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2022.9, Vol.47 / 技術專文
RD Fab Outside Air AMC Improvement-Analyzation and Verification of Optimizing Operating Parameters of Zeolite Rotor Concentrator
RD Fab外氣AMC改善-沸石濃縮轉輪運轉參數最佳化之分析與驗證
文 | 陳建豪 | 新竹廠務四部 | 詹資盛 | 新竹廠務六部 | 張貴琳 | 新竹廠務四部 |
隨著半導體製程的演進，氣態分子汙染物(Airborne Molecular Contamination, AMC)對於半導體製程良率的影響愈來愈顯著，並有許多案例證實其中的低分子量汙染物IPA對於B.S.(Barrier...

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點閱 (71)
2022.9, Vol.47 / 技術專文
Cleanroom Supply Air Quality Improve-Outside Air Pre-washer
無塵室空氣再淨化-外氣預水洗處理
文 | 張志宏 | 新廠設計部 |
半導體製程世代持續演進，製程對氣態分子汙染物AMC(Airborne Molecular Contamination)管控要求亦越趨嚴格及重視，如何有效控制無塵室內AMC品質便成為廠務運轉上的重要課題。以AMC要求...

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點閱 (84)
2022.3, Vol.45 / 技術專文
Hollow Fiber-based TOC Filter
中空纖維TOC濾網 - AMC濾網設備化的新紀元
文 | 曹志明 | 廠務技術發展部 |
針對先進製程區域MAU出口端異丙醇/丙酮極低濃度的規範要求，既有活性碳(Active Carbon)型濾網對異丙醇(Isopropyl Alcohol, IPA)以及丙酮(Acetone)去除效率差且握持量不足，極短的時...

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點閱 (23)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Zero Contamination Supply Roadmap of AMC
AMC潔淨空氣展望
文 | 葉彥甫 | 新廠設計部 |
隨著半導體製程製程的演進，AMC(Airborne Molecular Contamination)對於製程的良率越來越重要，現行存在於MC中的低分子量汙染物(IPA/Acetone)為目前台積電半導體製程的良率瓶頸，為...

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點閱 (68)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Discussion on TOC Filter Recycling Technology　　　　　　　　　　　　
TOC濾網再生技術探討
文 | 鄭鑫 | 竹科廠務一部 |
半導體元件之微影技術的進展隨著製程特徵尺寸(feature size)的快速縮小使得製程環境污染的防治重點已由微粒轉移至氣態分子污染物(AMCs , Airborne Molecular Contaminations)上...

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點閱 (47)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
The Conception of AMC Pollution Real–time monitor management
AMC污染源即時顯示概念總覽
文 | 劉宜鑫 | 陳彥佑 | 竹科廠務二部 |
隨著半導體技術越來越精細微小，對於環境中微量氣態分子污染物(Airborne Molecular Contaminants, AMC)防治問題也越來越受到重視。在AMC防治上，可分為三方向進行 : 污染源監測控制、污染源...

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點閱 (31)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Visual Management for AMC Concentration Map
AMC濃度分布圖之視覺化管理
文 | 蔡廷亞 | 竹科廠務三部 | 邱保仁 | 廠務處 |
半導體製程之快速演進，氣態分子污染物(Airborne Molecular Contamination, AMC) 對於半導體廠的製程良率具有顯著影響，普遍於機台清潔與晶圓清洗製程或自廠排放及外氣蓄積進入FAB，造成環境...

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點閱 (31)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Response Methodology of AMC Contamination and Recovery Procedure
AMC污染應變對策及復原程序
文 | 江維捷 | 南科廠務1廠務一部 |
目前TSMC緊急應變內控作業流程，有針對異味、氣體、化學品洩漏訂立一套處理流程。然而針對氣體、化學品洩漏處理流程，皆是朝硬體設備的復原方向進行，對於洩漏所產生的AMC汙染並沒有說明該如何緊急應變。因此想藉由此次探討，建立...

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點閱 (31)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Intelligent monitoring Method in AMC is applied to Litho Lens for early pollution prevention and filter efficiency detection mechanism
AMC智能監控應用於黃光Lens早期汙染預警防護及濾網效率檢測機制
文 | 蕭睿呈 | 南科廠務1廠務一部 |
半導體產業按照摩爾定律蓬勃發展，對於無塵室內的溫溼度、氣態分子汙染物等生產環境品質的控管越趨嚴格，影響著製程區域產品良率。廠務端以自動分析儀器對環境進行AMC定點監控已成為各廠標準模式，並輔以人力至現場巡檢。本篇為加強黃...

