Treat Wastewater by Wastewater! Treatment of IPA and COD Wastewater by UV/AWD H2O2 Process
廢水處理廢水！以紫外光結合雙氧水 廢水程序處理異丙醇與化學需氧量廢水
The Feasibility of Using UV254 to Replace TOC/COD Analyzer
水質監測以UV254取代TOC/COD分析儀可行性評估
因應半導體製程日趨進步，傳統總有機碳(Total Organic Carbon, TOC)及化學需氧量(Chemical Oxygen Demand, COD)監測方式分析時間長，較難反映水質的快速變化，本文根據Beer...
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Special gas rapid quality detection system
特殊氣體品質快篩系統
半導體先進製程不斷提升下，面臨著如何確保氣體品質以提高產品良率與降低製程成本等問題。針對快篩檢驗鋼瓶氣體品質開發特殊氣體品質快篩系統(Special Gas Rapid Quality Detection System)...
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Treatment of Advanced Semiconductor Cobalt Sulfate Wastewater
先進半導體硫酸鈷廢水特性與處理技術探討
由於半導體先進製程演進，化學品使用成分複雜，產生製程廢水處理亦趨困難，其中，硫酸鈷廢水主要來源為ECP(Co)與CMP(Co)製程所產生，且先進半導體鈷金屬放流濃度要求為ng/L(ppb)等級，此為先進半導體製程首次面對...
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Pratices of Cobalt Sulfate Wastewater Recycling as a Realization of Circular Economy
論含硫酸鈷廢水循環經濟再利用之實務處理方法
台積竹科十二吋廠區生產先進製程晶圓，其機台將排放含鈷廢水，排放規劃則依據排水含鈷濃度從機台進行分流，低濃度含鈷廢水(<100mg/L)導入鈷樹脂提濃系統處理，高濃度廢液(2,300mg/L)委外清運，隨著先進製程產...
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New Technology of NH4N High Removal Efficiency and Recycling in Caustic Wastewater-Stripper
鹼性廢水中氨氮的高效脫除與資源再利用新技術
對於半導體製造業大廠，廢水有效處理達到排放要求，高濃度的氨氮廢水處理格外重要，尤其針對南京廠，根據最新出臺的《江蘇省半導體行業排放標準》，政府規定的硫酸鹽類濃度小於600ppm，且氨氮外排標準已由45ppm 調整至20p...
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High Concentration H2O2 Wastewater Treatment Technology of Semiconductor Assembly
先進封裝廠含高濃度雙氧水廢液處理技術與實務探討
晶圓半導體製造工廠大部分高濃度雙氧水廢液排放至廠務廢水系統進行調勻處理，先進封裝廠區廢水量較晶圓廠區小，若直接排放至廢水系統將造成放流水超標風險。因此需委外處理高濃度雙氧水廢液，對環境與公司營運成本皆造成負面影響。本文藉...
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Crystallization Technology of Semiconductor Waste Sulfuric Acid Recovery to Industrial Grade Ammonium Sulfate Liquid
半導體廢硫酸回收轉製成工業級硫酸銨乾燥技術探討
為了達成「廢棄物產出最小化與資源回收最大化」的循環經濟理念，台積公司持續推動源頭減量及廠內廢棄物回收再利用。 本次研究導入普遍用於化工業的「結晶乾燥系統」，對硫酸銨廢液進行蒸發濃縮產出工業級硫酸銨晶體，不但節省硫酸銨委外...
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Discussion and Practice of COD Reduction in Wastewater
外排廢水化學需氧量減量方法探討與實務
隨著製程技術持續推進，許多新的製程機台以及化學品首次導入，我們發現新建廠區有放流水之 COD 值偏高問題。為解決這個問題，我們一方面進行廠內 COD 污染源之追查，透過源頭分析及查找，發現 IPA 為廢水中 COD 之貢...
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Establish a Big Data Platform to Enhance Water Treatment Efficiency and to Perform Equipment Predictive Maintenance
建立大數據管理平台以提升水處理系統效能與實現設備預知保養
在一個晶圓廠中，為維持系統的穩定運轉與品質要求，「維護保養」是一個重要的基本要素。在廠務的運轉系統中，往往我們會用傳統式固定時間或固定頻率的方式進行設備維護保養，但過度保養與維修保養不及的狀況都有機會發生。然而，系...
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A Study of Ultrapure Water Nanoparticle Detection Technologies
談超純水 奈米顆粒偵測技術
對於液體中顆粒數量之檢測，現今大都以雷射散射法作為判斷依據，受限於光學繞射極限，要偵測到 20nm 以下之奈米顆粒有很高難度，特別是在液體中顆粒數量稀薄的狀況下，如超純水；同時，超純水的奈米顆粒潔淨度又與半導體製程...
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Applying Leveling Agent in W-CuSO4 Plating System for Performance Enhancement
平整劑應用於液中求銅系統產能提升
廢液電解中常因部分干擾物質造成電鍍層外表結構不一定規則狀，在共同的電流下，端子離陽極距離較近的部位稱為局部高電流區，局部高電流區電解形成速度較快，在惡性循環下造成銅花的情形發生，進而造成橋接短路發生，廢液電解中最常...
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Cobalt Recycle Methodology Study on Waste Water Treatment
廢水外排不鈷息： 先進製程廢水全鈷回收
鈷被大量應用於晶圓先進製程，而其產生之含鈷廢水造成的重金屬汙染對於環境有很大衝擊，需要一個妥善處理含鈷廢水方法，將處理後含鈷有害廢棄物轉換為有價的金屬資源回收，並減少避免處理過程中的衍生環境汙染風險。本篇研究以螯合...
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A Study of Ammonium Sulfate Concentrated Technique
硫酸氨提濃技術探討
隨著法規納管標準漸趨嚴謹，半導體製程中廣泛使用氨水及硫酸，造成排放廢水含有高濃度氨氮以及廢硫酸廢棄物。業界普遍以脫氣膜方式去除水中氨氮濃度，進而衍生產出硫酸氨廢棄物。故本文介紹利用氨氮系統參數優化調整及硫酸氨回流等...
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The Study of Water Hammer Effect on Process Cooling Water Improvement in High Flow Tool
大用水量機台之水槌效應於製程冷卻水之研究改善
製程冷卻水（PCW）用途為供應製程冷卻水，將製程機台所產生的熱量透過熱交換方式帶走。本文將探討如何改善高用水量機台觸發緊急停止(EMO,Emergency Off)時，對PCW系統產生水錘效應與供應溫度變化的影響。...
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The Technology and Opportunity of Zero Liquid Discharge
業界廢水零排技術與機會點
降低環境污染的議題是各國致力追求的目標。從2015年12月國內友廠於新聞發佈製程廢水零排放開始，零排變成各行各業所討論的標竿，但零排放需付出更多的電能，對於環境不見得是友善。本文透過分析業界零排放的重要技術(MBR...
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A Study of Biological Acute Toxicity
談放流水生物急毒性之研究
本文主要分析半導體廠廢水生物急毒性潛在問題，建立主要毒性物質之管制標準，以作為毒性之減量量及處理理方法選用依據。目前放流水生物急毒性標準檢測方法需48至96小時才能得知急毒性數值，本研究期能即時掌握放流水質狀況，維...
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