Vol.51 / 技術專文
Plan the construction of air pollution prevention equipment in the limited space of the factory area
成廠區有限空間的空污防治設備建置對策
隨著環保意識抬頭及空污法規的演進,台積電呼應前述,提出ESG 2050年淨零排放目標,老舊成廠區在空污排放系統架構上有著難以改善的硬傷,除了防治設備老舊及備源機制不完全造成停機保養困難,更是有不同種類排氣風管串接混...

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點閱 (19)
Vol.51 / 技術專文
Improvement Strategy and Implementation Effect of Mixed Air Emission in RD Fab
RD廠區空污混排改善策略與執行成效
RD Fab 先進製程研發致使製程不斷變化,2020 new chemical申請數較前幾年上升71%(全年120件),依F12B實驗運轉經驗制訂從源頭、現址式洗滌塔(Local Scrubber)至中央處理設備(...

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Vol.51 / 技術專文
Improving the Removal Efficiency of Particulate Matters
固態污染物_去除效率精進改善
F15B 空污排放標準除須符合半導體製造業相關法規外,亦須符合環境影響評估法及科管局之核定總量。因 2021年產能增量 30%,推估硫酸、氫氟酸、鹽酸排放總量會超過環評及科管局限值。本研究於不影響產能之條件下,將現...

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Vol.51 / 技術專文
The Investigation and Application of Central Scrubber for Ammonia Emission Reduction
與時俱進的煙道革命_廠區洗滌塔氨氣排放削減研究與應用
隨著空氣污染防治議題蓬勃發展、環保法規日益嚴峻等等原因,空氣污染防治技術及煙道排放濃度減量逐漸成為關注焦點。TSMC F6及F14A共同遭遇的空污問題以酸性洗滌塔(SEX)酸鹼混排及去除效率不佳為主,為符合未來法規...

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Vol.51 / 技術專文
Establishment of ammonium sulfate drying system and air pollution control technology
循環經濟_硫酸銨乾燥系統設立與空污防治技術
隨著產能及研發規模持續擴充,台積公司採取「廢棄物產出最小化,資源循環使用最大化」的廢棄物管理方針。其中,針對廢硫酸及氨氮廢水,繼民國104年成功轉製為可委外再利用的硫酸銨廢液;台積公司再次領先業界、進一步導入「機械...

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Vol.47 / 技術專文
The Breakthrough in the Spatial Location of Local Scrubber
8吋成廠區在LSC拆裝的空間位置突破 - 以8廠為例
F8從世大建廠之初運轉至今已超過20年,隨著半導體產業日新月異及製程的進步,產能需求銳不可擋,如何在有限的空間把機台安裝效率最大化已成為製造生產端、設備機台端與廠務運轉端最大挑戰。本文旨在分享及介紹F8拆裝機過程的規劃,...

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Vol.47 / 技術專文
The Breakthrough and Innovation of Local Scrubber Stable Operation by iSystem Implementation
iSystem導入對廠務LSC穩定運轉的突破與創新
Local Scrubber欲達成有效節能運轉成效,其先決條件是確保其製程尾氣處理效能可達到良好水準。iSystem藉由確認製程機台所使用的製程氣體,並依據定義該製程氣體於Local Scrubber處理的方式,即時依據...

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Vol.47 / 技術專文
The prevention of hydrogen leak from EPI LSC in N28 plant
虛驚不再來-N28 EPI LSC洩漏全面改善
N28 EPI製程會排放高濃度的氫氣至LSC進行處理,但隨著LSC元件逐漸老化導致LSC前段水洗氫氣洩漏風險上升。本文針對F15A廠內三個氫氣洩漏的虛驚案例,發現原因為機台設計、元件老化及既有保養方法不足,並以此朝...

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Vol.45 / 技術專文
With more strictly air pollution regulations, Local Scrubber improve strategy for aged operation Fab
日趨嚴謹空污法規對於成廠區LSC之精進改善
歷經二三十年的發展,半導體工業已經成為台灣最重要的經濟支柱之一,隨著半導體工業的高度成長,明星產業背後所隱藏工業污染問題也日益受到重視。各界漸漸對空污排放提高標準,而對於運轉多年半導體廠區,既設製程尾氣處理設備如何...

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Vol.45 / 技術專文
Inspection and Re-creation a Friendly Environment for Air Pollution Reduction for 30-year-old Factory
30年老廠空污健檢減量與再造友善環境
由於環境污染日趨惡化,加上近年來環保意識抬頭,各界對於污染管制紛紛提高標準,工廠廢氣的排放也受到關注。對企業而言,除了必須遵守空氣污染法規的要求外,如何在資源有限的情況下降低廢氣的排放量和改善防制設備發揮最大效益,...

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點閱 (38)
Vol.45 / 技術專文
Air pollution reduction-Discussion on the removal efficiency of organic pollutants by Local Scrubber
空污減量-現址式尾氣處理設備針對有機污染物去除效率探討
空氣污染議題是近年來工廠運轉日益重視議題,而煙囪排放有機污染物已成為顯學,本研究透過污染物源頭分析,利用現址式尾氣處理設備(Local scrubber)改造,進行源頭污染物減量改善,提升有機物去除效率,並利用模擬...

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Vol.45 / 技術專文
Diagnosis systemic for Fluorine emission
氟氣排放診斷
半導體製程原物料與副產物中含有多種危害性氣體(腐蝕/爆炸/毒性/...等),因此需在主機台後端裝設前段廢氣處理設備(LSC)來處理這些危害性氣體,才可確保廢氣排放達到安全及環保的規格。然而這些高腐蝕性氣體也會侵蝕L...

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Vol.35 / 技術專文
Challenges and Strategies of Air Pollutants Emission Reduction in R&D Fab
研發廠空氣污染物排放減量之挑戰與策略
空氣污染問題已成為人們日常討論的議題,統計陳情案件,以高科技廠較為集中的新竹科學園區周圍空氣污染問題最多,而空污的來源大多數由未經適當處理的污染物經由煙囪排出。面對民眾生活環境及複雜製程所使用的化學物質,操作者應思...

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Vol.35 / 技術專文
Wet Cyclone Participator of PM2.5 Reduction in Local Scrubber
應用濕式旋風集塵器於製程尾氣 處理設備改善細懸浮微粒研究
PM2.5空氣污染與健康危害之議題近年開始受到重視,為因應民眾對環境品質要求提升的期望,本研究探討目前半導體業界粒狀物防制技術應用,以及製程尾氣處理設備(Local Scrubber,LSC)後端酸性排風管所產生阻...

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Vol.35 / 技術專文
Reduction Strategy for Sulfuric Acid Emission of Stack in Semiconductor Industry
半導體業煙道硫酸排放減量策略
在12吋晶圓廠中隨著產能不斷提升,排氣風量與硫酸使用量增加,硫酸排放總量逐漸受到主管機關的重視。以最新12吋晶圓廠為例,使用硫酸的最大來源是高溫硫酸製程機台及廠務桶槽,參考文獻研究顯示處理廢氣入口濃度越高洗滌塔處理...

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Vol.35 / 技術專文
RCW Recycling for Air Pollutant Removal of Central Scrubber
中央洗滌塔排水 回收再利用改善空污排放
半導體廠空氣污染物處理設備以中央洗滌塔(Central Scrubber)為主,因製程需求演進導致機台廢氣酸鹼混排問題,而目前先進製程廠區酸性氣體排放管道中,氨氣皆佔有一定排放量比例,而煙囪排放氨氣濃度也間接影響無...

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