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氣化 Gas & Chemical 72 最新文章 熱門文章 按讚數
Vol.27 / 技術專文
The Fingerprint Database of Chemical PPT Metal Pollution & Improvement
化學品金屬汙染指紋資料庫與改善對策
由摩爾定律「單位面積電晶體數目每18個月就會增加一倍」可知半導體業界晶圓線寬將日漸縮小。因應電晶體線寬的縮小,黃光、蝕刻等製程要求的化學品純度也越高,從早期「百萬分之一」(Parts Per Million, PP...

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Vol.27 / 技術專文
Improvement of Slurry Dispense System
化學研磨液供應系統的改善
隨著半導體產業日新月異的發展,整條製程產線上從化學品供應系統到設備機台都須不斷地強化更新。本篇著重在化學研磨液供應系統的強化。現今化學研磨液供應系統雖趨於成熟,但為了因應新物料的產生、使用者需求、更精準的品質以及強...

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Vol.27 / 技術專文
Chemical Consuming Defense System
化學品用量異常即時偵測系統
半導體製造工廠所使用之化學品,大部分由廠務端中央供應系統自動供應至產線端設備機台。當設備機台發生異常時,容易發生化學品異常大量使用。為了使化學品異常使用防禦系統達到即時且全面性的能力,廠務與自動化整合部門共同開發「...

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Vol.27 / 新象新知
Application of Factory Automation and Intelligentization
廠務自動化與智能化之應用
拜摩爾定律所賜,新科技因成本不斷降低而大幅的躍進。其中自動化技術在這個加速創新的環境下更是站在浪潮頂端,尤其是視覺辨識、視覺導航和微控制技術的結合,讓機器手臂長了眼睛,可以作出更細微的動作。當這項技術容易取得後,一...

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Vol.23 / 技術專文
New Revolution in Slurry Filtration System - Cross Flow Filtration
研磨液過濾系統新革命 - 掃流過濾
在半導體製程中,改善晶圓缺陷為提昇良率重要的一環。以化學機械研磨中的刮傷缺陷之改善為例,一般常見手法為裝置濾心以降低研磨液中微粒子數,但目前過濾方法的效果十分有限。本研究顛覆過去既有的過濾思維,在半導體業首創掃流式...

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金筆獎入圍
Vol.23 / 技術專文
Revelation of FN-DP001 Negative Developer for Facility Supply System
醋酸丁酯負顯影劑廠務供酸系統大解密
因FN-DP001(主成分醋酸丁酯)本身電阻率高,於輸送過程中經過閥件、管路、泵浦、過濾介質等,發生磨擦後極易產生靜電,近期陸續發生化學品供應系統因FN-DP001輸送時,因靜電累積且無導除媒介,而導致擊穿閥件及管...

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Vol.23 / 技術專文
A Study on The Safety Defense of Silane System
矽甲烷供應系統安全防禦之實務探討
矽甲烷具有自燃之化學性質,矽甲烷供應系統各方面之安全防禦顯得格外重要,此物質已被許多供應商及使用者作為技術研究之主題,包含供應架構、鋼瓶結構、工安事件等,本文整合業界技術研究與實際運轉經驗,探討降低矽甲烷外洩之實務...

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點閱 (130)
Vol.23 / 技術專文
Recycling Techniques for Inert Process Gases
惰性製程氣體回收技術
本計畫開發了一套惰性製程氣體回收系統,將半導體製程機台所排放出來含有大量高單價惰性氣體的製程廢氣加以收集,再回收給氣體供應商,以降低原物料成本。此套系統主要由一個低壓緩衝桶槽、一個高壓貯存桶槽、一組加壓幫浦及一個氣...

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點閱 (46)
Vol.23 / 技術專文
Innovation in Slurry In - line H2O2 Detection
研磨液之雙氧水即時量測技術進化
本文主要分析雙氧水滴定儀使用上之問題,針對六向閥和螺桿組進行新概念設計、硬體改造,以及軟體計算進行驗證和優化,包含將滴定儀用作定量的六向閥移除,改由閥件之滯吸力進行定量,並將定量管拉出毛細管,強化管內的附著力,避免...

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點閱 (45)
Vol.23 / 新象新知
Pressure Driven Flow for Netted Piping or Tubing
壓力驅動的網管流模擬
常見流體在單管中的流動,在網管間的流動甚少提及。本研究以壓力、質量流率、比容及焓做為計算變數,並引入狀態方程式以計算非理想氣體的流動。以節點做為質量及能量守恆的條件,不需要有封閉回路或虛擬回路。由於園區氣體在管路中...

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Vol.19 / 技術專文
Feasibility Study of Coiled Tube
無縫盤管應用在氣體配管的可行性評估
目前廠內使用的特殊氣體管路都以四米不銹鋼管路銲接施作方式,為其主要之工法,而其氣體管路總長度都超過百米以上,所以管路銲接的點數非常之多,耗費甚多人力與機具用以進行管路施作與品質控管。而銲接的點數過多就會有品質與安全...

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Vol.18 / 技術專文
A Novel Gas Supply Technique with Stable Output Concentration: Application for the Gas with High Reactivity & Extreme Toxicity
一個新穎的穩定濃度供氣技術:高活性劇毒氣體的應用
乙硼烷(B2H6, Diborane)為一種相當重要的半導體製程氣體,其具有高活性與劇毒性。鋼瓶內的B2H6即使未和其他物質接...

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點閱 (73)
Vol.18 / 技術專文
N16 & N20 Product Yield Improvement Technology:XCDA New Application
16/20奈米提高良率技術XCDA新應用
壓縮乾燥空氣CDA(Compressed Dry Air) 在半導體廠扮演著非常重要的角色,幾乎半導體廠內的每台設備機台都需要使用到CDA。300mm晶圓廠甚至以CDA再經過純化器(Purifier) 過濾大氣中的...

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Vol.18 / 新象新知
The Green Energy with the Highest Potential in the Future - Hydrog
未來最具發展潛力的綠色能源:氫
在飛速發展的科技下,現有石化能源的耗竭及所產生的污染已為人類不得不面對的問題。氫因具有乾淨、永續供應及高能量密度三大特質,使其成為目前最有發展潛力的替代能源。對半導體產業而言,氫氣也是一種相當重要的生產原料,隨著製...

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Vol.14 / 技術專文
Constant Pressure Feedback Control Method for Low Pressure Vapor Gas Distribution System
低蒸氣壓氣體之壓力恆定迴授控制應用
低蒸氣壓氣體供應系統,會因相位變化造成供給壓力不足或不穩定,且以機械式調壓閥調整壓力,調壓閥之機械壓損特性亦會造成供應壓力之不穩定。本文探討此一現象之發生原因,並應用壓力恆定迴授控制改善低蒸氣壓氣體之供應。...

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Vol.10 / 技術專文
On-Site Fluorine Generator - a Low-cost and High-productivity Green Approach
低成本與高生產力的綠色製程 - 現場製氟技術
氟氣(F2) 已在半導體工業中廣泛使用多年,主要應用於製程設備反應腔室(Chamber) 的清潔,由於氟自由基(Radical) 可與沉積的薄膜(Si, SiO2, Si...

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