金筆獎入圍
Vol.23 / 技術專文
Revelation of FN-DP001 Negative Developer for Facility Supply System
醋酸丁酯負顯影劑廠務供酸系統大解密
因FN-DP001(主成分醋酸丁酯)本身電阻率高,於輸送過程中經過閥件、管路、泵浦、過濾介質等,發生磨擦後極易產生靜電,近期陸續發生化學品供應系統因FN-DP001輸送時,因靜電累積且無導除媒介,而導致擊穿閥件及管...

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Vol.23 / 技術專文
A Study on The Safety Defense of Silane System
矽甲烷供應系統安全防禦之實務探討
矽甲烷具有自燃之化學性質,矽甲烷供應系統各方面之安全防禦顯得格外重要,此物質已被許多供應商及使用者作為技術研究之主題,包含供應架構、鋼瓶結構、工安事件等,本文整合業界技術研究與實際運轉經驗,探討降低矽甲烷外洩之實務...

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Vol.23 / 技術專文
Recycling Techniques for Inert Process Gases
惰性製程氣體回收技術
本計畫開發了一套惰性製程氣體回收系統,將半導體製程機台所排放出來含有大量高單價惰性氣體的製程廢氣加以收集,再回收給氣體供應商,以降低原物料成本。此套系統主要由一個低壓緩衝桶槽、一個高壓貯存桶槽、一組加壓幫浦及一個氣...

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Vol.23 / 技術專文
Innovation in Slurry In - line H2O2 Detection
研磨液之雙氧水即時量測技術進化
本文主要分析雙氧水滴定儀使用上之問題,針對六向閥和螺桿組進行新概念設計、硬體改造,以及軟體計算進行驗證和優化,包含將滴定儀用作定量的六向閥移除,改由閥件之滯吸力進行定量,並將定量管拉出毛細管,強化管內的附著力,避免...

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金筆獎入圍
Vol.23 / 技術專文
Treat Wastewater by Wastewater! Treatment of IPA and COD Wastewater by UV/AWD H2O2 Process
廢水處理廢水!以紫外光結合雙氧水 廢水程序處理異丙醇與化學需氧量廢水
本文測試目的為利用高級氧化程序處理廠內含IPA與COD有機廢水,測試中利用廠內含H2O2廢水當為水處理原料並結合UV催化系統所形成OH‧自由基處理廠內含高濃度有機廢水,經由測試結果IPA去除率達99.5%,COD和...

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Vol.23 / 技術專文
Design and Experience Sharing for Acidic Waste Drain (O3) Reclaim to Ultrapure Water system
含臭氧酸鹼廢水回收至純水之設計與運轉分享
含臭氧酸鹼廢水為含臭氧的機台排放廢水,其為擴散及蝕刻機台之臭氧產生器與純水混和用來清洗晶圓上的微量有機物。透過排水水質量測及用途追蹤,發現其水質特性為高氧化性、低導電度,總有機碳濃度可達純水回收標準。然而臭氧氧化性...

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Vol.23 / 技術專文
New Sterilization Technology - Composite Pulse and Plasma Sterilization Technology
生態保育水活化殺菌技術大進化 - 脈衝電漿殺菌技術
為追求環境保護與生態保育之目標,科學園區管理局針對園區廠商制定嚴格之放流水排放標準,用以降低放流水生物急毒性(TUa)。水處理系統近年來新增氫氧化四甲基銨(TMAH)、氨氮(NH3-N)、廢硫酸(W-H2SO4)處...

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Vol.23 / 技術專文
New Blue Ocean of Energy Saving and Waste Reduction - The Principle and Application of MVR
節能減廢新藍海 - 機械式蒸氣再壓縮系統原理概述及應用
廢棄物減量為公司綠色製造主軸之一,2015年致力於廢硫酸去除雙氧水回收再利用,大幅減少廢硫酸委外清運量及處理費用。2016年隨占比調整,30%硫酸銨已躍居最大宗廢棄物,分析30%硫酸銨其中水份佔70%,除增加廢棄物...