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點閱 (33)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Defense Mechanism of Outside Air AMC MeCl2　　　　　　　　
外氣AMC MeCl2防禦機制
文 | 陳睿森 | 南科廠務1廠務一部 |
半導體的線寬越來精細，製程的複雜度越來越高，相對製程良率受外在環境影響的可能性也越來越大，氣態分子汙染物(Airborne Molecular Contamination, AMC) 一直都是受到關注的對象，也因為製程的...

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點閱 (86)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
Local Defense and Reduction of IPA from CWR area
CWR機台IPA逸散減量與區域防禦機制
文 | 黃子郝 | 黃柏諺 | 王壹龍 | 南科廠務2廠務一部 |
環境中AMC污染會對產品良率造成影響，先進製程對AMC要求亦更加重視，目前AMC防護中，IPA因為其分子量小、沸點低等特性，AMC濾網的防護較無法持久，為此IPA源頭減量及區域防禦也更加重要，在CWR製程中設備端使用大量...

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點閱 (52)
2020.9, Vol.39 / 技術專文
The crisis and exploration of air AMC in Nanjing
南京外氣AMC的危機與探究
文 | 屈悅 | 許焱欽 | 南京廠務一部 |
半導體工藝的精進，使得潔淨室對空氣的品質要求越來越高，小顆粒的懸浮分子污染物對製品的影響越來越大。南京台積電身處工業園區，AMC問題存在內憂外患的危機。因南京廠區為新建廠，廠區內部目前仍有大量的有機溶劑施工作業，以及有半...

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點閱 (25)
2020.8, Vol.38 / 技術專文
Implementation of Total Quality Management by Automation Technology
以自動化科技落實全面品質管理
文 | 陳浚瑋 | 南科智能廠務管理課 | 周啟昭 | 南科廠務六部 | 吳柏葳 | 南科智能廠務管理課 |
半導體製造要維持競爭優勢，品質的良寙扮演重要的角色，尤其目前智能駕駛輔助系統漸漸成為未來車輛標準配備，車用晶片的可靠度更是攸關使用人員的性命安全，需藉由全面品質管理(Total Quality Management, T...

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點閱 (44)
2015.6, Vol.18 / 技術專文
Purge FOUP AMC Chelating with Chilling Impinger Sampling Technique for N16 Generation
16奈米世代晶圓傳送盒吹淨微污染耦合冷凝取樣新式技術
文 | 郭啟文 | 廠務技術發展部 |
16奈米與20奈米之量產製程，廣泛應用具吹淨功能的晶圓傳送盒 FOUP(Front Opening Unified Pod)內。然因FOUP內可供採集的容積限制與其內含之污染濃度極其微量，故甚難就晶圓於FOUP內部...

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點閱 (53)
2015.6, Vol.18 / 技術專文
Application of Photoionization Detector for Real-time AMC Monitoring in Cleanroom
光離子化偵測器在潔淨室內空氣分子污染物即時監控的應用
文 | 陳駿華 | 新廠設計部 | 賴盈宏 | 新廠設計部 | 莊青龍 | 沃亞科技股份有限公司 |
已有證據顯示空氣分子污染物(AMC)對半導體廠的製程良率具有顯著影響，不少案例證實其對晶圓缺陷(Defect)的直接關聯，包含腐蝕、成形異常或電性異常等問題，因此部份大廠將AMC納入潔淨室環控因子；另外，隨著半導體...

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點閱 (39)
2012.4, Vol.06 / 特別企劃
AMC Source Identification by CFD Modeling in Cleanroom
潔淨室氣態分子污染物(AMC)污染源之預測方法
文 | 曹志明 | 新廠設計部 | 黃正吉 | 製造技術中心 | 周政隆 | 新廠設計部 |
一般潔淨室設計中對於汙染源的預測大多採取由已知點釋放汙染物(實驗或計算)，再觀察汙染源擴散的情況的方式來瞭解汙染物在潔淨室中的行為。但在真實運轉中的潔淨室，通常我們只能觀測到結果，而無法得悉汙染物由何處而來，若擬求...

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