Revelation of FN-DP001 Negative Developer for Facility Supply System
醋酸丁酯負顯影劑廠務供酸系統大解密
New Auto Jar Test Application of the CMP Waste Water of Coagulation and Sedimentation
先進研磨廢液混凝沉降自動化系統開發與應用
半導體產業於廢水處理系統中，研磨廢水的部份採用混凝沉降的方法進行處理。而混凝沉降方式主要在於降低水中粒子間的相斥電位，相互接觸凝集而達到固液分離的目的(電性中和)，而混凝劑及膠凝劑加藥量控制精準與否？將影響最終處理...
按讚
0收藏
0點閱 (314)
New Generation Chemical Coupler Booth Design
新世代化學品灌充口設計
隨著半導體製程持續演進，槽車化學品用量不斷被提高，化學品灌充作業人力也逐年上升；過去也曾因為外部環境品質影響，造成灌充前取樣量測不穩定。本文主要說明如何應用滑軌、氣壓缸與訂製夾具等動力元件於化學品灌充設備中，來設計...
按讚
0收藏
0點閱 (270)
Pressure Driven Flow for Netted Piping or Tubing
壓力驅動的網管流模擬
常見流體在單管中的流動，在網管間的流動甚少提及。本研究以壓力、質量流率、比容及焓做為計算變數，並引入狀態方程式以計算非理想氣體的流動。以節點做為質量及能量守恆的條件，不需要有封閉回路或虛擬回路。由於園區氣體在管路中...
按讚
0收藏
0點閱 (254)
Risk Analysis and Coping Strategies for Pyrophoric Material in Usage of Semiconductor Manufacturing Plant
發火性物質運轉風險與安全對策
半導體製程陸續使用越來越多發火性物質於生產過程中，此類發火性物質大部份兼具禁水特性，於異常洩漏時遇空氣自燃且接觸水會產生非常劇烈反應。本研究應用HazOp風險分析方法及參考SEMI-5761B草案規範，針對使用發火...
按讚
0收藏
0點閱 (235)
The Practice of Waste IPA Reduction by VEX Waste Heat Recycle
以回收有機排氣系統廢熱進行廠內異丙醇減量之實務應用
在半導體製程中常使用於晶圓乾燥、清潔之IPA化學品，隨著製程技術之推進以及晶圓線寬之微縮，導致IPA廢液在質與量均大幅改變：廢液量大幅增加但含水率過高，導致已無回收價值，僅能以焚化方式處理，造成處理費用增加。本研究...
按讚
0收藏
0點閱 (234)
Automation Circulation Drum System Development
研磨液自動循環系統開發 解決手動操作風險
現行研磨液的均勻再分散，是藉由搖搖機來進行；然而，搖搖機屬於高風險手動作業設備，非自動化的人力操作凸顯誤操作的風險、作業安全及人力資源取得的問題。本計畫開發的研磨液自動循環系統，於回流端和抽吸端的汲取管分別裝設混流...
按讚
0收藏
0點閱 (196)
金筆獎入圍
Revelation of FN-DP001 Negative Developer for Facility Supply System
醋酸丁酯負顯影劑廠務供酸系統大解密
因FN-DP001（主成分醋酸丁酯）本身電阻率高，於輸送過程中經過閥件、管路、泵浦、過濾介質等，發生磨擦後極易產生靜電，近期陸續發生化學品供應系統因FN-DP001輸送時，因靜電累積且無導除媒介，而導致擊穿閥件及管...
按讚
0收藏
0點閱 (182)
Application of Supply Quality Check for Process Gas Materials - A Case of C3H6
製程氣體原物料供應品質監測實務應用─以丙烯為例
檢視製程氣體供應系統可發現，特殊氣體原物料品質監測屬於品質把關較不足的一塊，目前運轉供應上僅能依靠廠商提供原物料檢驗報告及既有供應系統的鋼瓶壓力來檢視供應品質，若能導入高精度且能於供應鋼瓶上線前防守，定能提高整體供應系統...
按讚
1收藏
0點閱 (178)
A Study of Slurry Supply Quality during Stage Transfer from Advanced Process to Mass Production : A Case of WMG Slurry
先進製程轉量產之研磨液供應品質探討─以鎢金屬閘極製程研磨液為例
半導體製程中，積體電路的線路由微影顯像及光阻蝕刻的方式製造，線路的厚度則是藉由化學機械研磨(Chemical- Mechanical Planarization, CMP)的平坦化製程所控制。隨著製程線寬的微縮，CMP製...
按讚
0收藏
0點閱 (166)
Drum’s Hyper Logistic (DHL) System for Chemical Drum
桶裝化學品高效供酸新架構
因應未來人力成本高漲以及人力資源取得不易的問題，如何設計一套兼顧效率與供應品質並有效降低因人工操作必須面對的失誤風險，已然成為半導體廠務的重要課題。本計畫設計了一套為桶裝化學品量身打造的高效率輸送及供應系統，藉由高...
按讚
0收藏
0點閱 (162)
Application of Factory Automation and Intelligentization
廠務自動化與智能化之應用
拜摩爾定律所賜，新科技因成本不斷降低而大幅的躍進。其中自動化技術在這個加速創新的環境下更是站在浪潮頂端，尤其是視覺辨識、視覺導航和微控制技術的結合，讓機器手臂長了眼睛，可以作出更細微的動作。當這項技術容易取得後，一...
按讚
0收藏
0點閱 (146)
The Fingerprint Database of Chemical PPT Metal Pollution & Improvement
化學品金屬汙染指紋資料庫與改善對策
由摩爾定律「單位面積電晶體數目每18個月就會增加一倍」可知半導體業界晶圓線寬將日漸縮小。因應電晶體線寬的縮小，黃光、蝕刻等製程要求的化學品純度也越高，從早期「百萬分之一」(Parts Per Million, PP...
按讚
0收藏
0點閱 (145)
A Study on The Safety Defense of Silane System
矽甲烷供應系統安全防禦之實務探討
矽甲烷具有自燃之化學性質，矽甲烷供應系統各方面之安全防禦顯得格外重要，此物質已被許多供應商及使用者作為技術研究之主題，包含供應架構、鋼瓶結構、工安事件等，本文整合業界技術研究與實際運轉經驗，探討降低矽甲烷外洩之實務...
按讚
0收藏
0點閱 (130)
Analysis and Prevention of Tank Leakage of Water Treatment System
水處理系統桶槽洩漏之分析與防治
不論化學品的儲存桶槽或是運轉系統桶槽，一旦發生損壞則會影響整個系統的操作更可能影響人身安全。F14P12遭遇多次桶槽洩漏事件，為了瞭解其真正洩漏原因，進而收集F14A(F6、F14P12、F14P34)廠區內桶槽出...
按讚
0收藏
0點閱 (128)
Optimization Of Waste H2SO4 Decrease H2O2 System
廢硫酸去除雙氧水系統最佳化探討
本文以「最佳化探討」(Optimization)廢硫酸去除雙氧水系統，針對廢硫酸(W-H2SO4)去除雙氧水(H2O2)回收系...
按讚
0收藏
0點閱 (116)
Special gas rapid quality detection system
特殊氣體品質快篩系統
半導體先進製程不斷提升下，面臨著如何確保氣體品質以提高產品良率與降低製程成本等問題。針對快篩檢驗鋼瓶氣體品質開發特殊氣體品質快篩系統(Special Gas Rapid Quality Detection System)...
按讚
0收藏
0點閱 (108)