是高溫硫酸製程機台及廠務桶槽，參考文獻研究顯示處理廢氣入口濃度越高洗滌塔處理...
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RCW Recycling for Air Pollutant Removal of Central Scrubber
中央洗滌塔排水 回收再利用改善空污排放
半導體廠空氣污染物處理設備以中央洗滌塔(Central Scrubber)為主，因製程需求演進導致機台廢氣酸鹼混排問題，而目前先進製程廠區酸性氣體排放管道中，氨氣皆佔有一定排放量比例，而煙囪排放氨氣濃度也間接影響無...
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Artificial Intelligence of Energy Saving Deployment in Chiller System
人工智慧應用於冰水系統節能技術探討
台積電運用人工智慧和大數據分析將製程最佳化，應用此精神追求冰水系統效能最佳化。2017年應用大數據分析及結合冰水系統找到全系統最佳效能運轉機制，成功開發業界第一個冰水系統最佳化節能控制系統(正負2度C)，但因機台管...
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Acid/alkaline On-line and Realtime Monitoring System of Stack Emissions
煙道酸鹼即時連續監測系統研究
於廠務運轉層面，各項空氣污染物減量改善對策已展開並如火如荼的進行，如酸槽機台異丙醇(IPA)源頭改善及排放減量，煙道不透光率改善及氟氣(F2)異味改善也都已有成效。在這些改善項目執行過程中，選...
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The Development Roadmap of Environmental Facility for Advanced Semiconductor Operations
先進半導體廠房環保設施發展藍圖
本研究旨在探討未來先進半導體廠房環保設施發展藍圖，先從文獻回顧過去世界半導體業的環保設施發展方向，從中汲取未來可能需持續改善的重點。再從檢討目前半導體廠房在空氣及放流水的防治方法，伴隨製程發展的演進及環保法令要求趨...
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The Roadmap of Circular Economy and Resource Recycling Technologies in TSMC
台積電的循環經濟藍圖及資源再生技術
「循環經濟」是近年來的熱門議題，是以創新思維擺脫過去「線性經濟」模式，透過資源的妥善循環，帶動經濟發展及環境保護。至今，全球各國家或者企業層級，均積極地透過循環經濟創造下一波經濟的發展策略，而循環經濟也將是台灣下一...
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金筆獎入圍
Risk Control for Preventive Maintenance Work of Equipment Engineer in Semiconductor Manufacturing Plants
半導體廠區員工維修保養作業暴露風險管控
以傳統勞委會公告之作業環境監測方法進行半導體作業人員化學品暴露評估，結果多為未檢出，且無法得知污染物即時暴露實態及作業過程危害因子。為釐清人員暴露及機台維修保養可能產生副產物，必須有不同採樣分析策略。本文運用不同類...
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The Discussion of Arsenic Compounds Measurement in Exhaust of Local Scrubber
砷尾氣處理設備量測方法探討
砷化氫為半導體業製程氣體，具有毒性及致癌性，反應殘氣由機台排出後，進入吸附式尾氣處理設備處理，去除效率則以砷化氫偵測器確認，經過處理的尾氣會再經過中央濕式洗滌塔後由煙囪排出。處理過程中，部分砷化氫轉化為固態砷化物，...
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A Case Study on Improvement to Mixed Acid Exhaust System for New Process Tools
先進製程酸性排氣混排改善對策探討
隨著公司近年來陸續進入先進製程，使用的氣體及化學品種類變得更多，生產過程也變得更複雜，衍生出排氣煙道中有混排及白煙問題，顯示既有系統已無法完全妥善且有效的處理製程廢氣。本文使用半定量及定量儀器進行採樣，鑑別出酸性排...
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Remediation of Soil Pollution in Semiconductor Facility
半導體廠房土壤污染整治
台積電先進封測三廠為公司首次跨產業、坐落桃園市並與合作客戶收購廠房，進行土地移轉時，依法應提供土壤污染檢測資料，執行全廠區及重點區細部土壤檢測。經XRF篩測後發現，碼頭區受重金屬鉻、汞、鎳污染，且污染集中於 1 公...
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Safety Design for the System to Remove Hydrogen Peroxide from Waste Sulfuric Acid
廢硫酸去除雙氧水系統 安全防護提升
本文以危害與可操作性分析(HAZOP)及收集13個廠區運轉經驗，評估廢硫酸 (W-H2SO4) 去除雙氧水 (H2O2) 回收...
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Safety Management for EUV Tool
超紫外光機台 全方位安全管理
超紫外光(EUV)為半導體製程持續微縮並延續摩爾定律(Moore's law)的新世代微影技術，亦是台積公司能持續保持先進製程技術領先的關鍵設備，EUV造價昂貴且使用大量具極度易燃特性的氫氣(Hydroge...
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Risk Analysis and Coping Strategies for Pyrophoric Material in Usage of Semiconductor Manufacturing Plant
發火性物質運轉風險與安全對策
半導體製程陸續使用越來越多發火性物質於生產過程中，此類發火性物質大部份兼具禁水特性，於異常洩漏時遇空氣自燃且接觸水會產生非常劇烈反應。本研究應用HazOp風險分析方法及參考SEMI-5761B草案規範，針對使用發火...
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Reinforcement of Lock out / Tag out Procedure and Its Implementation
談上鎖掛牌程序的強化及執行方式
為維護作業的安全，常以工程控制、作業程序與防護具等方式進行，過去上鎖掛牌僅於高風險作業執行。文獻指出，上鎖掛牌程序阻斷危害源，可降低作業產生的風險，如化學品供應端閥件、電源供應元件等。本計畫採以下流程進行 : (1...
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