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Vol.23 / 技術專文
Withdraw Copper from Waste Copper Sulfate-Application of Annular Cylindrical Electrochemical Cells
液中求銅-製程廢硫酸銅回收裝置應用
硫酸銅(CuSO4)為LSI銅製程之重要原料之一,其製程(ECP)廢液濃度可達20 g/L以上,極具回收價值。現行因放流水質限制(竹科放流水銅檢出量需小於1ppm),本公司高濃度廢硫酸銅均採委...

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Vol.23 / 技術專文
Study on New Type of UV in TOC Removal Capability and Operation Benefit in UPW System
新型紫外線裝置對超純水總有機碳去除效率探討及效益分析
近年來半導體技術不斷演進,元件線寬越來越精密,製程環境中微量污染物將影響產品良率,微量有機物之去除是穩定超純水水質、提升良率之關鍵。一般而言,UPW中有機物質常以總有機碳表示,而UV是UPW系統中去除TOC之關鍵角...

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Vol.23 / 技術專文
Effluent Reclamation - Design and Operation of Advanced Oxidation Process Pilot
工業再生水研發 - 高級氧化法模廠的設計與運轉
再生水模廠(AOP Pilot)設備於2015年8月進廠安裝,11月施工完成後導入晶圓工廠排放廢水進行試車,2016年6月模廠進行168小時連續運轉測試。測試時原水TOC大於設計預估值80 ppm,達120-160...

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Vol.23 / 新象新知
Pressure Driven Flow for Netted Piping or Tubing
壓力驅動的網管流模擬
常見流體在單管中的流動,在網管間的流動甚少提及。本研究以壓力、質量流率、比容及焓做為計算變數,並引入狀態方程式以計算非理想氣體的流動。以節點做為質量及能量守恆的條件,不需要有封閉回路或虛擬回路。由於園區氣體在管路中...

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銀筆獎
Vol.22 / 技術專文
Exhaust Revolution - Innovatory Idea of Volatile Organic Compounds Reduction
排氣革命 - 揮發性有機物減量新思維
本文主要探討半導體廠排氣中揮發性有機物處理設備─沸石濃縮轉輪系統之設計改善,將脫附用載流氣體從入口高濃度廢氣變更為脫附後乾淨空氣,嘗試以新思維降低揮發性有機物排放量,並針對轉輪後確實殘留高沸點VOCs進行實證,供後...

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Vol.22 / 技術專文
New Cleaning Technology of Exhaust Ducting Powder
排氣風管結晶清潔新技術
南科十四廠五期於2013年5月開始將20奈米製程投入量產,伴隨著新製程開發,意味著新型態前所未見的問題也將衍生出來,其中又以濕蝕刻製程中酸鹼氣混和產生的結晶問題最為困擾。往例的清理採取定期清潔方式,不僅造成人力的負...

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Vol.22 / 技術專文
Prevention is Better than Cure - Preventive Maintenance of Local Scrubber a Thorough Study and Breakthrough
預防勝於治療 - 製程尾氣處理設備預防保養追根究底與瓶頸突破
本文主要分析製程尾氣處理設備(以下簡稱Local Scrubber)粉末(以下簡稱Powder)阻塞的原因,並針對廢氣處理系統設備內部引氣管路進行改善,依據製程氣體特性及管路流場,分析製程尾氣經彎曲段或流向改變時,...

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Vol.22 / 技術專文
The Evaluation and Exploration of New Technology on THC Air Pollution Monitoring
空污總碳氫化合物監測新技術評估及探討
目前廠內有機廢氣污染防治設備,均使用Baseline 9000的總碳氫化合物(Total Hydrocarbon, THC)分析儀器量測廢氣的排放濃度。為了提昇競爭力及運轉彈性,本文依據環保署制訂的空污法規,進行T...

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