文章分類

熱門關鍵詞

中文 | Keyword
首頁 / 分類閱讀 /
2018.6, Vol.30 / 技術專文
The Challenge of Semiconductor VOCs Exhaust Treatment System & Innovation of High Removal Efficiency
半導體業揮發性有機物高效率尾氣處理系統的設計挑戰與創新
文 | 楊詠翔 | 新廠工程管理部 |
由於半導體製造技術日趨複雜、環保意識抬頭，讓空污排放的議題成為輿論關注的焦點。目前公司所採用的沸石轉輪搭配焚化系統已具備可接受的處理效率及高可靠度之特點，也是目前業界主要的VOCs 處理技術。在面對空污排放的要求越...

按讚

0

收藏

0
點閱 (189)
2018.6, Vol.30 / 技術專文
The Application of High-temperature Desorption for Honeycomb Zeolite Concentrator Treatment System in Semiconductor Fab Facility Systems
高溫脫附法應用於沸石轉輪處理效率改善之探討與驗證
文 | 陳仲祥 | 陳元昊 | 南科廠務一部 |
為了使揮發性有機物(VOC)處理設備保持良好的去除效率，例行保養(PM)是不可或缺的。然而，有些高沸點VOC是無法透過沸石轉輪清洗被清除，甚至隨著時間會有殘留於沸石轉輪的現象，迫使去除效率漸漸衰減至91%。因此，本...

按讚

0

收藏

0
點閱 (162)
2018.6, Vol.30 / 技術專文
Local Scrubber Clogging Improvement and PM Frequency Reduction
製程廢氣處理設備 阻塞改善與保養頻率有效減量
文 | 王仁暉 | 南科廠務三部 |
製程廢氣處理設備因為會有副產物的產生，而需進行預防保養，但若副產物過於頻繁的阻塞問題發生，使得保養頻率升高，造成人力資源投入與負荷過大，即為異常阻塞事件，因此必須要進行各項阻塞改善措施去減量。本文即以南科廠所遇到的...

按讚

0

收藏

0
點閱 (104)
2018.6, Vol.30 / 技術專文
Tool Exhaust HEPA Retrofit in Particulate Matter Reduction
高效濾網於機台排氣粒狀物減量之運用
文 | 陳昭文 | 中科廠務三部 | 吳曜安 | 新廠工程管理部 |
近年來PM2.5超過空氣品質標準，環保署公告2018年7月1日起將針對固定污染源的懸浮微粒、細懸浮微粒等粒狀污染物開徵空氣污染防制費，因應粒狀污染物減量趨勢，各廠需積極進行白煙粒狀物改善。目前先進製程的粒狀污染物排...

按讚

0

收藏

0
點閱 (110)
2018.3, Vol.29 / 技術專文
Application of duino IoT Technology to Facility Equipment Failure Prediction Ability Enhancement
應用αduino物聯網技術於強化廠務設備之故障預知能力
文 | 張子鴻 | 南科廠務三部 |
為因應未來人工智慧(AI)工廠之需求與分擔工程師之工作負荷，將應用αduino 物聯網(αIoT)技術來強化廠務設備之故障預知能力。αduino應用架構主要分為7個單元，各單元之...

按讚

1

收藏

0
點閱 (529)
2017.9, Vol.27 / 技術專文
Drum’s Hyper Logistic (DHL) System for Chemical Drum
桶裝化學品高效供酸新架構
文 | 張育正 | 新廠設計部 | 黃介然 | 新廠設計部 | 劉俊男 | 中科廠務五部 |
因應未來人力成本高漲以及人力資源取得不易的問題，如何設計一套兼顧效率與供應品質並有效降低因人工操作必須面對的失誤風險，已然成為半導體廠務的重要課題。本計畫設計了一套為桶裝化學品量身打造的高效率輸送及供應系統，藉由高...

按讚

0

收藏

0
點閱 (163)
2017.9, Vol.27 / 技術專文
Chemical Consuming Defense System
化學品用量異常即時偵測系統
文 | 戴君豪 | 廖俊凱 | 黃政道 | 竹科廠務五部 |
半導體製造工廠所使用之化學品，大部分由廠務端中央供應系統自動供應至產線端設備機台。當設備機台發生異常時，容易發生化學品異常大量使用。為了使化學品異常使用防禦系統達到即時且全面性的能力，廠務與自動化整合部門共同開發「...

按讚

0

收藏

0
點閱 (57)
2017.9, Vol.27 / 技術專文
Reverse Flush Strategy Analysis of Reverse Osmosis in High Concentration Wastewater Environment
逆滲透膜於高濃廢水下之反向流交互產水操作策略
文 | 蔡宇軒 | 王世民 | 竹科廠務三部 |
對半導體製造業大廠而言，水資源高度依賴與廢水排放品質，視為汙染減量與環境改善之標竿，2016年新設之逆滲透二段濃縮處理設備，負責進階回收內含氫氟酸廢水與廢氣洗滌塔廢水之逆滲透濃縮廢水，該廢水導電度極高，並內含多種化...

按讚

0

收藏

0
點閱 (52)
2017.9, Vol.27 / 技術專文
Effluent Reclamation-Optimization in Operation of Process Pilot
工業再生水研發─ 回收模廠運轉最佳化
文 | 楊秉駪 | 南科廠務四部 | 萬棟勳 | 新廠設計部 |
再生水模廠(AOP Pilot)設備於2015年11月導入晶圓工廠排放廢水，成功克服原水高濃度TOC，然處理流程複雜及運轉成本較高；我們完成高難度的晶圓廠排放廢水，接著最終目標是處理南科放流水，從中找出流程簡化且兼...

按讚

0

收藏

0
點閱 (94)
2017.9, Vol.27 / 新象新知
Application of Factory Automation and Intelligentization
廠務自動化與智能化之應用
文 | 潘耿輝 | 新廠設計部 | 陳培銘 | 南科廠務專案 |
拜摩爾定律所賜，新科技因成本不斷降低而大幅的躍進。其中自動化技術在這個加速創新的環境下更是站在浪潮頂端，尤其是視覺辨識、視覺導航和微控制技術的結合，讓機器手臂長了眼睛，可以作出更細微的動作。當這項技術容易取得後，一...

按讚

0

收藏

0
點閱 (147)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
The Control Mechanism for Hazardous Air Pollutants
有害空氣污染物防制機制
文 | 林宗標 | 江維捷 | 林意雄 | 南科廠務一部 |
有害空氣污染物包括VOCs、多環芳香烴化合物、重金屬及戴奧辛等。有害空氣污染物污染來源繁雜，其中多數可經過接觸、呼吸等方式危害國民健康安全。職業安全衛生與動物實驗均顯示，有害空氣污染物對人類具有致癌性、致突變性與致...

按讚

0

收藏

0
點閱 (119)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Improvement of White Smoke and H2SO4 Particle from Stack
煙囪白煙及硫酸微粒防制改善
文 | 洪民翰 | 南科廠務四部 | 鍾善昌 | 南科廠務一部 |
南科十四廠五期於2012年5月開始投入量產，隨著新製程開發也衍生出前所未見的問題與挑戰，其中以濕式蝕刻製程因酸鹼混排延伸出煙道排放白煙以及硫酸微粒等問題最為困擾，既有的廢氣濕式洗滌塔與水渦流機已無法妥善處理白煙以及...

按讚

0

收藏

0
點閱 (98)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Application of Exhaust Shunting Retrofit in Particulate Matter Reduction
排氣分流改造應用於粒狀物減量
文 | 吳怡君 | 中科廠務一部 |
PM2.5空氣污染與健康危害之議題開始受到重視，近年來PM2.5超過空氣品質標準，環保署公告2017年1月1日起各縣市列為三級空氣污染防制區，面對未來將進行總量管制及排放物種削減之趨勢，各廠需進行白煙粒狀物改善。目...

按讚

0

收藏

0
點閱 (87)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Air Pollution Control Strategy for Next Generation Fab
新世代廠房的空氣汙染防制
文 | 吳曜安 | 劉子銘 | 中科廠務三部 |
台積公司最新世代的晶圓廠房座落於中科擴建區，為因應日益嚴峻的環保法規及民眾對環境品質要求提升的期望，新廠在空氣汙染防治部分，導入最先進的技術與設備，包括：中央洗滌塔水力薄膜、排放源導入現址型洗滌塔、水霧系統及HEP...

按讚

0

收藏

0
點閱 (110)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
High Boiling VOCs Treatment Techniques for Advanced Process of Semiconductor Plant
先進製程之高沸點揮發性有機物處理技術應用
文 | 葉峮甫 | 竹科廠務一部 | 林哲冠 | 竹科廠務一部 | 周家祿 | 竹科廠務三部 |
半導體製程中，最主要的揮發性有機化合物汙染物包含乙醇、異丙醇、丙酮、丁酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、單乙醇胺、雙三甲基矽胺，當中組成後沸點成分高過於150℃的汙染物可稱為高沸點揮發性有機化合物，其對半導體業常用的汙染處理...

按讚

0

收藏

0
點閱 (70)
2017.6, Vol.26 / 技術專文
Central Scrubber Improvement Approaches
濕式洗滌塔宿疾改善對策
文 | 錢立行 | 竹科廠務一部 |
本文主要探討因應半導體廠氣體特性，將既有廠內排氣中酸鹼處理設備-中央洗滌塔進行改善，嘗試以新思維改善半導體廠排氣中矽微粒堵塞拉西環、菌類生長及因污泥堆積底部而須進行冗長保養程序之中央洗滌塔宿疾，並針對未攔截水量、塔...

按讚

0

收藏

0
點閱 (44)